「krypton」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The heat capacity of a heating roller (fixing roller) 10 is set to the level that the rising time is equal to or under ten seconds, inactive gas enclosed in a glass tube 28 is gas principally composed of krypton or xenon, and a tungsten filament 29 is thinned and set so that its color temperature is ≥2500 K.例文帳に追加

加熱ローラ（定着ローラ）１０の熱容量を、立ち上がり時間が１０秒以下となるレベルにし、ガラス管２８に封入される不活性ガスをクリプトン又はキセノンを主成分としたものとし、タングステンフィラメント２９を細線化してその色温度を２５００Ｋ以上とする。 - 特許庁

The inert gas enclosed in the glass tube 28 is principally composed of krypton or xenon, and the tungsten filament 29 is made to be a thin filament and set so that its color temperature may be ≥250 K, then the quantity of heat retained in the filament 29, the glass tube 28 and the inert gas in the radiant heat source just after supplying power is reduced.例文帳に追加

前記、ガラス管２８に封入される不活性ガスをクリプトン又はキセノンを主成分としたものとし、タングステンフィラメント２９を細線化してその色温度を２５００Ｋ以上とし、電源投入直後に輻射熱源内のフィラメント２９とガラス管２８と不活性ガスに滞留される熱量を低減する。 - 特許庁

This tubular heater 1 comprises a tubular envelope tube 2 which is air-tightly sealed and is heat-resistant and electrically insulated, coil shaped electric heater wire 3 provided in the envelope tube, and an inert gas hiving xenon and/or krypton as main ingredient, and the heating equipment employs the heater 1.例文帳に追加

気密閉塞された耐熱電気絶縁性の管形外囲管２と、この外囲管２内に配設されたコイル状の電熱線３と、上記外囲管２内に封入されたキセノンおよび／またはクリプトンを主体とする不活性ガスとを備えている管形ヒータ１およびこのヒータ１を用いた加熱装置である。 - 特許庁

The water-absorbing resin has a specific surface area, as measured by the BET multipoint adsorption method employing a krypton gas as an adsorbate gas, of 0.05 m^2/g or more and a water retentivity, as measured with 0.9 wt.% physiological saline, of 5 to 30 g/g, and is suitable for absorbing the viscous liquid containing the high molecular weight object.例文帳に追加

吸着ガスとしてクリプトンガスを使用したＢＥＴ多点法によって測定された比表面積は０．０５ｍ^2／ｇ以上であり、０．９重量％生理食塩水を保持する保水能力は５〜３０ｇ／ｇである、高分子量体含有粘性液の吸収に適した吸水性樹脂。 - 特許庁

To provide a light source using a light emitting diode with small power consumption and a long life capable of using light condensing structure such as a light condensing reflector plate of a portable luminaire, providing the illuminance almost the same as that of the conventional lamp even if the light emitting diode lamp is used in place of a miniature bulb such as a conventional krypton lamp.例文帳に追加

既存の携帯用照明器具のクリプトンランプなどの豆電球を発光ダイオードランプに付け替えても、携帯用照明器具の持つ集光用反射板などの集光構造をうまく活用でき、従来と変わらない照度が得られ、しかも低消費電力、長寿命な発光ダイオードを用いた光源を得る。 - 特許庁

Another liquid fraction 35 is extracted from the second position or the third position on the lower side in the low-pressure tower, and introduced into an evaporation chamber of the first condenser/evaporator 4, to thereby evaporate a part thereof in the evaporation chamber, and a krypton/xenon-including fraction 138 is extracted from the evaporation chamber of the first condenser/evaporator.例文帳に追加

低圧塔の第２の位置又はその下方の第３の位置からは別の液体留分（３５）を抽出してこれを第１の凝縮・蒸発器（４）の蒸発室に導入すると共に該蒸発室で一部を蒸発させ、第１の凝縮・蒸発器の蒸発室からクリプトン及びキセノン含有留分（１３８）を抽出する。 - 特許庁

In the formation method of an insulation film, a mixed gas containing krypton(Kr), ozone(O_3), and an oxidizing gas is activated by microwaves, and the surface of an amorphous silicon film 19 (a silicon(Si)- containing film) is exposed to the activated mixed gas, thus forming an insulation film 19a on the surface of the amorphous silicon film 19.例文帳に追加

クリプトン（Ｋｒ）とオゾン（Ｏ_3 ）と酸化性ガスとを含む混合ガスをマイクロ波で活性化し、アモルファスシリコン膜１９（シリコン（Ｓｉ）含有膜）の表面を上記活性化された混合ガスに曝すことにより上記アモルファスシリコン膜１９の表面に絶縁膜１９ａを形成する絶縁膜の形成方法による。 - 特許庁

In the method for producing a substrate 20 with an ITO transparent electrically conductive film in which an indium oxide vapor depositing material contg. tin oxide is irradiated with arc discharge plasma, and the vapor depositing material is evaporated to coat the surface of a transparent substrate 21 with an ITO film, the gas atmosphere is composed of the one contg. gaseous xenon, gaseous krypton or the gaseous mixture thereof.例文帳に追加

酸化錫を含有する酸化インジウム蒸着材料にアーク放電プラズマを照射して蒸着材料を蒸発させ、透明基板上にＩＴＯ膜を被覆するＩＴＯ透明導電膜付き基板の製造方法で、ガス雰囲気をキセノン、クリプトンまたはそれらを混合しガスを含むガス雰囲気とする。 - 特許庁

In mass spectrometry by introducing a sample to an ion source and ionizing it by electron ionization, the sample and at least one kind of inert gas such as helium, nitrogen, argon, neon, krypton and xenon are simultaneously introduced to the ion source when determining concentration of a stable isotope of a specific element in the sample.例文帳に追加

試料をイオン源に導入して電子イオン化法によりイオン化して質量分析することにより、前記試料中の特定の元素の安定同位体の濃度を求める際に、前記イオン源に前記試料と共に不活性ガス、例えば、ヘリウム、窒素、アルゴン、ネオン、クリプトン及びキセノンの少なくとも１種を同時に導入する。 - 特許庁

A gate electrode is formed over a substrate, and a gate insulating layer is formed over the gate electrode, and a first semiconductor layer having a thickness of 3 to 10 nm, preferably, 3 to 5 nm is formed over the gate insulating layer by generating plasma using a deposition gas containing silicon or germanium, hydrogen, and a rare gas of helium, argon, neon, krypton, xenon, or the like.例文帳に追加

基板上にゲート電極を形成し、ゲート電極上にゲート絶縁層を形成し、ゲート絶縁層上に、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素と、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスとを用い、プラズマを発生させて、厚さ３〜１０ｎｍ、好ましくは３〜５ｎｍの第１の半導体層を形成する。 - 特許庁

In the film deposition method by the magnetron sputtering method, the soiling due to the organic materials stuck on the surface of the substrate is removed by producing a plasma gas of gaseous oxygen which is composed of 30-100 vol.% gaseous oxygen and 0-70 vol.% one or more kinds of gases selected from gaseous helium, gaseous neon, gaseous argon, gaseous xenon and gaseous krypton and using the gaseous oxygen plasma.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法による成膜方法において、３０〜１００容積％の酸素ガスと、０〜７０容積％の窒素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、キセノンガス、クリプトンガスの中から選ばれる１種以上のガスとからなり、酸素ガスのプラズマ気体を発生させ、該酸素プラズマを用いて基板の表面に付着した有機系物質の汚れを除去する。 - 特許庁

Xenon and/or krypton are/is recovered by a selective adsorption to a zeolite exchanged with Li and Ag having an exchanged capacity of Ag of 5-40% on an equivalent basis from an oxygen containing gas, typically an oxygen containing gas obtained from the bottom liquid of an oxygen liquefying tower of a cryogenic air separating plant.例文帳に追加

酸素含有ガス、典型的には低温空気分離プラントの液体酸素塔低液から得られる酸素含有ガスから、当量基準で５〜４０％のＡｇ交換容量を有するＬｉ及びＡｇ交換したゼオライトへの選択的吸着により、吸着剤を定期的に熱再生しながら、キセノン及び／又はクリプトンを回収する。 - 特許庁

This cold-cathode fluorescent lamp and this lighting system are characterized by enclosing at least one kind of argon, krypton, xenon and neon, and mercury in it and closing both its end, by forming the tubular bulb 2 provided with a phosphor coat 3 on its inside surface, and by disposing outside electrodes 4 on the outside surfaces at both ends of the tubular bulb 2.例文帳に追加

アルゴン、クリプトン、キセノン、ネオンの少なくともひとつ以上の希ガスと水銀とを封入して両端を閉塞するとともに、内面に蛍光体被膜（３）を設けた管状バルブ（２）を形成し、この管状バルブ（２）の両端部の外面に外部電極（４）を配置したことを特徴とする冷陰極蛍光ランプおよび照明装置である。 - 特許庁

In the cold cathode fluorescent lamp 26 provided with a tube state glass bulb 32 in which a noble gas mixture is sealed and is formed with a fluorescent film 34 on its interior surface and a pair of electrodes 36 and 38 installed facing each other on both ends of the glass bulb 32, the mixed gas is constituted of 95% neon and 5% krypton (mole ratio).例文帳に追加

希ガスの混合ガスが封入され、内面に蛍光体膜３４が形成されてなる直管状のガラスバルブ３２と当該ガラスバルブ３２の両端部内に対向配置された一対の電極３６、３８とを有する冷陰極蛍光ランプ２６において、前記混合ガスを、ネオン９５％、クリプトン５％（モル比）で構成したこと。 - 特許庁

A method for changing the refractive index of a Bragg fiber grating includes a step of exposing an element made of germanium silicate glass to a laser radiation; and the laser radiation is selected from a group of a radiation that an argon laser emits, a third higher harmonic of a radiation of a neodymium laser, a radiation of a nitrogen laser, a radiation of a Krypton laser, and a helium laser and has a wavelength from 333 to 364 nm.例文帳に追加

ブラッグファイバー格子の屈折率変更方法は、ケイ酸ゲルマニウムガラスから形成した素子をレーザー放射にさらす工程を含み、当該レーザー放射を、アルゴンレーザーが発する放射、ネオジムレーザーの放射の第３高調波、窒素レーザーの放射、クリプトンレーザーの放射、及びヘリウム−カドミウムレーザーの放射からなる群より選び、当該放射の波長を３３３〜３６４ｎｍの範囲とする。 - 特許庁

In the carbon fibers, the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface is 20 to 60 nm, the BET specific surface area obtained from gaseous krypton adsorption is 0.5 to 1.2 m^2/g, and the oxygen concentration ratio in the carbon fiber surface obtained by X-ray photoelectron spectroscopy, O/C, is 0.03 to 0.16.例文帳に追加

本発明の炭素繊維は、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であって、クリプトンガス吸着から求めたＢＥＴ法比表面積が０．５ｍ^２／ｇ以上１．２ｍ^２／ｇ以下で、かつＸ線光電子分光法によって求められる炭素繊維表面の酸素濃度比Ｏ／Ｃが０．０３以上０．１６以下であることを特徴とするものである。 - 特許庁

The carbon fiber has ≥1 nm to ≤20 nm arithmetic average surface roughness (Ra), ≥0.5 m^2/g to ≤1.5 m^2/g BET specific surface area determined from gaseous krypton adsorption and an oxygen concentration ratio O/C of ≥0.01 to <0.13 on the surface of the carbon fiber which is determined by X-ray photoelectron spectrometry.例文帳に追加

本発明の炭素繊維は、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であって、クリプトンガス吸着から求めたＢＥＴ法比表面積が０．５ｍ^２／ｇ以上１．５ｍ^２／ｇ以下で、かつＸ線光電子分光法によって求められる炭素繊維表面の酸素濃度比Ｏ／Ｃが０．０１以上０．１３未満であることを特徴とするものである。 - 特許庁

This polyol composition for producing the pentane-foamed rigid polyurethane foams, which comprises a polyol compound and a foaming agent and is mixed and reacted with polyisocyanate compounds to form the pentane-foamed rigid polyurethane foams, is characterized in that the foaming agent comprises a pentane compound and water, and the polyol compound contains crystalline zeolite containing at least one selected from the group consisting of krypton, xenon and an HFC compound.例文帳に追加

ポリオール化合物及び発泡剤を含み、ポリイソシアネート成分と混合、反応させて硬質ポリウレタンフォームを形成するための硬質ポリウレタンフォーム用ポリオール組成物であって、前記発泡剤はペンタン類及び水を含有するものであり、前記ポリオール化合物はクリプトン、キセノン、ＨＦＣ化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含む結晶性ゼオライトを含有することを特徴とする硬質ポリウレタンフォーム用ポリオール組成物。 - 特許庁

7. Excimer laser oscillators, copper laser oscillators, metal laser oscillators, sodium laser oscillators, barium laser oscillators, carbon monoxide laser oscillators, carbon dioxide laser oscillators, hydrogen fluoride laser oscillators, deuterium fluoride oscillators, and laser oscillators designed to be excited by excitation transfer from oxygen, krypton ion laser oscillators, argon laser oscillators and gas laser oscillators other nitrogen laser oscillators which fall under any of the following 例文帳に追加

（七）　エキシマーレーザー発振器、銅レーザー発振器、金レーザー発振器、ナトリウムレーザー発振器、バリウムレーザー発振器、一酸化炭素レーザー発振器、二酸化炭素レーザー発振器、ふっ化水素レーザー発振器、ふっ化重水素レーザー発振器、酸素からの励起移動によって励起するように設計したよう素レーザー発振器、クリプトンイオンレーザー発振器、アルゴンイオンレーザー発振器又は窒素レーザー発振器以外のガスレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム