「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

One side of a semiconductor wafer is polished to comparatively higher degree that is suitable for making a fine pattern by a lithography process, and the other side thereof is polished to comparatively low degree, that is appropriate to provide alignment marks WM3 and WM4 effective for arranging wafers in the lithography process.例文帳に追加

一方の側を、リソグラフィ・プロセスによって微細パターンを作り出すために適した比較的高い程度にまで研磨し、他方の側を、比較的低い程度であるが、それでもリソグラフィ・プロセス中にウェハを整列させるために有効なアラインメント・マークを備えるのに適している程度にまで研磨する。 - 特許庁

To provide a technology of preventing occurrence of void at an edge part when a controller and an image forming engine respectively provided from manufacturers between which a code system of an arrangement pattern of fine pixels used for promoting a high resolution of pixels cannot be shared with each other and are mounted and activated on one and same composite machine.例文帳に追加

画素の解像度化に用いる微画素の配列パターンのコード体系を共有化し得ていないメーカから夫々提供されるコントローラと画像形成エンジンとを同一の複合機に搭載させて稼動させる場合におけるエッジ部の白抜けの発生を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for an inkjet which is coated by an inkjet system, is optically settable with efficiency even if exposure is low, and further, can make thermosettability after optical setting satisfactory, thus can form a fine resist pattern with high precision.例文帳に追加

インクジェット方式により塗工される硬化性組成物であって、露光量が少なくても、効率的に光硬化させることができ、更に光硬化後の熱硬化性を良好にすることができ、従って微細なレジストパターンを精度よく形成することができるインクジェット用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a blank for a reflective photomask and a manufacturing method thereof, and a reflective photomask and a manufacturing method thereof, in and by which the blank and the photomask are clean against an outgas component present in a resin-made mask case and a clean room environment, cause no contamination of the inside of an exposure device and allow a fine pattern to be formed.例文帳に追加

樹脂製マスクケースやクリーンルーム環境中に存在するアウトガス成分に対して清浄で露光装置内部を汚染することのなく、微細なパターン形成ができる、反射型フォトマスク用ブランク及びその製造方法並びに反射型フォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mechanism of laminate device pressurization capable of easily obtaining a stable and fine pressure control pattern for an extensive pressure control range of a thermo-compression bonding step, obtaining high control accuracy over the extensive pressure control range from a low pressure to a high pressure, and enhancing the quality of an IC card or the like.例文帳に追加

熱圧着工程等の広い圧力制御範囲に対する安定した細かな圧力制御パターンを容易に得るとともに、低圧から高圧までの広い圧力制御範囲全体における高度の制御精度を得、ＩＣカード等の更なる品質向上を図る。 - 特許庁

On the frame of the replaceable part such as a process unit, a toner cartridge, a tone bolt to be used in the state of being attachable and detachable to/from the device main body of the image forming apparatus such as the electrostatic copying device, the printer, a hologram (container identification code) 7 having the light reflecting layer of a fine recessed and projecting pattern 71 is carved.例文帳に追加

静電式複写装置、プリンタなどの画像形成装置の装置本体に対して着脱自在に使用されるプロセスユニット、トナーカートリッジ、トナーボトルなどの交換可能部品の枠体上に、微細な凹凸模様７１の光反射層を有するホログラム（容器識別コード）７を刻設する。 - 特許庁

To provide a metallic pattern forming method capable of forming fine metallic patterns, without performing etching process and forming the metallic patterns having superior adhesiveness between a base material and a metal film and having a high thermal resistance, even when there is little irregularities of the base material interface.例文帳に追加

エッチング工程を行うことなく微細な金属パターンの形成が可能であり、且つ、基材界面の凹凸が少ない場合でも基材と金属膜との密着性に優れた耐熱性の高い金属パターンを形成しうる金属パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive substrate which is adjusted so as to obtain a product having uniform quality even if an unevenness is caused in the intrasurface reflectance of a substrate when a fine pattern is formed using the photosensitive substrate obtained by disposing a photoresist layer on the substrate by way of an organic antireflection layer.例文帳に追加

基板上に有機反射防止層を介してホトレジスト層を設けた感光性基材を用いて微細パターンを形成する際に、基板の面内の反射率にバラツキを生じても品質の一定した製品が得られるように調整された感光性基材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film with improved yields without losing appearance quality by accurately forming a fine line having a line width of 50 μm or smaller without any defects, such as variations in line width and disconnection, when printing a shield pattern by a screen print method.例文帳に追加

スクリーン印刷法によりシールドパターンを印刷する際に、線幅５０μｍ以下の微細なラインを正確に、線幅のばらつきや断線といった欠陥なく形成し、外観品質を損なうことなく、且つ歩留まりよく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a circuit wiring board having a minute fine pitch, high dimension accuracy and reliability of bonding between a circuit wiring and an insulating resin layer by preventing the deterioration of dimension accuracy of a wiring having formed pattern which is caused by heat treatment in a process of manufacturing the circuit wiring board.例文帳に追加

回路配線基板の製造過程における加熱処理によって生じるパターン形成された配線の寸法精度の低下を防止し、微細なファインピッチで、寸法精度が高く、しかも回路配線と絶縁樹脂層との密着信頼性が高い回路配線基板を製造する。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

To provide an excellent method for manufacturing a colored and patterned mold capable of easily forming a colored pattern in which fully interesting fine recesses and projections are colored at a low cost and flexibly changing the specifications, and the colored and patterned mold obtained by it.例文帳に追加

低コストで簡単に、興趣に富む微細な凹凸に着色を施した着色模様を形成することができ、しかもその仕様を柔軟に変更することのできる、優れた着色模様付成形体の製法と、それによって得られる着色模様付成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a mold with fine convexo-concave patterns where production can be achieved in a simple manufacturing process with a good repeatability, and both warpage and bending due to repetitive use can be handled, and to provide methods for manufacturing the mold, transcribing a convexo-concave pattern, and manufacturing a material with concaves.例文帳に追加

簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a copper conductor paste composition, a manufacturing method and electronic parts using the copper conductor paste composition dispensing with doping of oxygen and fine adjustment by allowing a baking method to be adopted in an inert atmosphere to form a conductor pattern or a terminal electrode on a ceramic board or a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

セラミック基板や、積層セラミックコンデンサーに導体パターンあるいは端子電極を形成するのに、不活性雰囲気下での焼成法が採用でき、酸素のドープ、微調節を不要とした銅導体ペースト組成物、その製造方法及びそれを用いてなる電子部品の提供。 - 特許庁

To provide a field emission type cold cathode and a manufacturing method of the same capable of flattening a surface of an electron emission layer on an entire substrate without unevenness, constantly controlling an interval between a positive electrode and the electron emission layer of the cold cathode at a predetermined interval, and creating a fine pattern.例文帳に追加

電子放出層の表面が凹凸を生じることなく基板全体で平坦化され、陽極と冷陰極の電子放出層との間の間隔を所定の間隔で一定に制御でき、かつ微細なパターンを作成できる電界放出型冷陰極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The water-repelling fabric, water-repelling products and their production method is a fabric including at least synthetic fiber multifilament having a water-repellency of ≥3 according to JIS L1092 method after 20 times washing and fine line design pattern is engraved on the surface of the fabric.例文帳に追加

合成繊維のマルチフィラメントを少なくとも含む布帛であって、該布帛は洗濯２０回後のＪＩＳ Ｌ１０９２法の撥水度が３以上であり、かつ、布帛の表面に細線の柄模様が印刻されていることを特徴とする撥水布帛、撥水製品およびその製造方法。 - 特許庁

The method may also comprise the steps of coating a paint obtained by kneading the diamond powder of 10 to 15 microns with a glaze of 1.0 g on the surface of a biscuit firing porcelain material, and backing the material at 800 to 900°C, thereby displaying the picture pattern irradiated with the reflected light of the diamond fine particles on the surface of the porcelain.例文帳に追加

釉薬１．０ｇに１０〜１５ミクロンのダイヤモンドパウダーを０．ｌ〜０．３ｇの割合で混練した塗料を素焼き陶磁材表面に塗布し、８００〜９００℃で焼成して陶磁器表面にダイヤモンド微粒子の反射光を帯びた絵模様を表すこともできる。 - 特許庁

A method for forming the copper electric wiring on the substrate having the fine circuit pattern and a metal seed layer formed thereon for the electronic circuit, comprises immersing the substrate in a treatment liquid containing a polymer component, and subjecting it to electroless copper plating.例文帳に追加

微細な回路パターンが設けられ、金属シード層が形成された電子回路用基板に銅配線を形成する方法であって、該基板をポリマー成分を含有する処理液に浸漬した後、無電解銅めっきを行うことを特徴とする基板の銅配線形成方法。 - 特許庁

To provide a fine processing method capable of improving the uniformity of a substrate surface processed in a short time simply and effectively and thereby improving close contact performance between the substrate and a variety of thin films and enabling the prevention of the defective development of a resist film and the improvement of a pattern shape.例文帳に追加

短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。 - 特許庁

To remotely monitor, with high accuracy, the transmission picture quality on a transmission line based on a picture quality feature amount of video in each spot even when transmitting video of fine pattern and fast movement or the like on the transmission line including a system conversion apparatus.例文帳に追加

方式変換装置を含んで構成された伝送路上を、絵柄が細かく動きが激しい映像などが伝送される場合であっても、各地点における映像の画質特徴量に基づいて伝送路上の伝送画質を高精度に遠隔監視できるようにすること。 - 特許庁

A fine wiring pattern of developed silver generated by a photographic method is provided on one surface of the transparent base material, and a plurality of kinds of metal plating layers selected from among a group of metals consisting of copper (Cu), nickel (Ni) and iron (Fe) are formed on the developed silver layer, thereby manufacturing the electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

前記透明基材の片面に、写真製法により生成された現像銀層の細線パターンを配設し、前記現像銀層の上に、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）からなる金属群の中から選択された複数種類の金属メッキ層を積層して、電磁波シールド材を製造する。 - 特許庁

To enhance a yield by measuring a surface roughness of a wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, and by preventing the yield from getting worse caused by dispersions of file thicknesses and film qualities among the wafers, in a wafer surface inspection method and a wafer surface inspection device.例文帳に追加

ウェハの表面検査方法及び表面検査装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

In this resist development method for forming the fine pattern of a resist film on a substrate, a resist film is formed with chemical amplification system resist, and an alternating electric field is applied to a resist film on the substrate after an exposure process to expose the resist film and before the resist development process.例文帳に追加

基板上にレジスト膜の微細パタンを形成するレジスト現像方法において、レジスト膜を化学増幅系レジストで形成するとともに、レジスト膜を露光する露光工程の後で、かつ、レジスト現像工程の前に、基板上のレジスト膜に交番電界を印加する。 - 特許庁

To solve inconvenience caused by the fact that a wiring is disconnected during sintering on account of unevenness of thickness of the wiring when printing is performed in a ceramics multilayer wiring circuit board which is formed by a method wherein a fine wiring pattern is formed on a green sheet by screen printing and sintering is performed after lamination and contact- bonding are performed.例文帳に追加

微細な配線パターンをグリーンシート上にスクリーン印刷で形成して、積層圧着後、焼結して製造するセラミックス多層配線回路基板に於いて、印刷時の配線の厚さの凹凸に起因して、焼結中に配線が断線するという不都合を解決する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition excellent in sensitivity, heat resistance, chemical resistance, process stability, formability and flatness, and capable of forming a highly fine pattern having a smooth surface and a high dimensional precision and containing little impurities, and to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

高感度であり、耐熱性、耐薬品性に優れ、プロセス安定性が高く、形状が良好で平坦性に優れ、パターン表面の荒れの少なく、不純物の混入が少なく寸法精度の高い高精細なパターンを形成できる感光性着色組成物及びカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy.例文帳に追加

レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A photomask 1 comprises a pillar mask base substance 2 made of materials passing exposure light and with at least the circumference partially built in a form of circular arc and a fine pattern 3 whose opening width smaller than the wavelength of the exposure light produced at the circular arc of the circumference of the mask substrate 2.例文帳に追加

フォトマスク１は、露光光を透過する材料で形成されて少なくとも外周面の一部が円弧形状に形成された柱状のマスク基体２と、マスク基体２の外周面の円弧形状部分に形成された露光光の波長以下の開口幅の微細パターン３とを具備する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加

液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an anisotropic conductive adhesive film that has an excellent electric connectivity of a very small-area electrode, hardly causes a dielectric breakdown (short) between fine wirings, makes an electric connection with a long-term reliability and has a high storage stability in an electric connection of minute pattern.例文帳に追加

微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊（ショート）が起こりにくく、長期信頼性を与える接続が可能な、保存安定性の高い回路接続用異方導電性接着フィルムの提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an anisotropic conductive adhesive film that has an excellent electric connectivity of very small-area electrode, hardly causes a dielectric breakdown (short) between fine wirings, makes an electric connection with a long-term reliability and has a high storage stability in an electric connection of a minute pattern.例文帳に追加

微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊（ショート）が起こりにくく、長期信頼性を与える接続が可能な、保存安定性の高い異方導電性接着フィルムの提供すること。 - 特許庁

To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加

マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence element in which a luminous pattern of fine line width can be formed in any shape, and improvement of manufacturing efficiency and reduction of manufacturing cost can be made by forming easily a layer of uniform thickness, and a manufacturing method of the organic electroluminescence element.例文帳に追加

微細な線幅の発光パターンを任意の形状に形成可能であり、しかも層厚が均一な層を容易に形成して生産効率の向上や、製造コストの低減が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a solvent composition for production of a multilayer ceramic component, which allows a binder resin such as ethyl cellulose to offer a binder performance enough, a fine pattern or thin film to be formed with a good precision without erosion to a member to be coated, and which is easy to evaporate and dry.例文帳に追加

エチルセルロース等のバインダー樹脂のバインダー性能を十分に発揮させることができ、被塗布面部材への侵食を生じることなく微細パターン又は薄膜を精度良く形成することができ、且つ、蒸発乾燥が容易である積層セラミック部品製造用溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure, a lactone solvent and a hydroxycarboxylic acid based solvent.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

To provide a laser beam machining process capable of not generating a byproduct, machining in high precision/fineness, suppressing specter interference in mask projecting, precisely machining a fine mask pattern and projecting/ irradiating a large scale area pattern, a manufacturing method of an ink jet recording head by using the laser beam machining method and the ink jet recording head manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

副生成物の発生がなく、高精細に加工することができ、マスク投影加工を行うに際して、スペックル干渉を抑制し、微細なマスクパターンを正確に加工することができ、大面積のパターンを投影照射して被加工物を加工することができるレーザ加工方法、該レーザ加工方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法、該製造方法で製造されたインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device capable of forming a low-resistance metallic semiconductor contact with an excellent reproducibility and excellent adhesive properties, by using a lift-off method proper to the formation of a fine pattern without an oxidation process and a heat treatment process; and to provide the semiconductor device manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

酸化工程や熱処理工程を行うことなく、微細パターン形成に適したリフトオフ法を用いて低抵抗金属半導体接触を密着性良く、かつ再現性良く形成することが可能な半導体装置の製造方法及びその製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

At least one fine groove having a flask-type cross-section shape of which the wall extends toward a groove bottom is provided in the peripheral direction of the pneumatic radial tire having a tread pattern arranging a plurality of land parts divided by longitudinal grooves extending along the peripheral direction of the tire and lateral grooves crossing these longitudinal grooves.例文帳に追加

タイヤの周方向に沿って延びる縦溝とこの縦溝に交差する横溝とによって区画された陸部を複数配列したトレッドパターンを有する空気入りラジアルタイヤの周方向に、溝壁が溝底に向けて拡大するフラスコ状の断面形状を有する少なくとも１本の細溝を設ける。 - 特許庁

To perform a test by using a tensile-testing apparatus that is universally used for a fine test piece regarding a tool for testing the strength of micro junction such as the solder junction section of electronic components and a conductive pattern junction section formed on a printed circuit board and a bond section.例文帳に追加

本発明は電子部品のはんだ接合部やプリント回路基板上に形成された導体パターン接着部などのマイクロ接合および接着部の強度を試験するための治具に関し、微細な試験片に対して汎用されている引張試験装置を用いて試験を行ないうるようにすることを課題とする。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING NANOCARBON AND NANOCARBON PRODUCED USING THE SAME, COMPOSITE MATERIAL OR MIXED MATERIAL EACH CONTAINING NANOCARBON AND METALLIC FINE PARTICLES, DEVICE FOR PRODUCING NANOCARBON, METHOD FOR FORMING PATTERN OF NANOCARBON AND PATTERNED NANOCARBON SUBSTRATE USING THE SAME, AND ELECTRON EMISSION SOURCE USING PATTERNED NANOCARBON SUBSTRATE例文帳に追加

ナノカーボンの製造方法及びその方法を用いて製造されたナノカーボン及びナノカーボンと金属微粒子を含む複合材料又は混合材料，ナノカーボンの製造装置、ナノカーボンのパターン化方法及びその方法を用いてパターン化されたナノカーボン基材及びそのパターン化されたナノカーボン基材を用いた電子放出源 - 特許庁

In the method for producing a fine pattern, the photosensitive resin composition is shaped into a film by casting and drying on a substrate, and this film is exposed through a photomask, developed with alcohol, glycol or monoalkyl ether of glycol, and subjected to dehydration ring closure by heating or with a cyclodehydrating reagent to form a polyimide film having a repeating unit represented by formula (2).例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物を基板上に流延・乾燥して製膜し、フォトマスクを介してこれを露光し、アルコール、グリコールまたはグリコールのモノアルキルエーテルで現像後、加熱あるいは脱水環化試薬を用いて脱水閉環して、式（２）で表される繰り返し単位を有するポリイミド膜とする微細パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加

アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide-metal laminated sheet manufactured by an easy method equivalent to a conventional technology, excelling in peeling strength of a metal layer and a polyimide layer even if using metallic foil of low degree of roughness, forming a fine wiring pattern, and hardly deformed or peeled off even if mounting components and elements at a high temperature.例文帳に追加

従来技術と同等の容易な方法により製造でき、低粗度の金属箔を用いても金属層とポリイミド層とのピール強度に優れ、微細配線パターンを形成でき、かつ、高温での部品、素子実装に際しても変形や剥離が発生しないポリイミド金属積層板を提供すること。 - 特許庁