implantsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 159件
The implant cavity forming jig for implants is constituted of at least two kinds of osteotomes for forming an implant cavity 12 to attach the fixture 1, having a shape in which a large-diameter part 3 with a diameter larger than that of a small-diameter part 2 continues from the cylindrical small-diameter part 2 at the end, on a maxilla 13.例文帳に追加
先端部に円筒形状の小径部２及び小径部２より大径の大径部３が連続した形状を有するフィクスチャー１を取り付けるための埋入窩１２を、顎骨１３に形成するための二種類以上のオステオトームから構成されるインプラント用埋入窩形成治具である。 - 特許庁
To provide implants that can be introduced through microcatheters into small-lumen vessels, that are well placeable and relocatable, that can be moved back into the microcatheter in case of need, and that are suited to cover vessel aneurism and fistulae in such a manner that these can be filled with occlusion agents.例文帳に追加
マイクロカテーテルを通して管腔径の小さい血管に導入することもでき、配置及び位置換えが十分可能であり、必要な場合にはマイクロカテーテル内に引き戻すことができ、血管内の動脈瘤やフィステルが閉塞物質で満たされ得るような態様でそれらに被せるに適する移植物を提供する。 - 特許庁
This removable closure unit for axial bone consolidation implants 2 is provided with a main body 3 which is substantially axially symmetrical, an internal seat 5 provided at a first end 4 of the main body 3 for coupling to a movement tool and coupling elements 7 provided at a second end for coupling to a terminal receptacle 8 of the axial implant 2.例文帳に追加
骨の強化をなす軸方向インプラント２のための取り外し可能な閉塞ユニットは、実質的に軸線対称をなす本体３と、本体３の第１端部４に設けられ、動作ツールに結合する内部座５と、第２端部に設けられ、軸方向インプラント２の端受け部８に結合する結合要素７とを備える。 - 特許庁
To provide a dental implant connecting and holding plate capable of shortening tooth regeneration healing period by improving safety and certainty when perforating a dental implant bed and improving holding stability of the dental implant when embedding the plurality of dental implants in the jawbone in order to perform the a tooth regeneration procedure when the tooth is lost.例文帳に追加
歯牙欠損時の歯牙再生術を行なうため、顎骨に複数の人工歯根を埋入する際に、人口歯根床を穿孔する際の安全確実性の向上、および人口歯根の保持安定性の向上により、歯牙再生治癒期間の短縮化を可能とする人工歯根連結保持プレートを提供する。 - 特許庁
The invention relates to: a method for sterilizing the envelope made of film for holding articles, foods, cosmetics, medical implants, medical plasters, medical auxiliaries, microbiological tools or a pharmaceutical active substance formulation; a method for testing the leaktightness of the envelope made of film sterilized by electron radiation or gamma radiation; and the envelope made of film for use in the methods.例文帳に追加
物品、食品、化粧品、医療移植片、医療用石膏、医療用補助器具、微生物学的道具又は医薬活性物質製剤を保持するためのフィルム容器を滅菌する方法、電子放射線或いはガンマ放射線によって滅菌されたフィルム容器の耐漏えい性を試験する方法、及びこれらの方法に用いられるフィルム容器を用いる。 - 特許庁
The manufacturing object includes the MG-TTZ ceramic bodily implants or implant components for an integral knee, such as a femoral component for a posterior stabilized knee implant, a femoral component frame for a rotational knee, a cruciate-retaining femoral component, a unicompartmental femoral component condylar implant for knee.例文帳に追加
後方安定型膝内植組織のための大腿骨部材、回転膝の大腿骨部材フレーム、膝用の十字靭帯温存の大腿骨部材、膝用の単房の大腿骨関節丘部材などの一体な膝用のＭＧ−ＴＴＺのセラミックの義肢内植組織または義肢内植組織部材を含む製造物品に関し、その形状を特徴とする。 - 特許庁
To provide a positioning device for bone nails that can precisely tell the direction of insertion and induction of lag screws, guide pins, and other materials in positioning to introduce implants such as lag screws, and that can predict beforehand the direction of insertion and induction before inserting guide pins, lag screws and the like.例文帳に追加
ラグスクリュウなどのインプラントを導入するための位置決め作業に際して、ガイドピン、ラグスクリュウその他の部材の挿入方向や導入方向を正確に知ることができ、また、ガイドピン、ラグスクリュウその他の部材を挿入したり導入したりする前に予め予め挿入方向や導入方向の予想を行うことが可能な髄内釘の位置決め装置を提供する。 - 特許庁
A second ion implanting process (c1) implants the additional function layer 4 with ions at its surface as much as the total dose in the first and second planting processes exceeding the critical dose at the same deposition depth position as that in the first ion implanting process, thus making the peel-expected ion implanted layer 3 into a peeling ion implanted layer 3'.例文帳に追加
第２のイオン注入工程（ｃ１）で、付加機能層４の表面側から第１のイオン注入工程でイオン注入されたのと同じ深さ位置となるように、第１のイオン注入工程でイオン注入されたドーズ量と合わせて臨界ドーズ量以上となるドーズ量のイオンを打ち込むことにより剥離予定イオン注入層３を剥離用イオン注入層３’とする。 - 特許庁
A memory peripheral circuit generates a first voltage (drain voltage Vd) and a second voltage (gate voltage Vg), applies Vd to the second source-drain region SBL and Vg to the word line WL during the data writing operation, and implants the hot-electron HE secondarily generated due to collision by electrolytic dissociation to the charge accumulating film CHS from the side of the second source-drain region SBL.例文帳に追加
メモリ周辺回路は、データの書き込み時に、第１の電圧（ドレイン電圧Ｖｄ）と第２の電圧（ゲート電圧Ｖｇ）を生成し、Ｖｄを第２のソース・ドレイン領域ＳＢＬにＶｇをワード線ＷＬに印加し、電離衝突に起因して２次的に発生させたホットエレクトロンＨＥを第２のソース・ドレイン領域ＳＢＬ側から電荷蓄積膜ＣＨＳに注入させる。 - 特許庁
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