「is Ti」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The value of γp(%) satisfies 20 to 65%, which is calculated by formula (1): γp=420X[C]+470X[N]+23X[Ni]+12X[Cu]+7X[Mn]-11.5X([Cr]+[Si])-52X[Al]-49X[Ti]+189, wherein [ ] denotes mass%.例文帳に追加

γp ＝420X[C]+470X[N]+23X[Ni]+12X[Cu]+7X[Mn]-11.5X([Cr]+[Si])-52X[Al]-49X[Ti] +189 ……(1) 。 - 特許庁

Further preferably, Ti alone is incorporated into the aluminum alloy or Ti in combination with 0.0001 to 0.2% B or 0.0001 to 0.2% C is incorporated therein at 0.015 to 0.20% in the concentration of Ti.例文帳に追加

さらにTiを単独で、もしくはB量0.0001〜0.2％あるいはC量0.0001〜0.2％と併用してTi濃度を0.015%〜0.20%含有させると好ましい。 - 特許庁

A Ti/Al electrode 105 is formed on the AlGaN layer 103.例文帳に追加

またn型AlGaN層103上にはTi/Al電極105が形成されている。 - 特許庁

The etching gas CF4O2 for the Ti oxide does not etch Al and no galvanic corrosion is caused between the Ti oxide and Al.例文帳に追加

Ti酸化物のエッチングガスであるCF_4O_2はAlをエッチングせず、また、Ti酸化物とAlとの間には電触が発生しない。 - 特許庁

Because the titania whisker has proton between Ti layers, the NOx occluding element is carried between the Ti layers by ion exchanging and stably existed as it is fine.例文帳に追加

チタニアウィスカーは、Ti層とTi層との間にプロトンを有しているため、NO_x吸蔵元素はTi層間にイオン交換担持されて微細なまま安定して存在する。 - 特許庁

The cemented carbide base material is composed of 5.0-<8.0 wt% of Co, 3.0-8.0 wt% of cubic carbide comprising Ti, Ta and Nb satisfying 0.05-0.3 of ratio Ti/(Ti+Ta+Nb), and WC as residual parts having 1.5-3.5 μm of grain diameter in the sintering condition.例文帳に追加

超硬合金基材は、5.0〜<8.0wt％のCo、Ti/(Ti+Ta+Nb)比率が0.05〜0.3のTi、Ta及びNbの3.0〜8.0wt％の立方晶炭化物、焼結状態で1.5〜3.5μｍ粒径の残部WCの組成を有する。 - 特許庁

A TiO_2 film 106 is formed by sputtering a Ti metal film 105 on the HfSiO film 104 and subjecting the Ti metal film 105 to a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

その上にTi金属膜105をスパッタし、それを熱酸化処理して、TiO_2膜106を形成する。 - 特許庁

Further, the Ti is implanted near the BCB surface and a reaction region 24 between BCB and Ti is formed, for enhanced tight contact between the BCB and Cu.例文帳に追加

さらにBCB表面近傍にTiが注入され、BCBとTiの反応領域２４が形成されることにより、BCBとCuの密着性を高められる。 - 特許庁

The metal atom(s) is desirable to be one or more kinds among Si, Ti, Cr, Fe and Ni.例文帳に追加

金属原子は好ましくはSi、Ti、Cr、Fe、Niの１種以上である。 - 特許庁

In the surface-treated metal sheet, the amount of Zn in the coating film containing Ti and ZnO is 0.1-20 mg/m^2 per one side, and the amount of Ti in the coating film containing Ti and ZnO is 3-200 mg/m^2 per one side.例文帳に追加

本発明の表面処理金属板では、TiおよびZnOを含む皮膜のZn量が片面あたり0.1〜20mg/m^2であること、また、TiおよびZnOを含む皮膜のTi量が片面あたり3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁

Further, in the composition of the steel sheet, the content of Si is controlled to ≤0.3%, P to ≤0.02%, Ti to 0.01 to 0.5%, and Nb to 0.01 to 0.5%.例文帳に追加

さらに鋼板組成をSi：0.3%以下、P：0.02%以下、Ti：0.01〜0.5%、Nb：0.01〜0.5%とする。 - 特許庁

The material is composed of oxides containing Pb, Zr and Ti with the compounding amount of each element satisfying 1.2<(Zr+Ti)/ Pb≤2.5.例文帳に追加

Pb 、Zr、Tiを含む酸化物で構成され、各元素の配合量で表わしたとき式(1): 1.2 ＜ (Zr＋Ti)/Pb ≦ 2.5 ・・・ (1) の関係を満足するように構成する。 - 特許庁

In the case an alkali metal is deposited on a carrier of a TiO2-Al2O3 compounded oxide in which Ti is highly dispersed in atomic scale, the Ti/Al mole ratio is controlled to be within (1/12)-(1/18) and in the case an alkaline earth metal is deposited, the Ti/Al mole ratio is controlled to be within (1/4)-(1/6).例文帳に追加

Tiが原子レベルで高分散したTiO_2-Al_2O_3の複合酸化物からなる担体に、アルカリ金属を担持した場合は担体のTi／Alモル比を１／12〜１／18の範囲とし、アルカリ土類金属を担持した場合は担体のTi／Alモル比を１／４〜１／６とした。 - 特許庁

The weight ratio of S to Ti to add is so set as to satisfy a formula, Ti/S≥3, and the amount of S and Ti is so set as to satisfy a formula, Ti+S≤2 wt.%.例文帳に追加

また、添加するＳとＴｉとの重量が、Ｔｉ／Ｓ≧３、Ｔｉ＋Ｓ≦２重量％であることを特徴とする電磁波吸収体用粉末。 - 特許庁

In the same ADRIP device, Pb evaporation amount of a Pb evaporation source, Zr evaporation amount of a Zr evaporation source and Ti evaporation amount of a Ti evaporation source are controlled successively so that the composition ratio Pb/(Zr+Ti) of PbZr_xTi_1-xO_3 is 1.2 or less.例文帳に追加

引き続き、同一ADRIP装置において、Pb蒸発源のPb蒸発量、Zr蒸発源のZr蒸発量及びTi蒸発源のTi蒸発量を制御してPbZr_xTi_1-xO_3の組成比Pb/(Zr+Ti)が1.2以下となるようにする。 - 特許庁

Prior to a Cu film 25 is deposited on the surface of an inter- layer insulating film 21 comprising BCB, Ti is implanted in to the surface of the inter-layer insulating film 21 comprising the BCB using a Ti ion 23 extracted from an ionized plasma of Ti.例文帳に追加

BCBで構成される層間絶縁膜２１の表面にCu膜２５を堆積する前に、Tiのイオン化プラズマから引き出されたTiイオン２３で、BCBで構成される層間絶縁膜２１表面にTiを注入する。 - 特許庁

By the heat treatment, nickel oxide or nickel hydroxide is reduced to Ni by Ti or the rare-earth metal in the alloy, and, in the case where the alloy contains Ti, nickel oxide or nickel hydroxide is changed into a Ti-Ni intermetallic compound having higher hydrogen-absorbing property.例文帳に追加

熱処理により、酸化ニッケルまたは水酸化ニッケルは合金中のTiもしくは希土類金属によりNiに還元され、合金がTiを含む場合には、さらに水素吸蔵能のあるTi−Ni金属間化合物に変化する。 - 特許庁

Carbon material containing B and Ti which is prepared by adding B raw material and Ti raw material before graphitization is subjected to the heat treatment for graphitization and, thereby, the graphite powder which includes B of 0.001-5.0 wt.% and Ti of 0.001-5.0 wt.% is obtained.例文帳に追加

黒鉛化前にホウ素原料とチタン原料を添加して得た、ＢおよびTi含有炭素材を黒鉛化熱処理して、Ｂ： 0.001〜5.0 重量％とTi： 0.001〜5.0重量％を含有する黒鉛粉末を得る。 - 特許庁

The temperature Ti of an image support from which melt transfer is performed is set to Tg1<Ti<Tm1.例文帳に追加

溶融転写を行う画像支持体の温度Ｔiを、Ｔg1＜Ｔi＜Ｔm1に設定する。 - 特許庁

In forming an ohmic electrode on a gallium oxide single crystal, a surface is irradiated with plasma, Ti is vapor deposited, and then Au is vapor deposited to form an electrode of Au/Ti structure.例文帳に追加

酸化ガリウム単結晶にオーミック電極を形成する際、表面にプラズマ照射してからTiを蒸着後、Au蒸着したAu/Ti構造の電極を形成する。 - 特許庁

To form a Ti-based self diffusion barrier film on a wiring surface, even if a Cu-Ti-based sputter film is heat-treated at a temperature lower than the conventional temperatures.例文帳に追加

Cu-Ti系スパッタ膜を従来よりも低い温度で熱処理しても、配線表面にTi系自己拡散バリア膜を形成できるようにする。 - 特許庁

The present invention provides a Ti-2 protein which is a new protein derived from Triatoma infestans and provide a Ti-2 gene encoding the protein.例文帳に追加

本発明により、ブラジルサシガメ（Triatoma infestans）由来の新規な蛋白質であるTi-2蛋白質、及び当該蛋白質をコードするTi-2遺伝子が与えられた。 - 特許庁

The present invention provides a Ti-1 protein which is a new protein derived from Triatoma infestans and provide a Ti-1 gene encoding the protein.例文帳に追加

本発明により、ブラジルサシガメ（Triatoma infestans）由来の新規な蛋白質であるTi-1蛋白質、及び当該蛋白質をコードするTi-1遺伝子が与えられた。 - 特許庁

Especially, the Ti amount is preferably excessive by 1-2 mol% in comparison with the stoichiometric ratio.例文帳に追加

特に、Ti量を化学量論比よりも1〜2mol％過剰にすることが好ましい。 - 特許庁

A fixed electrode 6b is formed by titanium (Ti), zirconium (Zi), aluminum (Al), and the like.例文帳に追加

固定電極６ｂはチタン（Ti），ジルコニウム(Zi)，アルミニウム(Al)等により形成されている。 - 特許庁

The Ti-containing oxide is exemplified by a double oxide of Ti and Si.例文帳に追加

Ｔｉを含む酸化物は、例えばＴｉとＳｉとの複合酸化物である。 - 特許庁

The steel contains, especially Ti: 0.05% to 0.30%, and Mo: 0.05% to 1.0%, wherein 30 pieces/μm^2 or more deposits containing Ti and with diameters of 30 nm or less exist, and the number ratio of Ti deposits with diameters of 5 nm to 50 nm to all the Ti deposits is controlled to be 50% or more.例文帳に追加

鋼中に、特にTi：0.05％以上0.30％以下およびMo：0.05％以上1.0％以下を含有させると共にTiを含む析出物で直径：30nm以下のものが30個/μm^2以上存在し、直径：５nm以上50nm以下のTi析出物の全Ti析出物に対する個数比率が50％以上とする。 - 特許庁

In this method for producing Ti or Ti alloy powders, Ti or Ti alloy scraps is pulverized by a mechanical pulverizing method using a vibrating mill or the like.例文帳に追加

ＴｉまたはＴｉ合金スクラップを振動ミルなどによる機械的粉砕方法によって粉砕するＴｉまたはＴｉ合金粉末の製造方法。 - 特許庁

This steel for thin sheet comprises oxide inclusions in the steel, which contain Ti oxide, Al_2O_3, and CaO as main components, wherein Ti oxide is made to be 1-30%, and CaO/Al_2O_3 to be in a range of 0.4-2.3 by weight ratio.例文帳に追加

鋼中の酸化物系介在物をTi酸化物、Al_2O_3 、CaO が主成分で、Ti酸化物を１〜30％含有し、重量比率でCaO ／Al_2O_3 を0.4 〜2.3 の範囲とする。 - 特許庁

Instead of the single incorporation of V, 0.04 to 0.20% V and further 0.005 to 0.049% Nb or 0.005 to 0.080% Ti may be incorporated in combination so as to satisfy that V+Nb/Ti is 0.05 to 0.20%.例文帳に追加

なお、Ｖ単独含有に代えて、Ｖ：0.04〜0.20％と、さらにNb：0.005〜0.049％またはTi：0.005〜0.080％を、Ｖ＋Nb／Tiで0.05〜0.20％を満足するように複合含有してもよい。 - 特許庁

Further, the Ti foil on which the acrylic pressure sensitive adhesive is laminated, may be fixed by pressure on the polyurethane resin layer by using the surface on which the Ti foil acrylic pressure sensitive adhesive is laminated, as a laminating face.例文帳に追加

なお、ポリウレタン樹脂層上に、アクリル系粘着材を積層したTi箔を、該Ti箔のアクリル系粘着材を積層した面を積層面として圧着してもよい。 - 特許庁

In the Ti-added extra low carbon steel sheet, the content of C is 0.001 to 0.025%, the content of N is ≤0.01%, and the content of Ti is controlled to the range of [(48/12×C+48/32×S+48/14N)+0.01] to 0.10%, by mass.例文帳に追加

Ti添加極低炭素鋼板は、Cが0.001~0.025質量％，Nが0.01質量％以下で、Ti含有量が[(48／12×C＋48／32×S＋48／14N)＋0.01]〜0.10質量％の範囲に調整されている。 - 特許庁

The (Nb, Ti) phase in the Nb-Ti-Co alloy is composed of a granular structure.例文帳に追加

Ｎｂ−Ｔｉ−Ｃｏ合金における（Ｎｂ，Ｔｉ）相を粒状組織で構成する。 - 特許庁

The coating weight of the film is preferably 3 to 200 mg/m^2 expressed in terms of Ti per side.例文帳に追加

前記皮膜の付着量が片面あたりTi換算で3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁

The ground end (Te) is connected to a power input end (Ti) by a capacitor C1.例文帳に追加

また、接地端（Ｔｅ）はコンデンサＣ１により電源入力端（Ti）に接続されている。 - 特許庁

A Ti film is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に、Ｔｉ膜を成膜する。 - 特許庁

A noble metal film is formed on the Ti film.例文帳に追加

このＴｉ膜の上に、貴金属膜を形成する。 - 特許庁

Even though ti is her daughters birthday例文帳に追加

娘の誕生日なのに どうしちゃったんだろうね。 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

A safe balance _ss is calculated on the basis of the replenishment margin frequency Ti, the generation ratio P(Ti), the money reception rate P_I, the standard deviation σ_I, the money payment rate P_O, and the standard deviation σ_O (S11).例文帳に追加

補充余裕回数Ti、発生比率P(Ti)、入金率P_I、標準偏差σ_I、出金率P_O及び標準偏差σ_Oに基づいて安全残高ssを算出する（Ｓ１１）。 - 特許庁

The insulating barrier layer 5 is formed of Ti-O.例文帳に追加

絶縁障壁層５はＴｉ−Ｏで形成される。 - 特許庁

A time ti is assigned to each image Bi.例文帳に追加

各画像Ｂｉに時点ｔｉが割り付けられている。 - 特許庁

Furthermore, the total amount of Ti and V contained in deposits with a size of less than 20 nm is more than 0.150 mass%.例文帳に追加

さらに、大きさが20nm未満の析出物に含まれるTiとVの合計量は0.150 mass%以上である。 - 特許庁

The RDL 14 is made of an alloy including Ti/Cu/Au alloy or Ti/Cu/Ni/Au alloy.例文帳に追加

ＲＤＬ１４は、Ｔｉ／Ｃｕ／Ａｕ合金またはＴｉ／Ｃｕ／Ｎｉ／Ａｕ合金を備える合金から作られる。 - 特許庁

As shown in Figure (a), a titanium (Ti) layer 6 is formed by entirely sputtering titanium (Ti).例文帳に追加

図２（ａ）に示すように、全面にチタン（Ｔｉ）をスパッタすることによりチタン層６を形成する。 - 特許庁

An LiNbO3 substrate to which MgO is added is used for the substrate 103, Ti is used for the contact layer 102, and aluminum is used for the grating electrode.例文帳に追加

基板１０３としてMgOを添加したLiNbO_3基板を、密着層１０２としてTiを、格子状電極としてアルミニウムを用いている。 - 特許庁