「basic solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for the production of a collagen peptide comprises the pretreatment of an acid-decalcified wet crude collagen with a strongly basic diluted solution in a process to produce a collagen peptide by the hydrolysis of a crude collagen obtained by the acid decalcification of fish scale or a process to produce a collagen peptide by extracting gelatin from a crude collagen obtained by the acid decalcification of fish scale and hydrolyzing the gelatin.例文帳に追加

魚鱗を酸脱灰して得た粗コラーゲンを加水分解してコラーゲンペプチドを得る製造工程または、魚鱗を酸脱灰して得た粗コラーゲンからゼラチンを抽出した後、該ゼラチンを加水分解してコラーゲンペプチドを得る製造工程において、酸脱灰後の湿潤状態の粗コラーゲンを強塩基希薄溶液にて前処理することを特徴とするコラーゲンペプチドの製造方法。 - 特許庁

This process for producing a catalyst composition for hydrocarbon fluid catalytic cracking is characterized by comprising spray drying an aqueous mixture of (A) a phosphorus-treated alumina hydrate-coated zeolite prepared by treating an alumina hydrate-coated Y-type zeolite with an aqueous phosphate ion-containing solution and (B) an inorganic oxide matrix precursor containing basic aluminum chloride as a binder.例文帳に追加

（Ａ）アルミナ水和物で被覆されたＹ型ゼオライトをリン酸イオン含有水溶液で処理して得られたリン処理アルミナ水和物被覆ゼオライトと、（Ｂ）結合剤として塩基性塩化アルミニウムを含有する無機酸化物マトリックス前駆体、との水性混合物を噴霧乾燥することを特徴とする炭化水素流動接触分解用触媒組成物の製造方法。 - 特許庁

More specifically, the clay-based magnetic adsorbent is manufactured by mixing the clay mineral in an aqueous solution, in which ferrous ion, ferric ion or both of the ferrous ion and the ferric ion are dissolved, in a basic reaction condition, for example, at pH around 10-11 to obtain a magnetic iron oxide-compounded clay compound and then compounding the amphiphilic organic compound with the obtained magnetic iron oxide-compounded clay compound.例文帳に追加

第一鉄イオン水溶液もしくは第二鉄イオン水溶液または両イオンが共存する水溶液に対し、層状結晶構造を有する粘土鉱物を混合して、塩基性反応条件、たとえばｐＨ１０〜１１程度で磁性酸化鉄−粘土化合物を化成させ、次いで疎水性基および親水性基を併有する両親媒性有機化合物を化合させて製造する。 - 特許庁

A substrate is cleaned using a basic aqueous solution having at least one hydroxyl group in one molecule, containing a nonionic surface active agent whose HLB is 12 or larger and 20 or smaller and benzotriazol or its derivative, and the oxidizing/reducing potential of hydrogen electrode criterion at 25°C is about -1,200 mV or higher and 100 mV or lower or about 400 mV or higher and 1,200 mV or lower.例文帳に追加

１分子中に少なくとも１つの水酸基を有し、ＨＬＢが１２以上２０以下の非イオン界面活性剤と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、を含有し、２５℃における水素電極基準の酸化還元電位が略−１２００ｍＶ以上１００ｍＶ以下または略４００ｍＶ以上１２００ｍＶ以下の塩基性水溶液を用いて基板を洗浄する。 - 特許庁

Specifically, the following production method is preferable as the method for producing the compound: The optically active basic amino acid and the β-hydroxyasparatic acid salt are prepared and each formed as the aqueous solution and these solutions are passed through a strongly acidic cation exchange resin and then, an optically active β-hydroxyasparatic acid is eluted with water and the optically active amino acid is recovered by using ammonia water.例文帳に追加

強酸性陽イオン交換樹脂を用いることを特徴として、光学活性β−ヒドロキシアスパラギン酸の光学活性塩基性アミノ酸塩をこの樹脂に吸着させ、最初に水溶出により、光学活性β−ヒドロキシアスパラギン酸 を製造する方法、ついでアンモニア水で溶出することにより、光学活性塩基性アミノ酸を回収する方法を提供する。 - 特許庁

The composition for cured film pattern formation comprises a combination of an alkali development type photocurable-heat curable composition containing no heat curing catalyst, preferably a photocurable-heat curable composition containing an epoxy resin as a heat curable component and an oxetane compound with a developer comprising an aqueous solution of a basic curing catalyst comprising a quaternary ammonium compound which generates a hydroxy anion.例文帳に追加

硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。 - 特許庁

The substrate is washed by using a basic aqueous solution containing a nonionic surfactant having ≥3 and <12 HLB and a nonionic surfactant having ≥12 and ≤20 HLb and each having at least one hydroxy group in one molecule and having nearly ≥-1,200 mV and ≤100 mV or nearly ≥400 mV and ≤1,200 mV oxidation-reduction potential based on hydrogen electrode at 25°C.例文帳に追加

１分子中に少なくとも１つの水酸基を有し、且つＨＬＢが３以上１２未満の非イオン界面活性剤と、ＨＬＢが１２以上２０以下の非イオン界面活性剤とを含有し、２５℃における水素電極基準の酸化還元電位が略−１２００ｍＶ以上１００ｍＶ以下または略４００ｍＶ以上１２００ｍＶ以下の塩基性水溶液を用いて基板を洗浄する。 - 特許庁

The palladium-containing supported catalyst for producing α, β-unsaturated carboxylic acid from the olefin or the α, β-unsaturated aldehyde is produced by using a method which includes the steps of: supporting a palladium raw material on a support; heat-treating the palladium raw material-supported carrier at the temperature of ≥100°C; and bringing the heat-treated support into contact with a basic solution to obtain a catalyst precursor.例文帳に追加

パラジウム原料を担体に担持させる工程と、前記パラジウム原料が担持された前記担体を１００℃以上の温度で熱処理する工程と、前記熱処理された前記担体を塩基性溶液と接触させて、触媒前駆体を得る工程とを有する方法により、オレフィンまたはα，β−不飽和アルデヒドからα，β−不飽和カルボン酸を製造するためのパラジウム含有担持触媒を製造する。 - 特許庁

The method for producing ethynylphthalic acid derivative represented by formula (4) comprises reacting a compound represented by general formula (2) with a compound represented by general formula (3), hydrolyzing the reaction product with a basic aqueous solution and extracting the hydrolysate from the aqueous layer of the reaction liquid with an organic solvent containing oxygen atom.例文帳に追加

一般式（２）で表される化合物と一般式（３）で表される化合物を反応させた後、塩基性水溶液で加水分解し、反応液の水層を、酸素原子を含有する有機溶剤で抽出する下記一般式（４）で表されるエチニルフタル酸誘導体の製造方法、更に、得られた一般式（４）で表される化合物を閉環する下記一般式（１）で表されるエチニルフタル酸無水物誘導体の製造方法。 - 特許庁

An isomer mixture containing ≥75 wt.% 4,4'- dihydroxydiphenylsulfone and ≤25 wt.% 2,4'-dihydroxydiphenylsulfone and trihydroxytriphenyldisulfone in total is dissolved in an aqueous solvent optionally incorporated with a basic substance at 102-140°C, the solution is cooled and the precipitated 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone is separated to obtain the 4,4'- dihydroxydiphenylsulfone in high purity.例文帳に追加

４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを７５重量％以上、ならびに２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンおよびトリヒドロキシトリフェニルジスルホンを合計で２５重量％以下含有する異性体混合物を、必要に応じて塩基性物質を添加した水系溶媒に、温度１０２〜１４０℃で溶解させ、次いで冷却して４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを析出させて分離することを特徴とする高純度４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法。 - 特許庁

High purity catechins can be produced with high yields while reducing filtering resistance by adding a flocculating agent to be selected from aluminum sulfate, sodium aluminate, basic aluminum chloride, calcium hydroxide, and calcium carbonate, and magnesium carbonato to an aqueous extract water or a water-containing alcohol extract solution of the leaves and branches or the dried ones of gambir to effect flocculation filtration.例文帳に追加

ガンビールの葉及び枝またはその乾燥水製エキスの水又は含水アルコール抽出物液を、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、塩基性塩化アルミニウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウムから選ばれる凝集剤を添加して凝集ろ過することにより、ろ過抵抗を低減しつつ、高収率で、かつ高純度のカテキン類を製造することができることを見出し、本発明を完成するにいたった。 - 特許庁

The method for producing a support polymer particle comprises a process for chemically bonding an organic polymer particle having 0.1-15 μm particle diameter and containing a functional group with reactivity to a carboxy group to a carboxy group-containing saccharide to coat the surface of the organic polymer particle with the saccharide and a process for treating the organic polymer particle having the surface coated with the saccharide with a basic solution.例文帳に追加

担体ポリマー粒子の製造方法は、粒径が０．１〜１５μｍで、かつ、カルボキシル基と反応性を有する官能基を有する有機ポリマー粒子と、カルボキシル基を有する糖類とを化学結合させることにより、前記有機ポリマー粒子の表面を前記糖類で被覆する工程と、前記表面が前記糖類で被覆された前記有機ポリマー粒子を塩基性溶液で処理する工程と、を含む。 - 特許庁

This method for purifying the chlorinated hydrocarbon comprises a deacidification step wherein the chlorinated hydrocarbon containing the acidic component is brought into contact with a weak basic anion-exchange resin to adsorption separate the acidic component and a reproducing step wherein the anion-exchange resin on which the acidic component is adsorbed is treated with an alkaline solution, washing and then drying the resin with a gas for drying.例文帳に追加

酸性成分を含む塩素化炭化水素を弱塩基性陰イオン交換樹脂と接触させて酸性成分を吸着分離させる脱酸工程、および酸性成分を吸着した弱塩基性陰イオン交換樹脂をアルカリ性水溶液で処理し、水洗後、乾燥ガスを用いて弱塩基性陰イオン交換樹脂を乾燥させる再生工程とからなる塩素化炭化水素の精製方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This positive photoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant with a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Mixed slurry including an aqueous solution of at least one metal salt of phenylphosphonic acid selected from magnesium phenylphosphonate, lithium phenylphosphonate, sodium phenylphosphonate and potassium phenylphosphonate, at least one selected from zinc oxide and zinc bicarbonate, cyanuric acid and water, is dispersed and reacted, thereby the crystal nucleating agent for a resin containing zinc basic cyanurate, zinc phenylphosphonate and a hydroxide of a metal constituting the metal salt of the phenylphosphonic acid is obtained.例文帳に追加

フェニルホスホン酸マグネシウム、フェニルホスホン酸リチウム、フェニルホスホン酸ナトリウム及びフェニルホスホン酸カリウムから選択される少なくとも一種のフェニルホスホン酸の金属塩の水溶液と、酸化亜鉛及び塩基性炭酸亜鉛から選択される少なくとも一種と、シアヌル酸と、水とを含有する混合スラリーを、分散させて反応させることにより、塩基性シアヌル酸亜鉛、フェニルホスホン酸亜鉛、及び、前記フェニルホスホン酸の金属塩を構成する金属の水酸化物を含有する樹脂用結晶核剤を得る。 - 特許庁