「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method which can easily form a super fine graft polymer pattern on the surface of a solid object.例文帳に追加

固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of a thin film pattern by which a fine thin film pattern can be stably formed with sufficient accuracy.例文帳に追加

微細な薄膜パターンを精度良く安定して形成できる薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a protection layer on a photoresist pattern, and to provide a method of forming a fine pattern using the above method.例文帳に追加

フォトレジストパターン用保護膜の形成方法及びこれを用いた微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a fine pattern can be formed without using a resist pattern formed by a complicated process.例文帳に追加

煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern thickening material etc., with which a resist pattern is thickened, a surface layer with superior etching resistance can be formed, and the pattern can be made fine.例文帳に追加

レジストパターンを厚肉化しエッチング耐性に優れた表層を形成できパターンを微細化可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁

To provide an exposure mask and a pattern forming method for improving the light intensity distribution of a two-dimensional pattern and forming a fine resist pattern.例文帳に追加

２次元パターンの光強度分布を改善し、良好なレジストパターンを形成できる露光用マスク及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By selecting a material to be adhered, the method is applicable to the pattern forming material, a fine particle pattern forming material and an electroconductive pattern material.例文帳に追加

付着される物質を選択し、画像形成材料、微粒子パターン形成材料、導電性パターン材料への応用が可能である。 - 特許庁

The heat-resistant fine particle layer is desirably formed to be a prescribed pattern, and this pattern and its reversal pattern can form a getter film.例文帳に追加

耐熱性微粒子層は所定のパターンで形成することが望ましく、このパターンと反転するパターンでゲッタ膜を形成することができる。 - 特許庁

To accurately control the flatness of pattern surface formed by burying and stacking a metal on a fine recessed pattern and the height of the pattern by etch-back.例文帳に追加

微細な凹部パターンに金属が埋め込まれ堆積されたパターン表面の平坦化と、パターン高さを精度よくエッチバックにより制御する。 - 特許庁

Then, a transfer film 12 (transfer material 10) having a fine pattern formed thereto by the transfer of the predetermined pattern of the transfer pattern forming part 25 of the pattern transfer mold 20 is peeled from the pattern transfer mold 20.例文帳に追加

そして、パターン転写型２０の転写パターン形成部２５の所定パターンが転写されて微細パターンが形成された転写膜１２（転写材料１０）を、パターン転写型２０から剥離する。 - 特許庁

To provide an apparatus for drawing a fine pattern for delivering fine liquid droplets and drawing the fine pattern by providing a needle electrode in an electrostatic type inkjet printer, and to provide its method.例文帳に追加

静電方式のインクジェットプリンタにおいて、針電極を設けることにより微小な液滴を吐出して微細なパターンを描画する微細パターンの描画装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF USING BLOCK COPOLYMER TO FORM FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ブロック共重合体を利用した半導体素子の微細パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a levenson type mask forming a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンを形成できるレベンソン型マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the fine trench 18 is formed on the surface of the conductor pattern 11.例文帳に追加

更に、導電パターン１１の表面には、微細な溝１８が形成されている。 - 特許庁

By the above steps, a pattern having a fine structure can easily be formed.例文帳に追加

これにより、微細な構造を有するパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁

PHOTORESIST FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用フォトレジスト、及びこれを用いた微細パターンの作製方法 - 特許庁

As a result, the destruction of the fine pattern formed on the substrate W can be prevented.例文帳に追加

その結果、基板Ｗに形成された微細パターンの倒壊を防止できる。 - 特許庁

A surface opposite to a light outgoing surface is formed with a fine beam scattering pattern.例文帳に追加

出光面の対向面には微細な光線散乱パターンを形成している。 - 特許庁

To efficiently form a predetermined fine pattern on a film to be treated on a substrate.例文帳に追加

基板上の被処理膜に所定の微細なパターンを効率よく形成する。 - 特許庁

To provide a conductive composition which can be formed into a fine electrode pattern.例文帳に追加

微細な電極パターンとして形成できる導電性組成物を提供する。 - 特許庁

After the formation of the fine pattern, the auxiliary material 12 is separated from the material 14.例文帳に追加

微細パターンの形成後、被加工材１４から補助材１２を分離させる。 - 特許庁

To provide a mask for forming a fine pattern and a method for forming the mask.例文帳に追加

微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

MAGNETIZED PATTERN FORMING METHOD FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND FINE GAP MEASURING METHOD例文帳に追加

磁気記録媒体の磁化パターン形成方法及び微小間隙の測定方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK STRUCTURE AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

マスク構造物の形成方法及びこれを利用した微細パターン形成方法 - 特許庁

As a result, the substrate to which a fine pattern N is transferred or a worked layer P is obtained.例文帳に追加

その結果、微細パタンＮが転写された基板又は被加工層Pを得る。 - 特許庁

To provide metal nanoparticle paste useful for forming a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンを形成するのに有用な金属ナノ粒子ペーストを提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD OF METAL NANOPARTICLE SINTERED BODY LAYER HAVING FINE PATTERN FORM例文帳に追加

微細なパターン形状を有する金属ナノ粒子焼結体層の形成方法 - 特許庁

X-RAY EXPOSURE METHOD, X-RAY EXPOSURE APPARATUS, FINE PATTERN STRUCTURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

Ｘ線露光方法、Ｘ線露光装置、微細構造および半導体装置 - 特許庁

The nanoimprint mold comprises a substrate 1, the fine pattern 2 formed on the surface of the substrate, and a chip preventing pattern 3 which is formed on the surface of the substrate and in a vicinity of the fine pattern 2, does not contribute to the formation of the pattern shape to be intended, and prevents the fine pattern from being chipped occurred in cleaning.例文帳に追加

当該ナノインプリントモールドは、基板１と、上記基板表面に形成された微細パターン２と、上記基板表面かつ上記微細パターン２の近傍に形成され、目的とするパターン形状の形成に寄与せず、洗浄時に生じる上記微細パターンの欠けを防止する欠け防止パターン３とを有する。 - 特許庁

This fine asperity pattern 104 is formed by flatly arranging a number of fine unit protrusions 106.例文帳に追加

微細凹凸パターン形状１０４は、複数の微細な単位凸部１０６が平面的に配列されて形成されている。 - 特許庁

To provide a conductive pattern forming method with which a fine, high-resolution and highly conductive pattern is formed and to provide a conductive pattern material which is constructed by forming the fine, high-resolution and highly conductive pattern and which has a wide application field.例文帳に追加

微細で解像度及び導電性の高いパターンを形成しうる導電性パターン形成方法、及び、微細で解像度及び導電性の高いパターンが形成されてなる応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a fine pattern forming method wherein a process for slimming a resist pattern is eliminated in forming a fine pattern by forming a silicon oxide film on a pattern organic film, and the cost of the process is reduced.例文帳に追加

パターン有機膜にシリコン酸化膜を成膜して微細パターンを形成する際に、レジストパターンをスリミング処理する工程を削減することができ、プロセスのコストを低減することができるマスクパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a fine pattern forming method wherein a process for slimming a resist pattern is eliminated in forming a fine pattern by forming a silicon oxide film on a pattern organic film, and the cost of the process is reduced.例文帳に追加

パターン有機膜にシリコン酸化膜を成膜して微細パターンを形成する際に、レジストパターンをスリミング処理する工程を削減することができ、プロセスのコストを低減することができるマスクパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Then, a pattern 3-formed face of the substrate 1 is brought into contact with a face of a substrate 2 to be formed with a fine pattern, and if necessary, pressure is applied, to transplant a fine pattern 4 onto the substrate 2.例文帳に追加

次に基板１のパターン３が形成されている面を、基板２の微細パターンを形成したい面に接し、あるいは圧力を印加することにより基板２上に微細なパターン４を移植する。 - 特許庁

Thereby, the auxiliary pattern which does not electrically affect an area adjacent to the fine pattern is formed in order to prevent the misalignment when forming a contact hole or via hole to make the fine pattern open.例文帳に追加

これにより、微細パターンをオープンさせるためのコンタクトホールまたはビアホールの形成時、ミスアラインメントを防止するために、微細パターンの隣接地域に電気的に影響を及ぼさない補助パターンを形成する。 - 特許庁

Since the pattern parts 4 of the other surface 3 are more uneven than the fine uneveness 21 of one side of the light pervious resin plate, the pattern parts 4 are visually confirmed in the fine unevenness 21 in a foated state to form the pattern parts 4 having a three-dimensional feeling.例文帳に追加

他面の模様部４が片面の微細凹凸２１より大きな凹凸であるため、微細凹凸２１の中に模様部４が浮かび上がって視認され、立体感のある模様部４となる。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING CORRECTION TABLE, DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN FOR CORRECTION TABLE, DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN FOR FINE WORKING, AND METHOD FOR FORMING FINE WORKING PATTERN例文帳に追加

補正テーブルの作成装置及び作成方法、補正テーブル用マスクパターンの作成装置及び作成方法、微細加工用マスクパターンの作成装置及び作成方法、並びに微細加工パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of suppressing sensitivity drop of a photosensitive layer and capable of forming a highly fine and precise pattern, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method utilizing the pattern forming material.例文帳に追加

感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

After exposure, the die 50 is stripped off from the resin layer 40 on which the fine pattern is formed.例文帳に追加

露光後、微細パターンが形成された樹脂層４０から型５０を剥離する。 - 特許庁

A fine convex pattern is formed in the inside surface with which the cavity 33 is to be formed.例文帳に追加

また、キャビティ33を形成する内面には、微細な凸状パターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a molding method for obtaining a fine pattern through inexpensive press molding.例文帳に追加

低コストのプレス成形を経て微細パターンを得るための成形方法を提供する。 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATES WITH FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加

重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

To precisely form a conductor circuit pattern having fine line width and low electrical resistance.例文帳に追加

微細線幅でかつ電気抵抗の低い導体回路パターンを精度よく形成する。 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加

重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁