「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern employing self-aligned double patterning.例文帳に追加

自己整列されたダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a film having a fine pattern with no mask or stamper.例文帳に追加

マスクやスタンパを用いないで、微細パターンの膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

It becomes easy to form a fine wiring pattern by using a semi additive method.例文帳に追加

また、セミアディティブ法を用いることで、微細な配線パターンを形成しやすくなる。 - 特許庁

The rugged fine forming pattern is formed on the upper surface of the form plate material 4.例文帳に追加

版材４の上面には、凹凸による微細な成形パターンが形成されている。 - 特許庁

INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, ITS CORRECTION METHOD, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用インキ、その修正方法、及び、カラーフィルター - 特許庁

To draw or lithographically form an extremely fine linear pattern without any defect by using a liquid jet technology.例文帳に追加

液体噴射技術により極めて微細な線パターンを欠陥無く描画する。 - 特許庁

To make formable the fine pattern of the wiring, etc., of an optical waveguide element by a liftoff.例文帳に追加

光導波路素子の配線等の微細なパターンをリフトオフで形成可能にする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OF CONDUCTIVE POLYMER BY MULTIPHOTON-ABSORBING SENSITIZATION REACTION例文帳に追加

多光子吸収増感反応による導電性高分子の微小パターン形成法 - 特許庁

The surface of the stamper 3 where the fine pattern 4 is formed is coated with resist 5.例文帳に追加

スタンパ３の微細パターン４が形成されている面上にレジスト５を塗布する。 - 特許庁

FINE PATTERN MEASURING METHOD, MEASURING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING MANAGEMENT SYSTEM例文帳に追加

微細パターンの計測方法、計測装置および半導体デバイスの製造管理システム - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細パターンの形成方法、半導体装置の製造方法および半導体装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING FINE PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細パターンの形成方法、半導体装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, CHEMICAL LIQUID FOR FORMING FINE PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法、微細パターン形成用薬液および半導体装置 - 特許庁

Kinma: Lacquerwares made in Thailand and Myanmar characterized by the fine line engraving pattern. 例文帳に追加

蒟醤（きんま）：タイ、ミャンマーで作られる漆器で、細かな線刻紋様に特徴がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a pattern inspection device which is capable of clearly observing fine patterns.例文帳に追加

微細なパターンを明瞭に観察することができるパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING LIGHT GUIDE PLATE FORMED OF FINE RUGGED PATTERN AND ITS LIGHT GUIDE PLATE例文帳に追加

微細な凹凸パターンからなる導光板の作製方法及びその導光板 - 特許庁

A pattern member 71 having the transfer surface of the fine pattern 71a formed thereto is provided on the mold member body 72.例文帳に追加

微細パターン７１ａの転写面が形成されたパターン部材７１が金型部材本体７２上に設けられる。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board manufacturing method whereby fine pattern formation is enabled and problems are solved concerning a decrease in value and the delamination of the formed wiring pattern.例文帳に追加

ファインパターンの形成を可能とし、形成された配線パターンの目減りや剥離等の問題を解消する。 - 特許庁

To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To reduce degradation of a picture by surely discriminating a pattern area reproduced by fine parallel line patterns as a pattern area.例文帳に追加

万線パターンによって再生された絵柄領域を確実に絵柄領域と判定し、画像劣化を減少させること。 - 特許庁

The fine uneven region 11 is recognized as a black pattern in the observation from the normal direction of a pattern surface.例文帳に追加

微細凹凸領域１１をパターン面の法線方向付近から観察すると黒色のパターンとして認識される。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for imprinting having a high-accuracy fine pattern and to provide a template producing method.例文帳に追加

高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.例文帳に追加

高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 - 特許庁

Then, the image of the recorded test pattern is read and the width of each fine line is determined from the image of the read test pattern.例文帳に追加

そして、記録されたテストパターンの画像を読み取り、読み取ったテストパターンの画像から各細線の幅を求める。 - 特許庁

To provide a transfer material capable of surely and easily transferring a fine wiring pattern and a component pattern to a board.例文帳に追加

微細な配線パターンおよび部品パターンを確実かつ容易に基板へ転写することができる転写材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern that allows a fine pattern to be formed by preventing undesirable diffraction of light in exposure.例文帳に追加

露光時の光の回り込みを防止して、微細なパターン形成を可能にするレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter capable of enhancing a pattern formation limit, and capable of forming a further fine pattern.例文帳に追加

パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern defects from occurring in extreme ultraviolet light exposure and to form a fine pattern having a good shape.例文帳に追加

極紫外線露光におけるパターン不良を防止して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

To form a fine via pattern while reducing the man-hours for pattern design, the number of sheets of use masks and the deviation of superposition.例文帳に追加

パターン設計工数、使用マスク枚数及び重ね合わせずれを低減しつつ、微細なビアパターンの形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing method suitable for manufacturing a fine three-dimensional structural pattern having a plurality of step portions.例文帳に追加

複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの製造に好適なパターン製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern display material with which pattern display of fine characters, patterns, etc., having excellent weatherability and wear resistance can be performed.例文帳に追加

耐候性、耐磨耗性の優れた細かい文字、図柄等のパターン表示が可能なパターン表示体を提供することである。 - 特許庁

To perform evaluation and abnormality detection of a fine pattern formed on a semiconductor wafer and an aligner which exposed that pattern.例文帳に追加

半導体ウエハ上に形成された微細パターン及びそれを露光した露光装置の評価と異常検知を行う。 - 特許庁

MASK PATTERN FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FORMING METHOD THEREOF, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE WITH FINE PATTERN例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION AND FORMING METHOD THEREOF, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを持つ半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide a method and device for imaging a pattern capable of imaging well a fine pattern.例文帳に追加

ファイン化されたパターンを良好に撮像することができるパターン撮像装置およびパターン撮像方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which a pattern including a fine line-and-space pattern is formed.例文帳に追加

微細なラインアンドスペースパターンを含むパターンを形成することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micro pattern forming method for easily transferring a pattern with high accuracy from a substrate having a fine uneven pattern to another substrate.例文帳に追加

微細な凹凸パターンが形成された基板から、容易に他の基板等に正確なパターン転写を行うことができる微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern coating agent used in a resist pattern forming method easily and efficiently forming a fine resist pattern.例文帳に追加

微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるレジストパターン形成方法に用いられるレジストパターンコーティング剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a fine pattern method for forming a pattern by a photo-lithography technology, and for precisely working lower layer materials by using the pattern as a mask.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術においてパターンを形成し、且つ、それをマスクに用い、下層材料を精度良く加工する微細パターン方法を提供することにある。 - 特許庁

To perform pattern forming at high precision even if the pitch narrowing of a fine pattern to be narrowed is developed when the pattern is formed by utilizing etching.例文帳に追加

エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。 - 特許庁

To form a fine pattern having both of a groove pattern and a hole pattern in the process of manufacturing a semiconductor device without carrying out vacuum vapor deposition.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、真空蒸着処理を行わずに、溝状パターンと穴状パターンとが共存する微細パターンを形成する。 - 特許庁

Namely, an uneven pattern 52 is provided by formed by forming the fine small uneven pattern 54 on the rough large uneven pattern 53.例文帳に追加

つまり、樹脂膜２３の表面には、粗い大凹凸パターン５３の上に細かい小凹凸パターン５４が形成されて成る凹凸パターン５２が設けられている。 - 特許庁