「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a liquid drop ejector wherein the behavior of liquid drops at the time of impact can be recognized easily and a functional thin film of a more precise good fine pattern can be formed under the optimal ejection conditions to provide a technique of determining the optimal ejection conditions, and provide a method for producing a device.例文帳に追加

最適な吐出条件を決定し得る手法を提供するべく、液滴の着弾時の挙動等を容易に認識できるようにし、これにより最適な吐出条件の下でより精密で良好な微細パターンの機能性薄膜を形成できるようにした、液滴吐出装置およびデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The thermally insulative coating material giving stone grain pattern and generating negative ion mainly comprises a synthetic resin emulsion, ceramic fine hollow particles of a water resistant strength of ≥600 kgf/cm^2, a bulk density of 0.3-0.5 g/cm^3 and a melting point of ≥1,500 °C and finely ground particles of granite.例文帳に追加

御影石（花崗岩）を粉砕粒子とした骨材に耐水圧強度６００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上で、嵩比重０．３〜０．５ｇ／ｃｍ^３、且つ融点１５００℃以上のセラミック微細中空粒子と合成樹脂エマルジョンを主構成組成物として石目調マイナスイオン発生断熱塗材を作製する - 特許庁

The ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least a coloring agent, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, in a compounding amount of the above solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用インキである。 - 特許庁

To prevent the diameter of a hole formed in a film to be etched from far exceeding a prescribed value and to make the plane shape of the hole circular when a photosensitive material film comprising a chemically amplified resist material is irradiated with ArF excimer laser light to form a fine hole pattern having a high aspect ratio.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料からなる感光性材料膜にＡｒＦエキシマレーザを照射して、微細で且つ高アスペクト比のホールパターンを形成する場合に、被エッチング膜に形成されるホールの平面形状が円形になると共にホールの直径が所定値よりもあまり大きくならないようにする。 - 特許庁

Hereby, when the glass drop GD collides or comes into contact with the lower die 1, the fine structure of the concave-convex pattern CP can be transferred wholly precisely by utilizing properly its momentum, and a glass lens 100 having a high-precision optical surface transfer surface 11a or the like can be acquired comparatively easily.例文帳に追加

これにより、ガラス滴ＧＤが下型１に衝突又は接触する際に、その運動量を適度に利用して凹凸パターンＣＰの微細構造を全体的に精密に転写することができ、高精度の光学面転写面１１ａ等を有するガラスレンズ１００を比較的簡易に得ることができる。 - 特許庁

The method for press forming the optical element provided with fine pattern with ruggedness of 0.1-50 μm on an optically functional face with a pair of top and bottom mold members, is characterized in that the glass raw material is press formed at a room temperature and the mold members are kept at a temperature corresponding to 10^13-10^8 dPa.s of glass viscosity.例文帳に追加

０．１μｍ〜５０μｍの凹凸を持つ微細パターンを光学機能面に備えた光学素子を、上下一対の型部材により、プレス成形する方法において、ガラス素材を室温にて、また、前記型部材をガラスの粘度で１０^13〜１０^8 ｄＰａ・ｓに相当する温度で、プレス成形することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, without problems such as detachment of a cured resin pattern and deterioration in straight propagation even if fine particles containing silver-tin alloy is used as a main component of a light blocking agent, and a substrate including a light blocking film formed with the photosensitive resin composition.例文帳に追加

遮光剤として銀錫合金を主成分とする微粒子を使用しながらも感度が高く、硬化樹脂パターンの剥がれや直進性の低下といった問題が生じない感光性樹脂組成物、及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜を有する基材を提供する。 - 特許庁

The method for forming the fine pattern comprises a step of cooling a single crystal substrate to -50°C to -273°C, a step of implanting charged particles of a dosage of 1×1014 cm-2 to 5×1016 cm-2 at a predetermined acceleration voltage, and a step of returning the substrate to the ambient temperature.例文帳に追加

単結晶基板１を−５０℃以下−２７３℃以上の低温に冷却する工程と、単結晶基板の表面に荷電粒子を１×１０^14ｃｍ^-2以上５×１０^16ｃｍ^-2以下のドーズ量にて、所定の加速電圧で注入する工程と、単結晶基板を室温に戻す工程とから少なくともなる。 - 特許庁

In this fine pattern formation method, the process of covering the substrate having the photoresist with a cover molding agent, the process of shrinking the cover molding agent in question by heat treatment and narrowing the intervals between the photoresist patterns by its shrinkage action, and the process of removing the cover molding agent are performed several times.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に、被覆形成剤を被覆する工程、熱処理により該被覆形成剤を収縮させ、その収縮作用によりホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を、複数回に亘って行うことを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a light-curable resin composition enabling formation of an optically functional sheet having a fine pattern, and sufficiently satisfying adhesion to a sheet base material, mold releasability from a mold, a high refractive index of a work layer, surface hardness, flexibility and flaw resistance of the sheet, and to provide the optically functional sheet showing excellent front luminance.例文帳に追加

本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の高屈折率、表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および正面輝度に優れた光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁

The conduction wire 23 is formed by applying a conductive paste-like composition obtained by mixing silver fine particles into phenol resin in a given pattern by screen printing then firing it, and its both end parts of thereof 23 are led out to a corner part on one side of a light incident side on the light guide plate front surface 212 to form external input terminals 232, 232.例文帳に追加

通電配線２３は、銀微細粒子をフェノール系樹脂に混ぜて得られる導電性ペースト状組成物をスクリーン印刷により所定のパターンに塗着し焼成して形成され、その両端部が導光板前面２１２における光入射側の一方のコーナー部に引き出されて、外部入力端子２３２、２３２が形成されている。 - 特許庁

The control unit 59 controls the substrate processing apparatus to move a holding mechanism 39 to an upper position after rinsing the substrate W by supplying pure water to the processing tank 1, and since the substrate W is hydrophobized, the pure water to be left can be reduced and thereby the surface tension applied to the fine pattern of the substrate W by the pure water can be reduced sharply.例文帳に追加

制御部５９は、純水を処理槽１に供給させて基板Ｗをリンス処理させた後、保持機構３９を上方位置に移動させるが、基板Ｗは疎水化されているので、純水の液残りを少なくすることができるともに、純水により基板Ｗの微細パターンにかかる表面張力を非常に小さくできる。 - 特許庁

A solar cell polarizing plate 21 includes: a grid-like film 31 where a plurality of fine recesses and protrusions having predetermined pitches or smaller are formed in a stripe pattern; lower layer wiring 33 provided along bottom surfaces of the recesses of the grid-like film 31; and photoelectric conversion layers 34 which are disposed in contact with the lower layer wiring 33 and have elongated shapes along the recesses of the grid-like film 31.例文帳に追加

ソーラセル偏光板２１は、所定のピッチ以下の微細な複数の凹部および凸部が縞状に形成された格子状フィルム３１と、格子状フィルム３１の凹部の底面に沿って設けられた下層配線３３と、下層配線３３に接して配置され、格子状フィルム３１の凹部に沿った細長い形状の光電変換層３４とを備える。 - 特許庁

The black ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least red, yellow, and blue coloring agents, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent in a compounding amount of the solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、赤色及び黄色及び青色着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用黒インキである。 - 特許庁

In the information recording carrier 1 which has at least the non-parallel meandering groove 201 having the data modulated by the modulating means different from each other and recorded on two side walls 201A and 201 B of the groove 201, a plurality of the non-parallel meandering grooves 201 and a plurality of straight line grooves 203 are alternately and closely disposed to form a fine pattern 100.例文帳に追加

異なる変調手段により変調したデータを、二つの側壁２０１Ａ、２０１Ｂにそれぞれ記録してある非平行蛇行溝２０１を少なくとも有する情報記録担体１であって、複数の前記非平行蛇行溝２０１と複数の直線溝２０３とを、交互に近接配置して微細パターン１００を構成している。 - 特許庁

To provide an ink drying apparatus which shortens ink drying time, suppresses swelling of a blanket and improves mass-productivity while the quality is held or its drying method in the ink drying apparatus wherein a substrate is coated with the ink by a printing method and is dried, and a fine pattern is formed to manufacture a color filter or the like or its drying method.例文帳に追加

印刷法により基材にインキを塗布して乾燥し、微細パターンを形成してカラーフィルタ等を製造するためのインキ乾燥装置またはその乾燥方法において、インキの乾燥時間を短縮し、ブランケットの膨潤を抑制し、かつ品質を保ったまま量産性を高めることができるインキ乾燥装置またはその乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加

金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜，拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate for a flexible printed wiring board which is excellent in adherence property and close contact property of a conductor forming a circuit with a polyimide film, is excellent in reliability without impairing characteristics such as dielectric characteristic, humidity resistance, and heat resistance or the like of a polyimide film, and enables fine pattern machining of the flexible printed wiring board, and its manufacturing method.例文帳に追加

回路を形成する導体とポリイミドフィルムとの接着性及び密着性に優れると共に、ポリイミドフィルムが備える誘電特性、耐湿性、耐熱性等の特性を損なうことなく信頼性に優れた積層体であって、フレキシブルプリント配線板のファインパターン加工が可能となるフレキシブルプリント配線板用積層体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer device which can irradiate ultraviolet curing resin with an ultraviolet ray having uniform intensity and can photograph a die and a substrate even if the ultraviolet curing resin is irradiated with the ultraviolet ray in a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed in the die on the ultraviolet curing resin.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを基材に設けられている紫外線硬化樹脂に転写するための転写装置において、均一な強度の紫外線を紫外線硬化樹脂に照射可能であると共に、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射しているときであっても、型と基材とを撮影可能な転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide an artificial rock coated with a high-strength mortar wherein even a formed body with a complicated shape and a fine pattern is coated with high workability attributed to high flowability during application and even a thin-coated layer after application is provided with the properties of high strength, good designing and little chalking.例文帳に追加

施工時には、高流動性を有し作業性が優れるため、複雑な形状や繊細な模様にも対応して成形することができ、施工後には、厚みが薄くても、高強度、高耐摩耗性、良好な意匠性を有し、かつ白華現象が生じ難いといった特性を有する高強度モルタルによって表層部を形成した人工岩石を提供する。 - 特許庁

To enhance fine dispersibility of a pigment of a pigment dispersion composition to enhance storage stability and coloring force, to enhance optical sensitivity, storage stability, coloring force, a support adhesiveness and developability of a coloring curable composition to suppress reduction of a development residue and a color concentration (removal of color), and to attain formation of pattern of sufficient cross section shape.例文帳に追加

顔料分散組成物の顔料の微細分散性を高め、保存安定性、着色力を向上し、着色硬化性組成物の光感度、保存安定性、着色力、支持体密着性、及び現像性を高め、現像残渣及び色濃度の低下（色抜け）を抑え、良好な断面形状のパターン形成を可能にする。 - 特許庁

In the non-display regions of both the substrates where the laying wirings 11 and 21 are not formed, many dummy electrodes which are nearly as thick as the electrodes 10 and 20 are formed in a predetermined arrangement without contacting one another, and further the dummy electrodes 30 on the second transparent substrate are arranged in a pattern of fine and uniform arrangement density in the non-display region.例文帳に追加

両基板の非表示領域内で引き廻し配線１１，２１が形成されない部分にはそれぞれ電極１０，２０とほぼ同厚のダミー電極を所定の配置をもって互いに接することなく多数形成し、更に第２透明基板のダミー電極３０は非表示領域内で細密かつ均一な配設密度となるようにパターン配置する。 - 特許庁

To provide a black color hardening composition achieving satisfactory close adhesiveness onto a substrate, high sensitivity, and forming a fine pattern, to provide a light shielding color filter achieving high light shielding performance in an infrared region and its manufacturing method by use of the black color hardening composition, and to provide a solid imaging element preventing the occurrence of noise and improving quality of picture image.例文帳に追加

基板密着性が良好で、感度が高く、微細なパターンを成形できる黒色硬化性組成物を提供し、それを用いて赤外領域の遮光性が高い遮光性カラーフィルタおよびその製造方法を提供し、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

The stamper 1 has a top surface 2 and a rear surface 3 and also has a fine pattern formed on the top surface; and the Vickers hardness of the top surface is 200 to 250 Hv, the Vickers hardness of the rear surface is 80 to 150 Hv, and the mathematical mean roughness Ra of the rear surface is 30 to 80 nm.例文帳に追加

表面と裏面を有し表面に微細パターンが形成されたスタンパにおいて、表面のビッカース硬度が２００Ｈｖ以上、２５０Ｈｖ以下であり、裏面のビッカース硬度が８０Ｈｖ以上、１５０Ｈｖ以下であり、裏面の算術平均粗さＲａが３０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする構成とした。 - 特許庁

To simply produce a chemical microdevice having a large number of fine pattern holding parts, which hold a sample on the surface of a plate, formed thereto to inexpensively mass-produce the chemical microdevice of a constant quality, and to properly detect the fluorescence from the sample when the sample held to each of the holding parts is irradiated with exciting light to detect fluorescence.例文帳に追加

プレートの表面に試料を保持させる微細パターンの保持部が多数形成された化学マイクロデバイスの製造が簡単に行えて、一定した品質の化学マイクロデバイスを安価に量産できるようにすると共に、保持部に保持させた試料に励起光を照射させて蛍光を検出する場合に、試料からの蛍光を適切に検出できるようにする。 - 特許庁

To decrease a curing temperature in forming a liquid-repellent pattern, to materialize the formation of a fine recessed part in spite of a relatively thick surface protecting layer, and to eliminate a hindrance for a coating liquid to be repelled even when a filler of a polishing agent is added into the surface protecting layer.例文帳に追加

撥液性模様形成時の硬化のための温度を低くすることができること、比較的厚い表面保護層を有しながらも、細かい凹部の形成が実現できること、また、表面保護層中に研磨剤と呼ばれている充填剤を加えても、コーティング液がはじかれるのに支障がないこと等を実現することを課題としている。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin eliminating difficulty of a conventional technique, used for fine pattern formation in semiconductor production, and enhancing resist sensitivity more than in conventional products, wherein an effect of reduction of a foreign matter or the like after development is expected, and also to provide a novel dithiol compound which is used suitably for production of the positive photosensitive resin.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 - 特許庁

To prevent any increase of the electric resistance of a solder alloy and degradation of the mechanical strength by suppressing generation of voids in the solder alloy when melting solder powder by preventing oxidation of tin which is oxidized in a relatively easy manner, and to enhance the printability of a solder paste in a fine pitch pattern by setting the mean particle size of the solder powder to be ≤5 μm.例文帳に追加

比較的酸化し易い錫の酸化を阻止することにより、ハンダ粉末の溶融時にハンダ合金中へのボイドの発生を抑制してハンダ合金の電気抵抗の増加及び機械的強度の低下を防止し、またハンダ粉末の平均粒径を５μｍ以下とすることにより、ハンダ用ペーストのファインピッチパターンでの印刷性を向上する。 - 特許庁

To obtain a roll for continuous casting, excellent in a crack resistance in which the occurrence of the crack caused by heat stress is restrained by reducing the load of heat inlet from a cast slab and the progress of the sharp crack is restrained by beforehand forming fine rugged pattern on the surface of the roll barrel part and thus the service life of the roll can be extended.例文帳に追加

鋳片からの入熱負荷を軽減することにより熱応力による亀裂の発生を抑制すると共に、予めロール胴部表面に微細な凹凸パターンを成形しておくことにより、シャープな亀裂が進展していくことを抑制し、ロールの寿命を延長させることができる、耐亀裂性に優れた連続鋳造用ロールを得る。 - 特許庁

The photoresist forming method for forming a flat electrodeposition resist thin film 16 on the surface of a conductor by preparing a board 10 having a conductive layer 11, washing the surface of the conductor by pure water 14, and leaving the pure water 14 in a fine recessed part 12 formed on the surface of the conductor; and a wiring pattern forming method applying the photoresist forming method are provided.例文帳に追加

導体層１１を有する基板１０を準備し、導体表面を純水１４で洗浄し、導体表面の微細な凹部１２中に純水分１４を残留させ、導体表面上に平坦な電着レジスト薄膜１６を形成する、フォトレジスト形成方法および、これを適用した配線パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for peeling a photoresist by which a photoresist film and an etching residue after etching can be effectively removed without using O_2 plasma ashing even in a process of forming a fine pattern on a substrate having at least copper wiring and a low dielectric material layer, no adverse effect is given to the dielectric constant of the low dielectric material layer, and excellent corrosion resistance is obtained.例文帳に追加

少なくとも銅配線と低誘電体層を有する基板上の微細パターン形成において、Ｏ_２プラズマアッシング処理を行わないプロセスにおいても、エッチング後のホトレジスト膜、エッチング残渣物を効果的に剥離することができ、しかも低誘電体層の誘電率への悪影響を及ぼさず、防食性にも優れるホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

Then, a surface 120 is a semi-transmissible surface having a rotationally asymmetrical shape, and asymmetrical optical aberration caused when an information display luminous flux is transmitted through the semi-transmissible surface is corrected by the rotary asymmetrical lens 220, so that uniform and bright illumination is performed while clearly collecting a fine reflection pattern not shown in a figure on a surface 110.例文帳に追加

ここで１２０の面は回転非対称の形状を有する半透過面であり、情報表示光束がこの面を透過する時に発生する非対称な光学収差を２２０の回転非対称レンズで補正することにより、面１１０上の図示しない微細な反射パターンをきれいに集光させつつ、均一に明るく照明する。 - 特許庁

To provide a process for production of vinyl chloride for a paste excellent in surface smoothness of the foamed molding and having a fine cellular structure, and giving a foamed molding with a feeling of full volume and little decrease of thickness of the foamed molding on reheating the foamed molding to give an embossed pattern, regardless of the kind and volume of plasticizer, or and the volume of filler on blending in a foaming process.例文帳に追加

発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

A red(R), green(G) or blue(B) colored layer is formed in each of plural fine pixel regions 11 or each of the regions 11 is made blank without coloring and colored pattern regions 10 in which the ratio among the numbers of red(R), green(G), blue(B) and blank pixel regions is kept constant are continuously formed on a transparent glass sheet.例文帳に追加

複数の微小な画素領域１１を有し、これら画素領域１１を赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれか１つの彩色層を形成するか、あるいは彩色を施さない空白とするとともに、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、空白の画素領域数の比率を一定値にした色彩パターン領域１０を透明なガラス板上に連続して形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加

２次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a producing method of a shoe with a foamed midsole, which accurately forms a fine pattern on an exterior surface of a peripheral wall of an outsole, even if the shape of a peripheral wall for masking the peripheral wall of the outsole, especially its midsole, does not correspond to much of the shape of an interior wall of a die, when the foamed midsole is molded in a shoe structure.例文帳に追加

靴構造内に発泡ミッドソールを成形する際に、アウトソール、特に、そのミッドソールの周壁を遮蔽するための周壁の形状が金型内壁の形状とあまり対応しなくても、アウトソールの周壁の外表面に細かい模様を正確に形成することができる発泡ミッドソールを有する靴の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism.例文帳に追加

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide printed matter, which has no problem on manufacturing cost and the desired matte pattern with surface unevenness on which can be favorably reproducibly and stably obtained, its forming method and an intermediate transfer recording medium in order to obtain a mat-like printed matter, which has a thermally transferred image thereon and the surface of which has fine unevenness.例文帳に追加

熱転写画像を有する印画物で、表面に微細な凹凸を有するマット状の印画物を得るために、製造コスト上、問題がなく、また表面凹凸を有した所望のマット柄を再現性良く、安定して得られることができる印画物とその形成方法、及びその印画物を形成するために使用する中間転写記録媒体を提供する。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

In this method of forming a barrier rib, the paste for forming barrier rib including at least the inorganic fine grains, the binder resin and the solvent is used so as to provide a barrier rib forming layer on a glass board, and after forming a resist pattern on the barrier rib forming layer, water or alkali solution is injected with pressurization for development, and a barrier rib is thereby formed.例文帳に追加

少なくとも無機微粒子と、バインダー樹脂と、溶剤とを含む隔壁形成用ペーストを用いて、ガラス基板上に隔壁形成層を設け、該隔壁形成層上にレジストパターンを形成させたのち、水またはアルカリ水溶液を加圧噴射する現像によって隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレーパネル用の隔壁形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition etc. for a color filter, with which no undissolved matter (residue) of the composition remains on an unexposed region, and no scum is produced on a pixel, even when a fine pixel array is to be formed, and with which a pixel array with excellent pattern shape and with excellent adhesion strength to a substrate is formed with a high yield.例文帳に追加

微細な画素アレイを形成する場合であっても、未露光部に組成物の未溶解物（残渣）が残存したり、画素上にスカムが発生することがなく、しかもパターン形状、基板との密着強度等にも優れた画素アレイを高い歩留りで形成することができるカラーフィルタ用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

When manufacturing an outer lens 14, a photolithography process comprising respective processes of resist coating, exposure and development is performed on a bilayer substrate 23 consisting of a flat surface substrate 21 and a flexible substrate 22, thereby, a dot pattern of a photomask 25 is accurately transferred to a resist layer 24 and a resist fine structure 24a assured of forming accuracy can be manufactured.例文帳に追加

アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

This three-dimensional shape acquisition system for acquiring three-dimensional information of an object 3 by irradiating the object 3 collectively with a plurality of light beams from a pattern light irradiation mechanism 2 and analyzing the image of the object 3 photographed by an imaging mechanism 1 has a characteristic wherein the plurality of light beams have characteristic fine structures respectively.例文帳に追加

本発明は、パターン光照射機構２からの複数の光ビームを被写体３に一括して照射し、撮像機構１で撮影した被写体３の画像を解析することにより被写体３の３次元情報を取得する３次元形状取得システムにおいて、前記複数の光ビームがそれぞれ固有の微細構造を有することを特徴とする。 - 特許庁

The mask stage to be mounted on the stepper for transferring a fine pattern on the resist of a substrate by photolithography for holding the gas for preventing the resist of the substrate from oxidation is characterized, by forming with ceramics-metal composite material and by forming a compacted film over the surface of the ceramics-metal composite.例文帳に追加

微細なパターンをフォトリソグラフィーにより基板のレジストに転写する露光装置に搭載されるマスクステージであって、該基板のレジストの酸化防止をするための気体を収容するマスクステージがセラミックス−金属複合材料からなり、かつ、該セラミックス−金属複合材の表面に緻密質の膜が形成されていることを特徴とする露光装置用マスクステージ。 - 特許庁