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diffraction curveの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 28



例文

X-RAY DIFFRACTION DEVICE AND MEASURING METHOD OF X-RAY LOCKING CURVE例文帳に追加

X線回折装置及びX線ロッキングカーブの測定方法 - 特許庁

A curve 22 having a fixed diffraction angle passing the center position is determined relative to each diffraction spot 34.例文帳に追加

回折斑点34のそれぞれについて,その中心位置を通過する回折角一定の曲線22を求める。 - 特許庁

Since the diffraction pattern of the diffraction element 2 has the shape of a sin curve, the spot of the sub beam is larger than that of the main beam.例文帳に追加

回折素子2の回折パターンはsin曲線の形状をなしているため、副ビームのスポットは主ビームのスポットよりも大きくなる。 - 特許庁

In the quantitative analyzing method of asbestos, the diffraction line intensity of asbestos contained in a sample S to be inspected is calculated and the weight of asbestos is calculated from the diffraction line intensity on the basis of a calibration curve.例文帳に追加

被検試料Sに含まれるアスベストの回折線強度を求め、検量線に基づいてその回折線強度からアスベストの重量を求める定量分析方法である。 - 特許庁

例文

The incident surface 410 of the lens 400 is a diffraction lens surface and constitutes Fresnel lens type diffraction lens structure having action to compensate transverse chromatic aberration at a diffraction lens part on a rotationally symmetric aspherical surface being a base curve.例文帳に追加

第1レンズ400の入射面410は回折レンズ面であり、ベースカーブとなる回転対称な非球面上に屈折レンズ部分での倍率色収差を補正する作用を有するフレネルレンズ状の回折レンズ構造が構成されている。 - 特許庁


例文

To smoothly derive an S curve with respect to a proper focus even when a plurality of focuses are generated in the vicinity of a photodetector by the diffraction operation of a diffraction type objective lens.例文帳に追加

回折型対物レンズの回折作用によって光検出器近傍に複数の焦点が生じる場合にも、適正焦点に対するSカーブを円滑に導き出すことができるようにする。 - 特許庁

When a theoretical diffraction X-ray intensity distribution is calculated based on a diffraction surface normal distribution function P by using overlapped orientation density distribution functions to which periodicity is given as the diffraction surface normal distribution function P(ϕ), its rocking curve reflects excellently an actual diffraction phenomenon.例文帳に追加

回折面法線分布関数P(φ)として,配向密度分布関数を周期化し,かつ,重ね合わせたものを用いることにより,この回折面法線密度分布関数Pに基づいて理論的な回折X線強度分布を計算すると,そのロッキングカーブは,現実の回折現象を良く反映したものになる。 - 特許庁

As to thin film crystal that is a measuring object, a ratio is found between diffraction intensities at twoto examine to which it conforms of the calibration curve as to the O polar surface and the calibration curve as to the Zn polar surface.例文帳に追加

測定対象の薄膜結晶に対して、2つの2θにおける回折強度の比を求め、それがO極性面に対する検量線とZn極性面に対する検量線のいずれかの上に乗るかを調べる。 - 特許庁

In the mean time, theoretical diffraction X ray intensity is calculated based on the orientation density distribution function ρ, and the characteristic parameter of the orientation density distribution function is obtained so that the theoretical rocking curve approaches the measurement rocking curve most.例文帳に追加

一方,配向密度分布関数ρに基づいて理論的な回折X線強度を計算し,理論ロッキングカーブが測定ロッキングカーブに最も近づくように配向密度分布関数の特性パラメータを求める。 - 特許庁

例文

If the ratio between the diffraction intensities is on the calibration curve as to the Zn polar surface, the surface of the film crystal that is the measuring object is determined to be a Zn polar surface.例文帳に追加

回折強度の比がZn極性面に対する検量線上にあれば、測定対象の薄膜結晶の表面はZn極性面であると判定する。 - 特許庁

例文

If the ratio between the diffraction intensities is on the calibration curve as to the O polar surface, the surface of the film crystal that is the measuring object is determined to be an O polar surface.例文帳に追加

回折強度の比がO極性面に対する検量線上にあれば、測定対象の薄膜結晶の表面はO極性面であると判定する。 - 特許庁

A carbon material for the electric double-layer capacitor electrode uses oil raw coke as a raw material, such that a graphite-like crystal structure parameter (Ip/Io) at a diffraction peak of a (002) surface of an X-ray diffraction intensity curve is >0.3 and ≤0.8.例文帳に追加

X線回折強度曲線の(002)面の回折ピークにおける黒鉛的結晶構造パラメーター(Ip/Io)が0.3<Ip/Io≦0.8である石油生コークスを原料とする電気二重層キャパシタ電極用炭素材。 - 特許庁

The cap layer 16 is of a polycrystalline structure in which a half width of an X-ray diffraction rocking curve on a (004) plane is within an angle range of 4,000-12,000 seconds.例文帳に追加

キャップ層16は、(004)面におけるX線回折ロッキングカーブの半値幅が4000秒〜12000秒の角度範囲内に含まれる多結晶構造とする。 - 特許庁

The incident surface 410 of the lens 400 is a diffraction lens surface, and Fresnel lens state diffraction lens structure 412 having action to compensate transverse chromatic aberration at a refraction lens part is constituted on a rotationally symmetric aspherical surface being a base curve.例文帳に追加

第1fθレンズ400の入射面410は回折レンズ面であり、ベースカーブとなる回転対称な非球面上に屈折レンズ部分での倍率色収差を補正する作用を有するフレネルレンズ状の回折レンズ構造412が構成されている。 - 特許庁

The skirt portion 13 which is the sliding surface of a piston 10 is coated with a highly oriented specific graphite 15 (exhibiting a remarkable low frictional property) in which the full width at half maximum is equal to or less thanin the rocking curve at a (002) diffraction position of graphite-2H by X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

ピストン10の摺動面であるスカート部13が、X線回折測定によるグラファイト−2H 002回折位置でのロッキングカーブにおける半値幅が7°以下の高配向性の特定グラファイト(著しい低摩擦特性を示す)15で被覆されている。 - 特許庁

A horizontal intensity distribution curve from an asymmetric diffraction plane of a crystalline sample in a reciprocal space is obtained by irradiating the surface of the crystalline sample with X-rays, and thus dislocation of the crystalline sample is evaluated based on the half-width of the intensity distribution curve.例文帳に追加

結晶試料の表面にX線を照射することにより、逆格子空間における結晶試料の非対称回折面からの水平方向の強度分布曲線を作成し、該強度分布曲線の半値幅により結晶試料の転位を評価する。 - 特許庁

The piezoelectric thin film 16 is an aluminum nitride thin film with a thickness of 0.5-3.0 μm which shows c-axis orienting and in which locking curve half value width (FWHM) of (0002) diffraction peak is at most 3.0°.例文帳に追加

圧電体薄膜16は、c軸配向を示す厚さ0.5〜3.0μmの窒化アルミニウム薄膜であって、(0002)回折ピークのロッキング・カーブ半値幅(FWHM)が3.0゜以下である。 - 特許庁

The first lens 22 is manufactured by the injection molding of plastic and the second face of the lens has a shape that the diffraction step structure is added on a base curve of a convex aspherical face of rotational symmetry.例文帳に追加

第1レンズ22は、プラスチックの射出形成により製造され、その第2面は、凸の回転対称非球面状のベースカーブ上に、回折段差構造が付加された形状となっている。 - 特許庁

The piezoelectric layer 5B in the peripheral area has a rocking curve half-value width of X-ray diffraction, which is less than or equal to two degrees, and a surface roughness indicated by RMS fluctuations of the top surface height of the base, which is less than or equal to 2 nm.例文帳に追加

周辺領域の圧電体層5Bは、X線回折のロッキングカーブ半値幅が2.0度以下で、下地の上面の高さのRMS変動で表される表面粗さが2nm以下である。 - 特許庁

To measure the thickness of a thin film by an X-ray diffraction method by performing the parameter fitting of a theoretical rocking curve of diffracted X-ray intensity considering orientation to a measured rocking curve, even when film thickness measurement by an X-ray reflectivity method can not be performed because of a reason as existence of a contiguous layer having an approximate density or the like.例文帳に追加

密度が近い隣接層が存在するなどの理由でX線反射率法による膜厚測定ができない場合でも,配向性を考慮した回折X線強度の理論ロッキングカーブを測定ロッキングカーブにパラメータフィッティングすることで,X線回折法によって薄膜の膜厚を測定可能にする。 - 特許庁

The obtained barium sulfate powder contains10 wt.ppm sodium, has pH 7.0-9.0, namely, is almost neutral to weakly alkaline, and has the narrow-width particle size distribution like a particle size distribution curve, which is measured by a laser diffraction method and shown in Fig.1, and excellent dispersibility.例文帳に追加

該粉末中のナトリウムは10重量ppm以下、粉体pHが7.0〜9.0のほぼ中性から弱アルカリ性であって、レーザー回折法粒度分布曲線は図1に示す如くであり、粒度分布の幅が狭く分散性に優れる。 - 特許庁

Accordingly, for example, the intensity ratio between each measurement data having the equal distance from the X-ray diffraction peak is calculated, and an asymmetric curve plotted from the calculation result is used, to thereby determine accurately the displacement of the crystal atom.例文帳に追加

そこで、例えばX線回折ピークからの距離が等しい測定データ同士の強度比を計算し、それらの計算結果から描画される非対称性曲線を用いることにより、結晶原子の変位量を精度よく求めることができる。 - 特許庁

The separation angle of the mirror 51 is 10° and the element 40 is arranged to be inclined by 7.5° by setting a state where incident light is aligned with the normal of a diffraction surface as reference in order to compensate the curve of the beam line on the plotting surface by the separation angle.例文帳に追加

第5の曲面ミラー51の分離角度は10゜であり、この分離角度による描画面上でのビーム列の湾曲を打ち消すため、回折分岐素子40は入射光と回折面の法線とが一致する状態を基準に7.5゜傾いて配置されている。 - 特許庁

The diffraction grating is a chirped grating which continuously varies in the cycle of its reflective index along the optical axis of the optical fiber (in light waveguide direction) and the amplitude of the refractive index of this chirped grating varies in such a manner as drawing an envelope (apodization curve).例文帳に追加

回折格子は、屈折率の周期が光ファイバの光軸方向(光導波方向)に沿って連続的に変化するチャープトグレーティングであり、このチャープトグレーティングの屈折率の振幅は、光導波方向に沿って包絡線(アポタイズ曲線)を描くように変化している。 - 特許庁

A base film is provided on a substrate and a perpendicular magnetic film having an easily-magnetized axis oriented principally perpendicularly to the substrate is formed on the base layer and a locking curve 21 of the perpendicular magnetic film obtained by using a θ-2θ scanning method in the X-ray diffraction method has plural maximum points 22 and 23.例文帳に追加

基板上に下地膜が設けられ、その上に磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜が設けられ、この垂直磁性膜は、X線回折法によるθ−2θスキャン法を用いて得たロッキングカーブ21が複数の極大点22、23を有するものである。 - 特許庁

When the work 10 under transfer is subjected to image input by transmission lighting and a target 12 in the work is measured from the image, a measurement value is corrected by the difference between actual dimensions that are obtained in advance and the measurement value and a calibration curve 36 in the brightness of the background, thus reducing influence to the measurement value by the diffraction of light.例文帳に追加

搬送中のワーク10を透過照明で画像入力し、該画像からワーク内の対象12の計測を行なう際に、予め求めておいて実寸と計測値の差と背景の明るさの検量線36で計測値を補正して、光の回折による計測値への影響を軽減する。 - 特許庁

The GOI evaluation method of the silicon wafer is provided, which determines quality of electric characteristics of a gate oxidation film by at least forming the gate oxide film on the silicon wafer, by performing X-ray diffraction measurement to silicon wafer surface layer part directly under the formed gate oxide film, and whether or not half width of a rocking curve to be obtained by measurement is 0.00110° or less.例文帳に追加

少なくとも、シリコンウェーハ上にゲート酸化膜を形成し、形成されたゲート酸化膜直下のシリコンウェーハ表層部をX線回折測定して、測定により得られるロッキングカーブの半値幅が0.00110°以下であるか否かにより、ゲート酸化膜の電気的特性の良否判定をするシリコンウェーハのGOI評価方法を提供する。 - 特許庁

例文

The antiferromagnetic film 3 has such a distinctive feature that its (111)-face is grown in parallel with the surface of the film and the half-value width of the locking curve at the (111)-peak by X-ray diffraction is ≤10.0°.例文帳に追加

R−Mn(RはIr、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、ReおよびCuから選ばれる少なくとも 1種の元素)を含み、かつ面心立方晶構造を有する反強磁性合金からなる反強磁性膜3と、これと交換結合された強磁性膜4とを具備する交換結合膜2であって、反強磁性膜3はその (111)面が膜面に平行に成長しており、かつX線回折による (111)ピークのロッキングカーブ半値幅が10.0度以下である。 - 特許庁




  
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