「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

The mask blank is used in producing a sub-master mold 20 by imprint-transferring the fine pattern prepared on a surface of master mold 30, and has a hard mask layer on its substrate 1, wherein the hard mask layer contains a layer of chromium compound having a chemical formula CrO_xN_yC_z (where x>0).例文帳に追加

元型モールド３０の表面に設けられている微細パターンをインプリントにより転写してサブマスターモールド２０を製造する際に用いられるマスクブランクスであって、化学式ＣｒＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ（ただしｘ＞０）であるクロム化合物層を含むハードマスク層を基板１上に有する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

To provide a method of producing a conductive film in which a fine pattern of a high permeability low resistance conductive film can be formed easily while improving insulation significantly, and to provide a touch panel in which durability against writing pressure and flexibility are improved, and an integrated solar cell in which conversion efficiency is improved.例文帳に追加

絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗である導電膜及び簡易にファインなパターンを形成できる導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した集積型太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method, capable of accurately forming a fine and linear conductive wiring with high accuracy, by forming an insulating wiring of requisite minimum by an ink-jet method and forming the cross-sectional shape of the insulating wiring to be in a form of a groove.例文帳に追加

インクジェット法により必要最小限の絶縁性の配線を形成し、絶縁性配線の断面形状を凹溝状に形成することで、高精度で正確な微細な線状の導電性配線を形成することができる配線パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

The stamper includes a plate-like body having a Young's modulus of not less than 50 to not more than 500 GPa, a thickness of not less than 200 to not more than 1,000 μm, and a warp with a curvature of not less than 2×10^-5 to not more than 2×10^-3, and a fine structure pattern to be transferred is mounted on one surface.例文帳に追加

ヤング率が５０ＧＰａ以上５００Ｇｐａ以下、厚さが２００μｍ以上１０００μｍ以下であって、曲率が２×10^-5以上２×10^-3以下である反りを有する板状体からなり、その一面に転写すべき微細構造パターンが設けられているスタンパ。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-sensitive compound having an action such as development of adhesiveness by ultraviolet irradiation, an adhesive for nanoimprint technology having excellent adhesiveness between a metallic thin film and a thermoplastic polymer, a substrate having a fine metal thin film pattern and a method for producing the substrate.例文帳に追加

紫外線照射により接着性を発揮する等の作用を示す感紫外線化合物、該化合物を用いた、金属薄膜と熱可塑性高分子との接着性に優れたナノインプリント用接着剤、微細な金属薄膜パターンを有する基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a film-like object capable of selectively performing surface treatment by a fine cutting action by non-contactly and easily finishing a smooth surface of a prescribed pattern by a conventional procedure without requiring a special scanning operation.例文帳に追加

非接触で微細な削り作用による表面処理を選択的に行うことができ、特別な走査動作は必要なく一般的な手順により所定パターンの平滑面を容易に仕上げることができるフィルム状の対象物の表面処理方法を提供すること - 特許庁

The apparatus for forming the fine pattern comprises the discharge mechanism for discharging the liquid material toward the substrate and a positioning means for relatively changing the relation of the position between the substrate and the discharge mechanism, wherein the discharge mechanism is provided with a discharge mechanism driving means 5 for displacing the discharge mechanism toward the discharge direction.例文帳に追加

また、本発明の微細パターン形成装置は、基板に向けて液体材料を吐出する吐出機構と、基板と吐出機構の位置関係を相対的に変化させる位置決め手段とからなり、吐出機構は吐出方向に変位させる吐出機構駆動手段５を設けたものである。 - 特許庁

In producing a structure 19 of rectangular cross section by dry-etching a region with a wide etching width, first etching treatment is performed using a first mask pattern 1 for forming a fine groove 10 with an outline coinciding with the side face 20 of the structure 19.例文帳に追加

広いエッチング幅を持つ領域をドライエッチングして断面矩形の構造体１９を作製するに際して、最初に前記構造体１９の側面２０に一致する輪郭を備えている細い溝１０を形成するための第１マスクパターン１を用いて第１のエッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide a new method for preparing a cell culture substrate having cells in a highly fine patterned form and used for culturing the cells while maintaining the pattern for a long period, and an apparatus used for the preparing method.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The objective leather-like sheet has the surface layer comprising gigged and colored ultra fine fiber of ≤0.4 decitex and polymer which is solid at normal temperature, melts at ≥60°C and has ≤10% elongation at break and characteristically has a light and shade pattern caused by variation in the polymer distribution.例文帳に追加

表層が、着色された０．４デシテックス以下の極細繊維立毛と常温で固体で融点が６０℃以上でかつ破断伸度が１０％以下であるポリマーからなり、該ポリマーの存在状態の差により、濃淡模様を有していることを特徴とする皮革様シート。 - 特許庁

The die 2 is heated at an appropriate temperature higher than a glass transition point of the non-crystalline alloy film but lower than a crystallizing temperature, and under the temperature condition, a die transcription surface (convex surface) 2a is formed under pressing by microwave pressing means, whereby a pattern 20 comprising many fine conical concaves 2b is formed.例文帳に追加

この金型２を、非晶質合金膜のガラス転移点を超え、結晶化温度未満の範囲内の適宜温度に加熱保温し、この状態でマイクロ圧子により金型転写面（凸面）２ａを押圧加工して、多数の微細な円錐状くぼみ２ｂからなるパターン２０を形成した。 - 特許庁

To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.例文帳に追加

基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet head in which processing and forming a fine electrode wiring pattern are easily performed, which has a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of a head chip, and in which a driving electrode provided in a channel can be connected with the external wiring from the back end of the head chip by using a wiring substrate excellent in ink resistance.例文帳に追加

加工や微細な電極配線パターンの形成が容易であり、かつ、ヘッドチップの熱膨張係数に近く、かつ、耐インク性に優れた配線基板を用いて、ヘッドチップの後端からチャネル内に設けた駆動電極と外部配線との接続ができるインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

To make the mounting position of an extra length processing part freely changeable as well as to make its processing function demonstrable with at least two mounting holes, to make fine adjustment possible with a few millimeters as a unit, and to perform mounting in a state of high density in installing electronic circuit components and to make high density possible in designing a wiring pattern.例文帳に追加

余長処理部の取付け位置が自由に変更できるとともに最低２カ所の取付け穴で余長処理機能を発揮するすること、数ミリ単位で微少調整を可能にすること、高密度に電子回路部品が実装できるとともにパターン配線設計も高密度化できる。 - 特許庁

To form a fine pattern of a specified metal film with high sureness and to prevent re-sticking of a lifted-off film piece or 'burrs' from occurring.例文帳に追加

本発明は、所定の金属膜からなる微細パターンを高い確実性をもって形成することができると共に、リフトオフされた膜片の再付着や「バリ」の発生を防止することができるリフトオフ方法及びこのリフトオフ方法の実施に使用する有機膜除去装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an automatic photographing device taking a photograph where the fine pattern and the texture of a curtain background means used as a background come out vividly or a combined photograph taken as if a user was photographed while a camera approaches to the user or goes away from the user.例文帳に追加

背景として使用されるカーテン背景手段のの細かい模様や風合いが鮮明に写し出された写真や、カメラが利用者に対して近付いたり、遠ざかったりしながら撮影したかのような組み合わせの写真の撮影を可能とする自動写真撮影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic element which can form a fine pattern without increasing a leak current caused by a resist residue, and prevent a leak current from increasing with a reduction in the thickness of an insulating film on an electrode edge.例文帳に追加

レジスト残渣に起因するリーク電流の増大を生じさせることがなく、微細パターンの形成が可能であり、電極のエッジ部分の絶縁膜が薄くなることに起因するリーク電流の増大を抑制することが可能な電磁気素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ultrasound diagnosis apparatus having an analysis algorithm capable of observing a fine abnormal lesion present in homogeneous tissue such as the a progress degree of cirrhosis by utilizing the statistical property of a speckle pattern, smoothing an image, and extracting a microstructure.例文帳に追加

スペックルパタンの統計的性質を利用して画像の平滑化を行い、微小構造物を抽出することで、肝硬変の進行度をはじめ、均質な組織構造の中にある微小な異常病変を観察することが可能な解析アルゴリズムを具備した超音波診断装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified negative resist film, which composition is effectively sensitive to EB (electron beam) or EUV (extreme ultraviolet radiation) and excellent in roughness, etching resistance, and sensitivity and which composition stably forms a highly precise fine pattern.例文帳に追加

ＥＢ（電子線）又はＥＵＶ（極紫外線）に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、及び感度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成することのできる化学増幅型のネガ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming a fine pattern, a light shielding film of photomask is brought into contact with a photoresist on a substrate and then pressed against the photoresist thus bringing micro openings, formed by the light shielding film, close to the photoresist before the photoresist is exposed with evanescent light.例文帳に追加

微細パターン作製方法において、フォトマスクの遮光膜を、基板上のフォトレジストに接触させた後、さらに押し付け、遮光膜によって形成された微小開口と前記フォトレジストとの距離を近付けてから、エバネッセント光によってフォトレジストを露光するように構成する。 - 特許庁

The method for forming the fine pattern of the semiconductor device includes pretreating a top portion of a photoresist film with an alkane or alcohol solvent in the immersion lithography process and forming an over-coating film, whereby a uniform over-coating film can be formed with a small amount of the solvent.例文帳に追加

液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 - 特許庁

Then, the semiconductor crystal is dry-etched by using the mask to form a primary fine pattern on the semiconductor crystal.例文帳に追加

次いで、上記マスクを用いて上記半導体結晶をドライエッチングすることで上記半導体結晶上に１次微細パターンを形成し、上記１次微細パターンが形成された半導体結晶をウェットエッチングすることで上記１次微細パターンが水平方向に延びた２次微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a processing method having sufficient etching resistance and capable of closely transferring a formed pattern formed by self-organization and obtain a formed body in a fine processing technology using an etching mask formed by self-organization of a block copolymer.例文帳に追加

ブロックコポリマーの自己組織化より形成されるエッチングマスクを用いた微細加工技術において、十分なエッチング耐性を有し、しかも自己組織化により形成されるパターンを忠実に転写することができる加工方法及び成形体を提供することを目的とする。 - 特許庁

This invention concretely provides the method for forming the semiconductor structure including a plurality of fin FET devices, and provides a method for using a mask getting across it together with a chemical oxide removing (COR) process when a rectangular pattern is formed to demarcate a relatively fine fin.例文帳に追加

具体的には本発明は、複数のフィンＦＥＴデバイスを含む半導体構造を形成する方法であって、長方形のパターンを形成して相対的に細いフィンを画定する際に、これを横切るマスクを、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスとともに使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable resin composition capable of easily producing a cured product having high surface hydrophilicity despite having unswelling tendency to water and giving extremely fine structure through active energy ray pattern exposure.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、水に対して非膨潤性でありながら高い表面親水性を示し、且つ活性エネルギー線のパターン露光によって極めて微細な構造を有する硬化物を容易に形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and a apparatus for electrolytic plating of a substrate in which copper can be imbedded in a fine wiring pattern by using plating solution of high uniform electrodeposition property and high leveling property, the plating film thickness is substantially equal for both a wiring part and a non-wiring part, and CMP is easy.例文帳に追加

均一電着性及びレベリング性が高いめっき液を使用して微細配線パターン内への銅の埋込みを達成でき、しかも配線部と非配線部でめっき膜厚がほぼ等しくなって、ＣＭＰが容易な基板のめっき方法及びめっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coupling structure of a conductive particle for a connection member which has excellent connection realibility of a microelectrode, has high insulation properties between adjacent electrodes in a narrow space, has low connetion resistance, and provides connection with high long-term reliability when fine pattern wiring is electrically connected.例文帳に追加

微細パターン配線の電気的接続において、微小電極の接続信頼性に優れると共に、狭スペースの隣接電極間の絶縁性が高く、接続抵抗が低く、長期信頼性の高い接続を可能にする接続部材のための、導電粒子の連結構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of clearly forming a fine pattern made of a functional material on a base material with a small number of processes, to provide a method of simply and efficiently manufacturing a composite material using the former method, and to provide the composite material obtained by the method and usable in an extensive field.例文帳に追加

基材上に、機能性材料からなる微細なパターンを、鮮明に且つ少ない工程で形成する方法、当該方法を用いて複合材料を簡易に効率よく製造する方法、及び前記方法で得られる広範な分野で利用可能な複合材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition which is superior in color characteristic, fine-pattern forming capability and properties after curing, a pigment dispersed composition for preparing the photosensitive coloring composition, and a color filter and a liquid crystal display in which picture elements, especially blue picture elements, are formed by using the resin composition.例文帳に追加

色特性、微細パターン形成能、さらには硬化後物性にも優れた感光性着色組成物、その調製に用いる顔料分散組成物、当該樹脂組成物を用いて画素、特に青色画素を形成したカラーフィルター及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加

任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composite member, having high flexibility in the design of a conductive circuit, with no influence on selecting the material of an insulator or molding and processing the insulator at a low cost, having no abnormal deposition of a metal on the insulator and being capable of easily forming a conductive part that has a fine pattern.例文帳に追加

導電回路設計の自由度が高く、低コストで絶縁部の材料選択性や成形加工性に影響を及ぼさず、かつ絶縁体への金属の異常析出がなく微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材を提供する。 - 特許庁

To provide an optical functional sheet that can form a fine pattern without requiring strict parallelism of incident light and that can be used for a liquid crystal display, in particular, a reflective or transflective liquid crystal display performing image display using reflected external light, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

厳密な入射光の平行性を必要とせずに微細パターンを形成可能な、液晶ディスプレイ、特に外光の反射光を利用して画像表示を行う反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイに使用される光学機能シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light guide plate, and a method of manufacturing the same, having a perfect uniform-brightness fine pattern formed on a reflecting face in comparatively short time (shortening of processing time) through prevention of printing omission at an edge part of the light guide plate that is a problem in screen printing.例文帳に追加

本発明は、スクリーン印刷の問題点である導光板の縁部の印刷漏れを防止し、比較的短時間（加工時間の短縮化）で反射面に完全な輝度均斉化微細パターンを形成した導光板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a developing liquid for photosensitive resin composition for forming a fine pattern while suppressing the load on a resist coating film made of the photosensitive resin composition, and to provide a printed wiring board and a semiconductor package having high reliability by using the liquid for development.例文帳に追加

感光性樹脂組成物からなるレジスト塗膜への負荷を押さえ、よりファインパターンを形成できる感光性樹脂組成物用現像処理液を提供し、さらにはこれを現像に用いた信頼性の高いプリント配線板、半導体パッケージを提供することにある。 - 特許庁

To precisely detect the relative position of an object surface to the focal point position of an objective lens substantially without any influence of diffraction light from the object surface even when a fine wiring pattern is formed on the surface of the object such as a semiconductor element or a liquid crystal display element.例文帳に追加

半導体素子や液晶表示素子のように微細な配線パターンが形成された物体面の場合にも、物体面からの回折光の影響を実質的に受けることなく、対物レンズの焦点位置に対する物体面の相対位置を高精度に検出する。 - 特許庁

To provide a manufacture method of a multiyear printed wiring board where the thickness of a metal layer on the surface of an insulating layer is thinned and a conductor layer is formed of a fine circuit pattern, while the thickness of a metal layer in a via hole is secured and connection reliability between the conductor layers is secured.例文帳に追加

ビアホール内の金属層の厚みを確保して導体層間の接続信頼性を確保しながら、絶縁層の表面の金属層の厚みを薄くして微細回路パターンで導体層を形成することができる多層プリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing an adhesive sheet, which can produce an inexpensive adhesive sheet having large adhesive force even in the same used amount of glue and reduced in the used amount of glue, by freely controlling and forming a fine-pitch uneven pattern on an adhesive layer of the adhesive sheet.例文帳に追加

粘着シートの粘着剤層に、微細ピッチな凹凸パターンを自在に制御、形成し、同一の糊使用量であっても粘着力が大きく、また、糊使用量低減で安価な粘着シートを製造できる粘着シートの製造方法及び粘着シートの製造装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an arch-like or ring-like irradiation beam by providing a scattering device, which checks diffusion of irradiation beam to a projection system with which the pattern image of a mask in a lithography projection system is irradiated on a substrate and forming a fan-like curved line by reflecting a fine collimated incident beam.例文帳に追加

リソグラフ投影装置におけるマスクのパターンイメージを基板に照射する投影システムに照射ビームの拡散を制御する散乱装置を設けて、細いコリメート入射ビームを反射させて扇曲線形とすることにより、アーチ状あるいはリング状の照射ビームを得る。 - 特許庁

To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.例文帳に追加

３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography method in which drawing of a fine pattern can be made in high precision as prescribed on all surface of a substrate, and in a deflection control by a triangular wave deflection signal, drawing operation by electron beams is corrected and a photosensitized drawing of a prescribed element shape can be made rapidly and precisely with a constant dose.例文帳に追加

微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the roller with fine pattern includes a step S101 for casting a ceramic layer on a surface of the roller, steps S102 and S103 for grinding and polishing the surface of the roller, a step S104 for forming patterns on the surface of the roller by a laser, and a step for washing the surface of the roller.例文帳に追加

精密な模様を有するローラーの製造方法は、ローラー表面上にセラミック層を鋳造するステップと、前記ローラーの表面を研削及び研磨するステップと、レーザーでローラー表面に模様を形成するステップと、ローラー表面を洗浄するステップとを含む。 - 特許庁

To obtain a high density semiconductor device, and a method of fabrication, by forming plugs and an interconnection readily for a fine pattern when conductive plugs buried in contact holes and an interconnection are formed simultaneously.例文帳に追加

本発明は、コンタクトホールに埋め込んだ導電性プラグと溝を利用した配線を同時に形成する際に、微細なパターンに対して容易にプラグと配線を形成することが可能となり、その結果、高密度な半導体デバイスを作製することができる半導体装置および半導体装置製造方法を得る。 - 特許庁

In this case, since the maximum area S2 of a dropping cross section CS of the molten glass is ≥0.64 time and ≤4.0 times an arrangement area Sp of a concave-convex pattern CP which is a fine structure, the molten glass can be allowed to collide onto the lower die 1 as a glass drop GD having a sufficiently large size.例文帳に追加

この際、溶融ガラスの滴下断面ＣＳの最大面積Ｓ２が、微細構造である凹凸パターンＣＰの配置面積Ｓｐの０．６４倍以上４．０倍以下であるので、溶融ガラスを十分大きなサイズを有するガラス滴ＧＤとして下型１上に衝突させることができる。 - 特許庁

To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁