「deflect」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Surprisingly the inventor found that it is well possible to deflect a beam of charged particles 106a quite far from an optical axis 104 showing respectable energy dispersion at an energy selecting slit 108 without introducing coma or astigmatism that cannot be corrected, provided that some of the electrodes (114, 116, 120, 122) are formed as 120°/60°/120°/60°.例文帳に追加

驚くべきことに、本願発明者は、電極の一部（114、116、120、122）が120°/60°/120°/60°で構成されているとすると、エネルギー選択スリット108にて相当なエネルギー分散を示す、光軸104からかなり離れた荷電粒子ビーム106aを、補正不可能なコマ収差又は非点収差を導入することなく、偏向させることが十分可能であることを発見した。 - 特許庁

An antenna device comprises a plurality of radio waves focusing and deflecting part which focus arrived radio waves 11 to increase energy density, and deflect the arrived radio waves 11; and plane antennas 18, 20 which receive the radio waves 11 focused by the radio waves focusing and deflecting part, or emit the radio waves 11 toward the radio waves focusing and deflecting part.例文帳に追加

アンテナ装置は、到来した電波１１を集束させてエネルギー密度を増大させ、到来した電波１１を偏向する複数の電波集束・偏向部と、これらの電波集束・偏向部で集束された電波１１を受信する、あるいは、前記電波集束・偏向部に向けて電波１１を放射する平面アンテナ１８、２０を備える。 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

To provide an optical scanning apparatus in which an influence of a polygon scanner of a heating element in the apparatus is reduced and an abrupt change of a positional (color) deviation can be prevented in the apparatus comprising a polygon scanner for scanning to deflect a laser beam, an optical element disposed near the scanner, and an optical housing for supporting the scanner and the element, and to provide an image forming device.例文帳に追加

レーザー光を偏向走査するポリゴンスキャナーと、ポリゴンスキャナー近傍に配置された光学素子と、これらポリゴンスキャナー及び光学素子を支持する光学ハウジングとを備えた光走査装置において、光走査装置内の発熱要素であるポリゴンスキャナーによる影響を低減し位置（色）ずれの急激な変化を防止することのできる光走査装置及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The laser-light-source device includes a laser light source for emitting a laser light, a deflecting element disposed on the optical axis of the laser light to deflect the travelling direction of the laser light by changing its refractive force, a rod lens for making the emitted light from the deflecting element uniform, and a projecting lens for projecting the outputted light from the rod lens onto a projecting plane.例文帳に追加

レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光の光軸上に配設され屈折力を変えることにより前記レーザ光の進行方向を偏向させる偏向素子と、前記偏向素子からの出射光を一様にするロッドレンズと、前記ロッドレンズの出力光を投射面に投射するための投射レンズと、から成るレーザ光源装置。 - 特許庁

The light deflecting element is equipped with a slab waveguide 12 made of a material having electrooptic effect and prism electrodes 14A to 14H which are arranged nearby both ends of the slab waveguide 12 to deflect light passing through channels.例文帳に追加

電気光学効果を有する材料からなるスラブ導波路１２、スラブ導波路１２の両端近傍に配設されてチャンネルを通過する光を偏向させるプリズム電極１４Ａ〜１４Ｈを備え、プリズム電極１４Ａ〜１４Ｈのサイズはチャンネル１３Ａ〜１３Ｈの中央部に位置するチャンネルに対応するプリズム電極から端部に位置するチャンネルに対応するプリズム電極までサイズが順次大型化され且つ中央部に位置するチャンネルから端部に位置するチャンネルまでチャンネル間ピッチが順次大きくされてなることが基本になっている。 - 特許庁

In one embodiment, the catheter has an elongated catheter body, a catheter tip section with first and second diametrically-opposed off-axis lumens, and a control handle which includes a steering assembly having a lever structure carrying a pair of pulleys for simultaneously drawing and releasing corresponding puller wires to deflect the tip section of the catheter.例文帳に追加

一例の実施形態において、上記カテーテルは一定の細長いカテーテル本体部分、第１および第２の直径方向に対向している軸ずれ内孔部を有する一定のカテーテル先端部分、および一定の制御ハンドルを備えており、この制御ハンドルは当該カテーテルの先端部分を偏向するために対応している各引張ワイヤを同時に引き動かして放出するための一対のプーリーを担持している一定のレバー構造を有する一定の操縦組立体を含む。 - 特許庁

The system has a print head device 102 having a plurality of ink jet nozzles, a drying station 104 located downstream of the print head device 102 and configured so as to generate and emit air in the vicinity of a printing medium, a deflector 402 attached between the print head device and the drying station and configured so as to deflect a certain quantity of air generated by the drying station.例文帳に追加

本発明のシステムは、複数のインク噴出ノズルを有するプリントヘッド装置１０２と、該プリントヘッド装置１０２の下流にあり、プリント媒体の近傍で空気を生成して放出するように構成された乾燥ステーション１０４と、前記プリントヘッド装置と前記乾燥ステーションとの間に取付けられ、前記乾燥ステーションが生成する空気のうちのある量をそらすよう構成されているデフレクタ４０２とを備えている。 - 特許庁

The substrate coated with a non-stick coating which resists abrasion force includes an undercoat and an overcoat, each containing fluoropolymer resin, the undercoat also containing ceramic particles projecting from the undercoat, the overcoat telegraphing the particles projecting from the undercoat through the thickness of the overcoat to deflect the abrasion force away from the coating.例文帳に追加

摩耗力に抵抗する非粘着性被膜により被覆された基板であって、その被膜は、それぞれフルオロポリマー樹脂を含有するアンダーコートとオーバーコートとを含み、そのアンダーコートは、そのアンダーコートから出っ張るセラミック粒子をも含有し、そのオーバーコートは、そのアンダーコートから出っ張るその粒子をそのオーバーコートの厚さを介して伝達して、前記被膜から前記摩耗力をそらすことを特徴とする被覆された基板。 - 特許庁