「m PL」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Then, the allowable quantity of ink V_I(pl/m^2) per unit area of the recording sheet is determined by formula (V_I=(T_m-0.083)×A_sl.×10^12).例文帳に追加

次に、数式（Ｖ_I＝（Ｔ_m−０．０８３）×Ａ_sl.×１０^12）により、前記記録用紙の単位面積当たりのインク許容量Ｖ_I（ｐｌ／ｍ^2）を求める。 - 特許庁

A mask M is illuminated with linearly polarized illumination light to transfer a pattern of the mask M onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

直線偏光の照明光でマスクＭを照明し、マスクＭのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁

Lastly, the non-aqueous ink is discharged on the recording sheet in quantity V_d(pl/m^2) satisfying the condition of formula (V_d≤V_I) by the inkjet method.例文帳に追加

最後に、非水系インクを、数式（Ｖ_d≦Ｖ_I）の条件を満たす量Ｖ_d（ｐｌ／ｍ^2）で、インクジェット法により前記記録用紙に吐出する。 - 特許庁

The aligner forms an image of the patterns on an original plate (M) to be projected onto the photosensitizer (W) by a projection optical system (PL).例文帳に追加

被投影原版（Ｍ）上のパターンの像を投影光学系（ＰＬ）により感光剤（Ｗ）上に形成する露光装置。 - 特許庁

An aligner exposes the pattern of a mask (M) to a photosensitive substrate (W) via a projection optical system (PL).例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板（Ｗ）上に露光する露光装置。 - 特許庁

The used parts M determined as reutilizable are fed to the production line PL as reusable parts MA.例文帳に追加

再利用可能と判断された既使用部品Ｍは、再使用可能部品ＭＡとして製造ラインＰＬに供給される。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

In a step 411, the logarithm likelihood PL(M) with penalty of a model M following a parameter a_jk calculated by performing an EGA arithmetic operation is calculated only from this time measurement result measured in a step 405.例文帳に追加

ステップ４１１では、ステップ４０５で計測された今回の計測結果のみによりＥＧＡ演算を行って算出されたパラメータａ_jkに従うモデルＭのペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ）を算出する。 - 特許庁

A PL value is calculated, by using a peak correlative value found by the operation processing and the correlation value of a phase lagging by M (1≤M<2) chips from a peak phase showing the peak correlation value; and for cases where the received signal is a multipath signal, the reliability of the multipath signal is determined based on the calculated PL value.例文帳に追加

そして、相関演算処理により求められたピーク相関値と、当該ピーク相関値を示したピーク位相からＭ（１≦Ｍ＜２）チップ遅れた位相の相関値とを用いてＰＬ値を算出し、算出したＰＬ値に基づいて、受信信号がマルチパス信号である場合の当該マルチパス信号の信頼度を判定する。 - 特許庁

A pole PL is displayed in a given position on the screen of a monitor 4 corresponding to the boundary M, and contact with an obstacle in the direction of height is prevented from occurring.例文帳に追加

境界Ｍに対応するモニタ４の画面上の所定位置に、ポールＰＬを表示して、高さ方向の障害物に対する接触を防止する。 - 特許庁

This aligner is provided with a projection optical system (PL) for forming a pattern image of a mask (M) on a photosensitive substrate (W) and a substrate stage for holding and moving the photosensitive substrate.例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）上に形成するための投影光学系（ＰＬ）と、感光性基板を保持して移動するための基板ステージ（ＷＳＴ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

In a step 419, the value of logarithm likelihood PL(M') with penalty at the time of applying a weighted mean value a'_jk^(s) of the parameter a_jk corresponding to T_jk larger than ζ to a formula (1) is calculated by referring to a matrix T.例文帳に追加

ステップ４１９では、行列Ｔを参照し、ζより大きいＴ_jkに対応するパラメータａ_jkの重み付け平均値ａ’_jk^(s)を式（１）に適用した場合のペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ’）の値を算出する。 - 特許庁

This exposure apparatus includes: a projection optical system (PL); a first stage mechanism (PS) for moving a photosensitive substrate (P) while holding it; and a second stage mechanism (MS) for moving an object (M) having a pattern while holding it.例文帳に追加

本発明の態様にかかる露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と、感光性を有する基板（Ｐ）を保持して移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有する物体（Ｍ）を保持して移動する第２ステージ機構（ＭＳ）と、を備える。 - 特許庁

The illuminating optical system is so positioned that its optical axis (AXi) passes the center of an illumination region on an object surface (M) and deviates from the optical axis (AXp) of a projecting optical system (PL).例文帳に追加

本発明では、照明光学装置の光軸（ＡＸｉ）が、物体面（Ｍ）での照明領域の中心を通ると共に、投影光学系（ＰＬ）の光軸（ＡＸｐ）から位置ずれするように位置決めされている。 - 特許庁

The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁

The resin molded article is molded by a mold wherein a curved surface having a radius of 1.5 mm or above is provided in a region P1, P2 where a cavity surface for molding the molded article having the gelcoat 24 provided on the surface of the inside resin layer M intersects a parting line PL.例文帳に追加

内側樹脂層Ｍの表面にゲルコート２４が設けられた成形品を成形するキャビティ面とパーティングラインＰＬとの交差領域Ｐ１，Ｐ２に半径１．５ｍｍ以上の曲面が設けられた成形型によって樹脂成形品が成形される。 - 特許庁

In the ink jet recorder recording an image by ejecting ink drops from an ink ejection head to a recording medium, the volume (size) Mj of an ink drop is controlled not larger than 1 pL and the ejection output of ink per one color is controlled not higher than 4 g/m^2.例文帳に追加

インク吐出ヘッドからインク滴を記録媒体へ吐出することによって画像を記録するインクジェット記録装置において、インク滴の体積（サイズ）Ｍｊは１ｐＬ以下で、一色当たりのインクの吐出量が４ｇ／ｍ^２以下に制御されている。 - 特許庁

This exposure device has an illumination optical system (IL) for illuminating a mask (M) formed with prescribed patterns and the projection optical system (PL) having the plural projection optical units (PL1 to PL5) arranged along a prescribed direction and subjects the pattern images of the mask to projection aligning on a photosensitive substrate (P) by means of the projection optical system.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスク（Ｍ）を照明するための照明光学系（ＩＬ）と、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニット（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する投影光学系（ＰＬ）とを備え、投影光学系を介してマスクのパターン像を感光性基板（Ｐ）へ投影露光する露光装置。 - 特許庁

The manufacturing method of an olefinic polymer comprises processing an olefin polymer (PO-X) having as a main constitutional unit a repeat unit originated from at least one kind of the olefins selected from the olefins containing a halogen atom and having 2 to 20 carbon atoms, and a polar polymer (PL-M) containing a dissociable metal atom.例文帳に追加

また、ハロゲン原子を含有する、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン重合体（ＰＯ−Ｘ）と、解離性金属原子を含んでなる極性重合体（ＰＬ−Ｍ）を処理して製造することを特徴とするオレフィン系重合体の製造方法。 - 特許庁