「insulating layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The heat resistant insulating layer is formed so as to cover the insulating substrate and the heater.例文帳に追加

耐熱絶縁層は、絶縁基板と発熱体とを覆うように形成される。 - 特許庁

(1) The nasal mask itself has a heat insulating property or is constituted by inserting a heat insulating layer therebetween.例文帳に追加

（１）鼻マスク自体を断熱性とするか、断熱層を挟んで構成する。 - 特許庁

Then, a groove at least from the second inter-layer insulating layer into the first inter-layer insulating layer is disposed in the region of the first and second inter-layer insulating layers corresponding to the element isolation region.例文帳に追加

そして、少なくとも第２の層間絶縁層から第１の層間絶縁層内に達する溝が素子分離領域に対応する第１及び第２の層間絶縁層の領域に配されている。 - 特許庁

The insulating container provides an inner layer 2 and an external layer 3, which are sheet-made of mainly a pulp, and provides an insulating layer 4 formed with an insulating material between the inner layer 2 and the outer layer 3.例文帳に追加

パルプを主体として抄造された内層２及び外層３を備えているとともに内層２と外層３との間に断熱材で形成された断熱層４を備えている断熱容器である。 - 特許庁

The shielding material 10 includes a flexible insulating layer 11, a conductive layer 12 made of metal foil stacked on an upper surface of the insulating layer 11, and an adhesive layer 14 provided on a lower surface of the insulating layer 11.例文帳に追加

可撓性の絶縁層１１と、絶縁層１１の上面に積層する金属箔の導電層１２と、絶縁層１１の下面に設ける接着層１４とを備えるシールド材１０を構成する。 - 特許庁

This fixing roller is provided with a 1st insulating layer 2, a heat insulating layer 3, a heating element 4, a 2nd insulating layer 5, a mold- released layer base substance 6 and a mold-released layer 7 on the outer peripheral surface of a core bar 1 in this order.例文帳に追加

定着ローラを、芯金１の外周面に第１絶縁層２、断熱層３、発熱体４、第２絶縁層５、離型層基体６、離型層７の順に設けたものとする。 - 特許庁

A 2nd insulating layer 5 is arranged, which has a semiconductor- layer-top insulating layer 5a of a specified width about at the central part of a semiconductor layer 4 and is also formed to be patterned on a gate insulating layer 3.例文帳に追加

本発明は、半導体層４のほぼ中央部に所定幅の半導体層上絶縁層５ａを有すると共にゲート絶縁層３上にパターン化して形成される第２の絶縁層５を設ける。 - 特許庁

There are laminated on an insulating substrate a first insulating buffer layer, a heat storage light shielding layer including a silicon layer on at least the surface thereof, a second insulating buffer layer, and a first silicon layer in this order from below.例文帳に追加

絶縁性基板上に、第１の絶縁バッファ層、少なくとも表面にシリコン層を有する蓄熱遮光層、第２の絶縁バッファ層及び第１のシリコン層を、この順に下から積層する。 - 特許庁

The anisotropic conductive film is constituted of a 3-layer structure of an ACF layer 11 which is a conductive particle containing layer, an NCF layer 12 which is a first insulating resin layer, and a pressurized flow layer 13 which is a second insulating resin layer.例文帳に追加

導電粒子含有層であるＡＣＦ層１１、第１の絶縁性樹脂層であるＮＣＦ層１２、及び第２の絶縁性樹脂層である押流し層１３の３層構造で構成する。 - 特許庁

This solid cable has an insulating layer 3 in the outer circumference of a conductor 1, an insulating tape containing a polyolefin base resin film is used in at least part of the insulating layer 3, and insulating oil is impregnated in the insulating layer 3.例文帳に追加

導体１の外周に絶縁層３を具え、その絶縁層３の少なくとも一部ににポリオレフィン系樹脂フィルムを含む絶縁テープを用い、さらにその絶縁層３に絶縁油が含浸されたソリッドケーブルである。 - 特許庁

The coil layer 14 and a coil insulating layer 15 are formed on the lower core layer 10, and the upper core layer 16 is formed from above the lower magnetic pole layer 11 onto the coil insulating layer 15.例文帳に追加

前記下部コア層１０上にコイル層１４及びコイル絶縁層１５を形成し、上部コア層１６を下部磁極層１１上からコイル絶縁層１５上にかけて形成する。 - 特許庁

The first wiring layer 150 includes an insulating layer 156 and first wiring 154 buried in a surface of the insulating layer 156.例文帳に追加

第１配線層１５０は、絶縁層１５６と、絶縁層１５６の表面に埋め込まれた第１配線１５４とを備える。 - 特許庁

The semiconductor device has an SOI substrate structure, comprising a semiconductor support substrate, an insulating layer formed on the semiconductor support substrate, and an SOI layer formed on the insulating layer.例文帳に追加

また、素子破壊に至る許容電力を向上できる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In other words, the impervious heat insulating layer 11 assumes the role of the impervious layer against the inside and outside of the impervious heat insulating layer 11.例文帳に追加

すなわち、不透水断熱層１１は、不透水断熱層１１の内外に対して不透水層としての役割を有する。 - 特許庁

The second conductor layer 58 is sandwiched between a first surface of the first resin insulating layer 50 and a second surface of the second resin insulating layer 60.例文帳に追加

第２導体層５８は、第１樹脂絶縁層５０の第１面と第２樹脂絶縁層６０の第２面で挟まれている。 - 特許庁

A patterned silicon layer 206a and a patterned insulating layer 208 are disposed on the gate insulating layer 204 above a gate 202.例文帳に追加

パターン化シリコン層２０６ａ及びパターン化絶縁層２０８はゲート２０２上方のゲート絶縁層２０４上に配置される。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device capable of forming a large hole on an insulating layer and a metal layer on the insulating layer in a short time.例文帳に追加

絶縁層及びその上の金属層に、短時間で大きな穴を形成することが可能なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

A heat radiation insulating substrate includes a superelastic alloy layer 4 interposed between a first metallic layer 3 and a second metallic layer 5 of the insulating substrate 1A.例文帳に追加

絶縁基板１Ａの第１金属層３と第２金属層５との間に超弾性合金層４が介在されている。 - 特許庁

A second inter-layer insulating film and a third inter-layer insulating film are laminated on a source wiring 10 as the lower-layer wiring.例文帳に追加

下層配線としてのソース配線１０上には、第２層間絶縁膜および第３層間絶縁膜が積層されている。 - 特許庁

The multilayer substrate 2 has the insulating layer 6 of aluminum nitride and a conductive layer 4 of copper formed on the insulating layer 6.例文帳に追加

積層基板２は、窒化アルミニウムの絶縁層６と、絶縁層６上に形成されている銅の導電層４を備えている。 - 特許庁

The first insulating layer 7, which is sandwiched from both sides by second insulating layers 10, is formed thinner than the second insulating layer 10.例文帳に追加

また、第１絶縁層７は、第２絶縁層１０にて両側より挟まれており、第２絶縁層１０より薄く形成されている。 - 特許庁

Insulating minute particles 32 (for example, SiO_2 particles) of which the hardness is larger than that of the insulating layer 31 are embedded into the insulating layer 31.例文帳に追加

絶縁層３１には、絶縁層３１の硬さより硬さの大きい絶縁性微粒子（例えばＳiＯ_2粒子）３２が埋め込まれている。 - 特許庁

The gate insulating layer 5 is formed on the first area of a substrate 1, the CG layer 6 is formed on the gate insulating layer 5, and the first silicide layer 9 is formed on the CG layer 6, respectively.例文帳に追加

ゲート絶縁層５は基板１の第１領域上に、ＣＧ層６はゲート絶縁膜５上に、第１シリサイド層９はＣＧ層６上に、それぞれ設けられる。 - 特許庁

An insulating layer 3 and a gate layer 4 are piled on the conductive layer 2 that is formed on a glass substrate 1, and an opening 5 is formed on the insulating layer 3 and the gate layer 4.例文帳に追加

ガラス基板１上に形成された導電層２上に、絶縁層３及びゲート層４を堆積し、絶縁層３及びゲート層４に開口部５を形成する。 - 特許庁

There is a gap between the insulating layer and the columnar high heat conduction phase, and the insulating layer comprises a first adhesive layer, a film layer, and a second adhesive layer.例文帳に追加

また、絶縁層と柱状の高熱伝導相の間に隙間が存在し、絶縁層が、第一の粘着層、フィルム層及び第二の粘着層からなることを特徴とする。 - 特許庁

The pressing member A is provided with an insulating surface layer 103, at the top surface, a conductive layer 102 beneath the surface layer 103, and an insulating inner layer 101 beneath the conductive layer 102.例文帳に追加

加圧部材Ａが、最表層に絶縁性の絶縁表層１０３、その下に導電性の導電層１０２、更にその下に絶縁性の絶縁内層１０１を有する。 - 特許庁

The wiring structure is provided with an insulating layer having a wiring groove on the surface, a conductor layer arranged in the wiring groove and a barrier layer between the insulating layer and the conductor layer.例文帳に追加

配線構造体は、表面に配線溝を有する絶縁層、配線溝に配設される導体層、及び絶縁層と導体層との間にバリア層を備えている。 - 特許庁

An auxiliary electrode layer 14 is formed on an organic insulating layer 12, and a function layer 13 is formed over the whole surface on the organic insulating layer 12 and auxiliary electrode layer 14.例文帳に追加

有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した後、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に渡って機能層１３を形成した。 - 特許庁

That is, a structural layer includes a layer formed of the same insulating film as the gate insulating layer and a layer formed of the same semiconductor film as the semiconductor layer of the transistor.例文帳に追加

すなわち、構造層は、ゲート絶縁層と同じ絶縁膜から形成された層を含み、かつトランジスタの半導体層と同じ半導体膜から形成された層を含む。 - 特許庁

The display device includes a second insulating layer 408 between the active layer 409 and the first insulating layer 404, the second insulating layer having a hydrogen content of less than 3×10^21 (atoms/cm^3).例文帳に追加

活性層４０９と第１の絶縁層４０４との間に、含有水素量が３×１０^２１（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）未満である第２の絶縁層４０８を有する。 - 特許庁

The third insulating layer and the electrically conductive layer are etched at nearly the same etching rate until the second insulating layer formed on the first insulating layer or the first insulating layer is exposed to make the electrically conductive layer remain in the region where the semiconductor layer is thinned, thereby the gate electrode is formed.例文帳に追加

第１の絶縁層上に形成された第２の絶縁層、又は第１の絶縁層が露出するまで、第３の絶縁層と導電層を略同じエッチング速度でエッチングすることにより、半導体層の薄膜化した領域に導電層を残存させてゲート電極を形成する。 - 特許庁

A region overlapping the conductive material layer 20 between the interlayer insulating layer 26 and the gate insulating layer 22, and the conductive material layer 20 are irradiated with a laser beam, thereby forming a via hole 28 piercing the interlayer insulating layer 26 and the gate insulating layer 22 but not piercing the conductive material layer 20.例文帳に追加

層間絶縁層２６とゲート絶縁層２２との導電材料層２０にオーバーラップする領域と、導電材料層２０とにレーザ光を照射し、層間絶縁層２６とゲート絶縁層２２とは貫通するが、導電材料層２０は貫通しないビアホール２８を形成する。 - 特許庁

A substrate for suspension includes: a metal substrate; a first insulating layer provided on the metal substrate; a first wiring layer 10 provided on the first insulating layer; a second insulating layer provided on the first wiring layer 10; a second wiring layer 12 provided on the second insulating layer.例文帳に追加

サスペンション用基板は、金属基板と、金属基板上に設けられた第１絶縁層と、第１絶縁層上に設けられた第１配線層１０と、第１配線層１０上に設けられた第２絶縁層と、第２絶縁層上に設けられた第２配線層１２と、を備える。 - 特許庁

The heat-insulating layer 3 is formed of a foamed plastic.例文帳に追加

断熱層が発泡プラスチックにて形成されている。 - 特許庁

The insulating barrier layer 5 is formed of Ti-O.例文帳に追加

絶縁障壁層５はＴｉ−Ｏで形成される。 - 特許庁

Each insulating layer 3 is formed of a liquid-crystal polymer.例文帳に追加

前記絶縁層３を液晶ポリマーで形成する。 - 特許庁

The protection sheet 2 is peeled from the insulating layer 6.例文帳に追加

そして、保護シート２を絶縁層６から剥離する。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE WITH THIN METAL LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

金属薄層付き絶縁基板及びその製造法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING HEAT INSULATING LAYER HAVING ARTIFICIAL DEFECT例文帳に追加

人工欠陥を有した遮熱層の形成方法 - 特許庁

The thickness of the insulating layer 6A is 0.15 mm to 0.45 mm.例文帳に追加

絶縁層６Ａの厚さは、０．１５mm〜０．４５mmとする。 - 特許庁

An electrode 14 is provided in the insulating layer 12.例文帳に追加

電極１４は、絶縁層１２に設けられている。 - 特許庁

The insulating layer 12 consists, for example, of polyimide system resin.例文帳に追加

絶縁層１２は、例えばポリイミド系樹脂からなる。 - 特許庁

The semiconductor device comprises: a first insulating layer; a substrate including the first insulating layer and stacked second insulating layers; a semiconductor element provided on the opposite side to the side of the first insulating layer on which the second insulating layers are provided; circuit patterns provided between the first insulating layer and the second insulating layer; and potential parts provided between the first insulating layer and the second insulating layer.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体装置は、第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層と積層された第２の絶縁層と、を有する基板と、前記第１の絶縁層の前記第２の絶縁層が設けられた側とは反対側に設けられた半導体素子と、前記第１の絶縁層と、前記第２の絶縁層と、の間に設けられた回路パターンと、前記第１の絶縁層と、前記第２の絶縁層と、の間に設けられた電位部と、を備える。 - 特許庁

Then, dielectric constant of the outer insulating layer 22 in the insulating layer 2 is higher than that of the main insulating layer 21, and dielectric constant of a rising part 203 of a stress corn part 202 in the reinforced insulating structure 200 is higher than that of the main insulating layer 21.例文帳に追加

そして、絶縁層2における外絶縁層22の比誘電率が主絶縁層21の比誘電率よりも高く、補強絶縁構造200におけるストレスコーン部202の立ち上がり部分203の比誘電率が主絶縁層21の比誘電率よりも高い。 - 特許庁

The memory cell (50) includes a magnetic data storage layer (60), a magnetic reference layer (62), and an insulating layer (64) between the magnetic data storage layer (60) and the reference layer (62).例文帳に追加

メモリセル(50)は、磁気データ記憶層(60)と、磁気基準層(62)と、データ記憶層(60)と基準層(62)との間の絶縁層(64)とを含む。 - 特許庁