「etchings」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

the etchings, drypoints, lithographs, and engravings which together form his graphic work- British Book News 例文帳に追加

彼のグラフィック作品を共に形成するエッチング、ドライポイント、リトグラフ、エッジング−ブリティッシュ・ブック・ニュース - 日本語WordNet

A barrier metal 6 and a metal film 7 are formed, and prescribed anisotropic etchings are sequentially performed.例文帳に追加

バリアメタル６およびメタル膜７を形成して、所定の異方性エッチングを順次施す。 - 特許庁

The articles may be produced with etchings on at least a part of a surface of the article.例文帳に追加

これらの物品は、物品の表面の少なくとも一部分のエッチングを用いて製造され得る。 - 特許庁

Then, the respective etchings are conducted using separate mask patterns with the same-sized openings.例文帳に追加

この時、それぞれのエッチングは同じ大きさの開口部を有するそれぞれのマスクパターンを利用して行う。 - 特許庁

To obtain a manufacturing method of a micro structure hardly giving birth to side etchings of a conductive layer in a process of removing a sacrifice layer.例文帳に追加

犠牲層を除去する工程において導電層のサイドエッチングが生じ難いマイクロ構造体の製造方法を得る。 - 特許庁

Therefore, the substrate 10 having a ridge 10a where both sides are constituted of the {111} B faces is manufactured by those two types of etchings.例文帳に追加

これら２種類のエッチングにより、両側面が｛１１１｝Ｂ面で構成されたリッジ部１０ａを有する基板１０が作製される。 - 特許庁

Hereby, the element isolation oxide film 10 accumulated in the trench widens above the trench, and debots will not occur even by subsequent etchings.例文帳に追加

これにより、トレンチ内に堆積した素子分離酸化膜１０は、トレンチの上部で広がり、そ野後のエッチングによってもディボット２２が発生しない。 - 特許庁

To accurately repeat etchings of laminate films in a reaction chamber of an etcher, without dropping operation availability of the etcher.例文帳に追加

エッチング装置の稼働率を低下させずに、その反応室内において積層膜のエッチングを精度良く繰り返すことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Etchings to the magnetoresistive effect film and the 1st stopper layer are performed simultaneously and a pattern is formed by using at least metal of slow CMP polish rate for the first stopper layer.例文帳に追加

少なくとも第一のストッパー層をＣＭＰ研磨レートの遅い金属とすることによって、磁気抵抗効果膜と第一のストッパー層を同時にエッチングしパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing semiconductor devices wherein its sufficient characteristics can be secured for selectively etching an etched film, the upper-layer film thereof, and the lower-layer film thereof which are present on its semiconductor substrate and are object of dry etchings.例文帳に追加

ドライエッチングの対象となる半導体基板上の被エッチング膜とその上層の膜や下層の膜との選択的なエッチング特性を十分に確保し得る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

Sec.201 Works not Covered The provisions of this Chapter shall not apply to prints, etchings, engravings, works of applied art, or works of similar kind wherein the author primarily derives gain from the proceeds of reproductions.例文帳に追加

第201条 対象にならない著作物 本章の規定は，著作者が本来複製物の売上から利益を得る印画，エッチング絵画，版画，応用美術の著作物その他類似の著作物については，適用しない。 - 特許庁

Thereby, the amount of side etchings is decreased and thereafter, a silicon film is deposited and generation of the residues of the silicon film on a side etching part 5 is eliminated by an anisotropic etching at the formation of a low-breakdown voltage gate electrode 8.例文帳に追加

これによってサイドエッチ量が減少し、その後シリコン膜を堆積して低電圧部のゲート電極８を形成するときの異方性エッチングでサイドエッチ部５にシリコン膜の残留物が生じることがなくなる。 - 特許庁

To provide a polishing pad which can make high speed polishing, restrains the generation of scratches and etchings on polished surfaces providing excellent machined surfaces and scarcely generates waste including abrasives, and a polishing device comprising the polishing pad used and a polishing method using the pad.例文帳に追加

研磨速度が速く、研磨表面への傷やエッチングを抑制し、優れた加工表面を得ることができ、研磨終了後にも研磨剤を含む廃棄物がほとんど発生しない金属用研磨パッド、それを用いてなる研磨装置、及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

The Kaitai Shinsho (New Book of Anatomy) translated by Genpaku SUGITA, Ryotaku MAENO and others had laid the foundation of Western studies of the Edo period and of anatomy of Japan, and later, their disciple Gentaku OTSUKI had published the revised edition of Kaitai Shinsho with better translation and illustrations by copper-plate etchings, however, the development of anatomy had not much advanced since then. 例文帳に追加

杉田玄白、前野良沢らが訳した解体新書は江戸蘭学、日本解剖学の基礎を築いたが、その後継者大槻玄沢がより正確な訳と版画凹版画を用いたものに改良した「重訂解体新書」を刊行するなど解剖学ではその改善に留まる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a hardmask composition for a resist underlayer film that has high etching selectivity, sufficient resistance to multiple etchings, and an antireflective property to minimize the reflectivity between the resist and a lower layer, and a method of patterning a backside material layer on a substrate using the hardmask composition.例文帳に追加

エッチング選択性が高く、 多重エッチングに対する耐性が十分であり、レジストと下部層間の反射性を最小化する反射防止能を有するレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供すること、および該ハードマスク組成物を用いて、基板上の裏面材料層をパターン化させる方法を提供すること。 - 特許庁