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copper solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 947件
METHOD FOR REFINING COPPER CHLORIDE ETCHING WASTE LIQUID AND REFINED COPPER CHLORIDE SOLUTION例文帳に追加
塩化銅エッチング廃液の精製方法及び精製塩化銅溶液 - 特許庁
FEED MECHANISM FOR COPPER PLATING SOLUTION, COPPER PLATING APPARATUS USING THE SAME, AND COPPER FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
銅めっき液供給機構並びにそれを用いた銅めっき装置および銅皮膜形成方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER-PLATING SOLUTION, AND METHOD FOR MANAGING THE SAME例文帳に追加
無電解銅めっき液およびその管理方法 - 特許庁
ELECTROLYTIC PEELING SOLUTION AND ELECTROLYTIC PEELING METHOD FOR COPPER例文帳に追加
銅の電解剥離液及び電解剥離方法 - 特許庁
COPPER PLATING SOLUTION FOR EMBEDDING FINE WIRING AND COPPER PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
微細配線埋め込み用銅メッキ液及びそれを用いた銅メッキ方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION, METHOD OF CONTROLLING THE SAME, AND ELECTROLESS COPPER PLATING APPARATUS例文帳に追加
無電解銅めっき液、その管理方法、及び無電解銅めっき装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR RECOVERING COPPER FROM COPPER ETCHING WASTE SOLUTION BY ELECTROLYSIS例文帳に追加
銅エッチング廃液から電解により銅を回収する方法及び装置 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR CLEANING COPPER ELECTROLYTIC SOLUTION例文帳に追加
銅電解液の浄液装置及び浄液方法 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING HIGH-PURITY COPPER FROM COPPER-CONTAINING WASTE, AND SOLUTION OR ELECTROLYTIC SOLUTION TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
銅含有廃棄物からの高純度銅の回収方法及びそれに用いる溶解液又は電解液 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION, ELECTROLESS COPPER PLATING METHOD AND PRODUCTION METHOD FOR WIRING BOARD例文帳に追加
無電解銅めっき液、無電解銅めっき方法、配線板の製造方法 - 特許庁
COPPER PLATING SOLUTION, AND METHOD OF FORMING COPPER MULTILAYER WIRING STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加
銅メッキ溶液及び、それを用いた銅多層配線構造体の形成方法 - 特許庁
CUPRIC OXIDE FINE POWDER AND COPPER ION FEEDING METHOD OF COPPER SULFATE AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加
酸化第二銅微粉末および硫酸銅水溶液の銅イオン供給方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PREPARING PARTICULARLY HIGH PURITY COPPER SULFATE AQUEOUS SOLUTION OR COPPER SULFATE AQUEOUS SOLUTION CONTAINING IRON SULFATE, AND PARTICULARLY HIGH PURITY COPPER SULFATE AQUEOUS SOLUTION OR COPPER SULFATE AQUEOUS SOLUTION CONTAINING IRON SULFATE例文帳に追加
特に高純度な硫酸銅水溶液又は硫酸鉄を含む硫酸銅水溶液の製造方法及び製造装置、並びに特に高純度な硫酸銅水溶液又は硫酸鉄を含む硫酸銅水溶液 - 特許庁
The method of inhibiting polymerization of (meth)acrylic acid or the like using a copper dialkyldithiocarbamate solution is characterized in that the content of copper sulfate in the copper dialkyldithiocarbamate solution being supplied is kept to a content not greater than 100 mass ppm.例文帳に追加
ジアルキルジチオカルバミン酸銅塩溶液中の硫酸銅含量を100ppm(質量)以下にして供給する。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING COPPER ION FROM AQUEOUS SOLUTION OF NICKEL CHLORIDE例文帳に追加
塩化ニッケル水溶液からの銅イオンの除去方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SHEET-FORM ELECTROLYTIC COPPER FROM HALIDE SOLUTION例文帳に追加
ハロゲン系溶液からの板状電気銅の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING COPPER ION SOLUTION AND PRODUCED WATER例文帳に追加
銅イオン溶液生成法、生成装置および生成水 - 特許庁
The amount of dissolved oxygen in the fluorine compound-containing resist stripping solution is ≤3 ppm, accordingly the stripping solution can strip a resist from a substrate bearing copper without corroding the copper.例文帳に追加
溶存酸素量が3ppm以下である、銅配線基板向けフッ素化合物含有レジスト剥離液。 - 特許庁
CUPRIC ELECTROLYTE SOLUTION, AND METHOD FOR FORMING ELECTRODEPOSITED COPPER FILM USING THE SOLUTION例文帳に追加
銅電解液及びその銅電解液を用いた電析銅皮膜の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING RAW MATERIAL FOR COPPER ELECTROLYTIC SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING COPPER USING THE SAME例文帳に追加
銅電解液原料の製造方法及びこれを用いた銅の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR RECOVERING COPPER-CONTAINING SOLID MATTER FROM COPPER-CONTAINING ACIDIC WASTE SOLUTION例文帳に追加
銅含有酸性廃液からの銅含有固形物の回収方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR TREATING COPPER CHLORIDE-CONTAINING WASTE ETCHING SOLUTION, TREATING AGENT AND METHOD FOR RECOVERING COPPER例文帳に追加
塩化銅含有エッチング廃液の処理方法、処理剤及び銅の回収方法 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING COPPER OXIDE FROM COPPER CHLORIDE- CONTAINING WASTE ETCHING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
塩化銅含有エッチング廃液から酸化銅を回収する方法及びその装置 - 特許庁
To provide a method for cleaning a copper-dissolving solution, by which the content of impurities, such as arsenic being an inhibiting element of copper electrolysis, contained in the copper-dissolving solution can be reduced and a copper electrolyte solution used in a method for producing copper using a crude copper powder can be efficiently produced, and to provide a method for producing copper.例文帳に追加
銅溶解液中から銅電解の阻害元素である砒素等の不純物の含有量を低減でき、粗銅粉を用いた銅の製造方法に使用する銅電解液を効率よく製造することができる銅溶解液の浄液方法及び銅の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for recovering copper from iron chloride etching waste liquid by which copper is recovered as copper usable for a copper plating solution.例文帳に追加
銅めっき液に使用可能な銅として回収することができる塩化鉄エッチング廃液からの銅の回収方法を提供する。 - 特許庁
To provide a stripping solution capable of removing copper oxide present on a copper surface without corroding metal copper.例文帳に追加
銅金属を腐食することなく、銅表面に存在する酸化銅を除去できる剥離液を提供する。 - 特許庁
This electroless copper-plating method includes using the electroless copper-plating solution which contains 1-15 ppm chlorine ions.例文帳に追加
塩素イオンを1〜15ppm含む無電解銅めっき液を用いてめっきを行う。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING COPPER IONS FROM COPPER-CONTAINING NICKEL CHLORIDE SOLUTION, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROLYTIC NICKEL例文帳に追加
含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER-PLATING SOLUTION, ELECTROLESS COPPER-PLATING METHOD AND METHOD FOR FORMING EMBEDDED WIRING例文帳に追加
無電解銅めっき液、無電解銅めっき方法、及び埋め込み配線の形成方法 - 特許庁
SURFACE TREATMENT SOLUTION AND SURFACE TREATMENT METHOD OF COPPER AND COPPER ALLOY FOR PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加
プリント回路基板用銅及び銅合金の表面処理液と表面処理方法 - 特許庁
ETCHING SOLUTION FOR STRUCTURE OBSERVATION OF COPPER OR COPPER ALLOY, ETCHING METHOD AND STRUCTURE OBSERVATION METHOD例文帳に追加
銅または銅合金の組織観察用エッチング液、エッチング方法および組織観察方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CUPRIC OXIDE FROM WASTE COPPER ETCHING SOLUTION例文帳に追加
銅エッチング廃液から酸化第2銅を製造する方法 - 特許庁
antifungal agent consisting of a solution of copper sulphate and quicklime 例文帳に追加
硫酸銅と生石灰の溶液から成る抗真菌薬 - 日本語WordNet
METHOD FOR REMOVING SULFATE ION, METHOD FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION, APPARATUS FOR REMOVING SULFATE ION AND APPARATUS FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION例文帳に追加
硫酸イオン除去方法、銅/コバルトメッキ液再生方法、硫酸イオン除去装置及び銅/コバルトメッキ液再生装置 - 特許庁
To provide a method for purifying a solution containing univalent copper for use in a process for recovering metal copper from the solution containing the univalent copper by an electrolytic operation.例文帳に追加
1価銅を含有する溶液から電解操作により金属銅を回収する方法に使用する1価銅を含有する溶液の精製法の提供。 - 特許庁
To provide a method for removing copper ions from a copper-containing nickel chloride solution, which can remove copper contained in the copper-containing nickel chloride solution with high efficiency, and to provide a method for producing an electrolytic nickel.例文帳に追加
含銅塩化ニッケル溶液に含まれる銅を効率的に除去することができる含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The agent for surface treating copper or copper alloy is comprised of an aqueous solution containing a copper (II) compound of 0.005-15 wt.%.例文帳に追加
銅(II)化合物を0.005〜15重量%含有する水溶液からなる銅または銅合金の表面処理剤。 - 特許庁
In the method of removing the copper in the aqueous solution of lithium bromide, an aqueous solution of hydrogen peroxide is added to an aqueous solution containing lithium bromide as a main component and containing copper, and copper-containing insoluble substances generated by the addition of the aqueous solution of hydrogen peroxide are removed from the aqueous solution containing copper.例文帳に追加
臭化リチウムを主成分とし銅分を含有する水溶液に過酸化水素水溶液を添加し、該水溶液中から過酸化水素水溶液の添加により生成された銅分を含む不溶性物質を除去することを特徴とする臭化リチウム水溶液中の銅分除去方法。 - 特許庁
The method for producing copper comprises: a copper powder dissolution step of dissolving the crude copper powder in a liquid containing an oxidizing agent and sulfuric acid to prepare a copper-dissolved solution; a filtration step of filtering the copper-dissolved solution to obtain a filtrate and a primary residue containing the precious metal; and an electrolysis step of using the filtrate as a copper electrolytic solution and electrolyzing the copper electrolytic solution to produce electrolytic copper.例文帳に追加
粗銅粉を、酸化剤及び硫酸を含む液に溶解させて銅溶解液を作製する銅粉溶解工程と、前記銅溶解液を濾過し、濾液と貴金属を含む一次残渣を得る濾過工程と、前記濾液を銅電解液とし、該銅電解液を電解して電気銅を製造する電解工程と、を含むことを特徴とする銅の製造方法である。 - 特許庁
METHOD FOR SELECTIVELY RECOVERING COPPER ION FROM ALKALINE SOLUTION例文帳に追加
アルカリ性溶液から銅イオンを選択的に回収する方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE COPPER ALUMINUM OXIDE BY MEANS OF SOLUTION METHOD例文帳に追加
導電性銅アルミ酸化物の溶液法による製造方法 - 特許庁
COPPER SULFATE PLATING SOLUTION AND ELECTROLYTIC PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
硫酸銅めっき液及びそれを用いた電解めっき方法 - 特許庁
Thus, copper can be separated from the aqueous solution of iron chloride.例文帳に追加
よって、銅を塩化鉄水溶液から分離することができる。 - 特許庁
ELECTROLYTIC COPPER PLATING SOLUTION AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME例文帳に追加
電解銅めっき液および電解銅めっき液の管理方法 - 特許庁
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