| 例文 |
distribution patternsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 312件
The linear patterns of two directions of a chart 24 are projected to a sensor 5 through the lens system F, and a coma flare quantity is calculated from the illuminance distribution of a chart image in an X-direction and a Y-direction and is compared with a reference data previously measured, so that a driving amount at this time, namely the eccentric correcting amount of the lens F1 is obtained.例文帳に追加
このときの駆動量すなわちレンズＦ_1 の偏心補正量は、チャート２４の２方向の直線パターンをレンズ系Ｆを介してセンサ５に投影し、チャート像のＸ方向およびＹ方向の照度分布からコマフレア量を算出し、予め計測された参照データと比較することで求める。 - 特許庁
The illumination optical system which transfers the patterns of the mask to an object to be transferred by the exposure light reflected by an elliptic mirror emitted from the illumination light source is so constituted as to reflect luminous intensity distribution from a horizontal line passing the center of the illumination light source up to an angle greater than -30° on a lower side by the elliptic mirror.例文帳に追加
照明光源から発光されて楕円鏡で反射された露光光によってマスクのパターンを被転写物体に転写する露光装置の照明光学系において、照明光源の中心を通る水平線から下側−３０度より大きい角度まで、配光を楕円鏡により反射させるように構成している。 - 特許庁
In the driving school, only teaching conditions are extracted as data out of the teaching information of various huge patterns on an acquisition target driving license, a teaching stage and a student and these data are transmitted to an instructor while using a visible medium (document) called car distribution ticket so that efficient and exact teaching can be supported.例文帳に追加
自動車教習所において、取得目的運転資格、教習段階、教習生に関する異なる膨大なパターンの教習情報から、教習状況のみをデータとして取出し、それを指導員に配車券と呼ばれる可視媒体（以下書類）を用いて伝達する事により、効率的で正確な指導を支援する事が出来る。 - 特許庁
This digital lighting system has an information display device 8 for displaying information P using contrast between on-reflected light L4 and off-reflected light L5 from a reflection type digital light deflector 2 by controlling the deflector 2 in predetermined light distribution patterns P5 and P7 for illuminating RD such as the road surface, via a light irradiation device 3.例文帳に追加
反射型デジタル光偏向装置２を制御してこの反射型デジタル光偏向装置２からのＯＮの反射光Ｌ４とＯＦＦの反射光Ｌ５とのコントラストを利用した情報Ｐを、光照射装置３を介して路面などＲＤを照明する所定の配光パターンＰ５、Ｐ７内に表示する情報表示装置８を備える。 - 特許庁
Also, when an operation to move the marks cf-k on the feature distribution screen is performed, the CPU 11 replaces the same kind of feature data as in a feature input field 33-j out of four kinds of the feature data C-k of the phrase patterns pp-k corresponding to the marks cf-k by new feature data C-k corresponding to the positions of the destinations.例文帳に追加
また、ＣＰＵ１１は、この特徴分布画面におけるマークｃｆ−ｋを移動させる操作が行われると、そのマークｃｆ−ｋと対応するフレーズパターンｐｐ−ｋの４種の特徴データＣ−ｋのうち、特徴入力欄３３−ｊのものと同じ種類のものを、その移動先の位置に応じた新たな特徴データＣ−ｋに置き換える。 - 特許庁
In an electronic mail distribution system distributing electronic mail through a mail server 11, a virus pattern database 11A that records virus pattern data denoting computer virus patterns, and a virus check program that detects presence/absence of virus from electronic mail going to be distributed on the basis of the virus pattern data recorded in the virus pattern database are included.例文帳に追加
メールサーバ１１を介して電子メールを配信する電子メール配信システムにおいて、メールサーバ１１が、コンピュータウィルスのパターンを示すウィルスパターン・データを記録するウィルスパターン・データベース１１Ａと、配信を行う電子メールに対してウィルスパターン・データベースに記録されているウィルスパターン・データに基づいてウィルスの有無の検出を行うウィルスチェック・プログラムとを備えている。 - 特許庁
Processes are performed: a process of measuring the film thickness distribution of a metal film 11 formed on a piezoelectric substrate 2; and an electrode-forming process for forming a mask layer 13 having forming patterns of interdigital transducers 3 on the metal film 11, etching a portion where the metal film 11 and the substrate 2 are not covered with the mask layer 13, thereby forming the interdigital transducers 3.例文帳に追加
圧電性基板２上に成膜された金属膜１１の膜厚分布を測定する工程と、櫛形電極３の形状パターンを有するマスク層１３を金属膜１１上に形成し、金属膜１１及び圧電性基板２のうちマスク層１３に覆われていない部分をエッチングすることにより櫛形電極３を形成する電極形成工程とを行う。 - 特許庁
To provide an optical recording device capable of recording a hologram with a high SNR by flattening the intensity distribution of light irradiated to every pixel of a spatial light modulator, uniformly irradiating patterns displayed on the spatial light modulator to improve the SNR of a generated signal light when the hologram is recorded by a colinear system, and to provide an optical recording and reproducing device.例文帳に追加
コリニア方式でホログラムを記録する場合に、空間光変調器の全画素に照射する光の光強度分布を平坦化し、空間光変調器に表示されるパターンを均一に照射して、生成される信号光のＳＮＲを向上させ、高いＳＮＲでホログラムを記録することができる、光記録装置及び光記録再生装置を提供する。 - 特許庁
The distribution sensor comprises a piezoelectric element assembly 1 having piezoelectric elements 2 having electrode layers 8 mounted on piezoelectric crystal thin films formed on both surfaces of a flexible base plate and aligned in a matrix state in one sheet-like state, and insulating films 5 laminating both the surfaces of the assembly 1 and terminals 9 connected to the layers 8 formed in predetermined patterns on the films 5.例文帳に追加
可撓性基板の両面に圧電結晶薄膜が形成され、この圧電結晶薄膜に電極層８が取り付けられた圧電素子２を、マトリックス状に並べて一枚のシート状に形成した圧電素子集合体１と、この圧電素子集合体１の両面をラミネートする絶縁フィルム５とからなっており、この絶縁フィルム５には、上記電極層８に接続される端子９が所要のパターンに形成されている。 - 特許庁
An exposure apparatus includes a light source to emit light, a photomask in a path of the light between the light source and the semiconductor substrate and having patterns to be transcribed onto the semiconductor substrate, and a spatial light modulator (SLM) arranged in one of an image correction region of the photomask between the light source and the photomask and adapted to adjust a distribution of intensity of the light.例文帳に追加
光を放射する光源と、前記光源から半導体基板へとつながる前記光の経路に配置され、前記半導体基板に転写するパターンを有するフォトマスクと、前記光源と前記フォトマスクとの間で前記フォトマスクのイメージ補正領域のうちの一つに配置され、前記光の強度分布を調節するための空間光学モジュレータ（Ｓｐａｔｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ：ＳＬＭ）とを備える。 - 特許庁
The circuit 156 calculates the logarithmic likelihood Iγ of all possible I/O patterns and performs a specified operation on each logarithmic likelihood Iγ every predetermined time such that one of a plurality of calculated logarithmic likelihoods Iγ corresponding to the highest probability γ matches a logarithmic likelihood corresponding to a maximum possible probability and then performs normalization in order to correct shift in the distribution of the values of logarithmic likelihood Iγ.例文帳に追加
Ｉγ算出回路１５６は、あり得る全ての入出力パターン分の対数尤度Ｉγを算出し、算出された複数の対数尤度Ｉγのうち、確率γが最大値を有するものに対応する対数尤度Ｉγを、とり得る確率の最大値に対応する対数尤度に合わせるように、各対数尤度Ｉγに対して１時刻毎に所定の演算を施し、対数尤度Ｉγの値の分布の偏りを是正するための正規化を行う。 - 特許庁
The method also includes: a step of modeling the modified autoclave configuration to determine modified airflow patterns in the autoclave, modified temperature variation throughout the autoclave, and the modified distribution of turbulent intensity in the autoclave; and modeling the modified autoclave configuration with parts 24 to be cured in the modified autoclave configuration to determine an arrangement of parts that maximizes the number of parts in the autoclave that meet predetermined cured properties of the parts.例文帳に追加
更に、オートクレーブ内の修正された気流パターンと、オートクレーブ全体にわたる修正された温度変化と修正された乱流強度分布とを決定するために修正されたオートクレーブ構成をモデリングするステップと、部材の所定の硬化特性を満たすオートクレーブ内の部材の数を最大にする部材配置を決定するために、修正されたオートクレーブ構成内で硬化される部材２４を用いて、修正されたオートクレーブ構成をモデリングする。 - 特許庁
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