PL-Mとは 意味・読み方・使い方

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

Lastly, the non-aqueous ink is discharged on the recording sheet in quantity V_d(pl/m^2) satisfying the condition of formula (V_d≤V_I) by the inkjet method.例文帳に追加

最後に、非水系インクを、数式（Ｖ_d≦Ｖ_I）の条件を満たす量Ｖ_d（ｐｌ／ｍ^2）で、インクジェット法により前記記録用紙に吐出する。 - 特許庁

Then, the allowable quantity of ink V_I(pl/m^2) per unit area of the recording sheet is determined by formula (V_I=(T_m-0.083)×A_sl.×10^12).例文帳に追加

次に、数式（Ｖ_I＝（Ｔ_m−０．０８３）×Ａ_sl.×１０^12）により、前記記録用紙の単位面積当たりのインク許容量Ｖ_I（ｐｌ／ｍ^2）を求める。 - 特許庁

In a step 411, the logarithm likelihood PL(M) with penalty of a model M following a parameter a_jk calculated by performing an EGA arithmetic operation is calculated only from this time measurement result measured in a step 405.例文帳に追加

ステップ４１１では、ステップ４０５で計測された今回の計測結果のみによりＥＧＡ演算を行って算出されたパラメータａ_jkに従うモデルＭのペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ）を算出する。 - 特許庁

A pole PL is displayed in a given position on the screen of a monitor 4 corresponding to the boundary M, and contact with an obstacle in the direction of height is prevented from occurring.例文帳に追加

境界Ｍに対応するモニタ４の画面上の所定位置に、ポールＰＬを表示して、高さ方向の障害物に対する接触を防止する。 - 特許庁

A PL value is calculated, by using a peak correlative value found by the operation processing and the correlation value of a phase lagging by M (1≤M<2) chips from a peak phase showing the peak correlation value; and for cases where the received signal is a multipath signal, the reliability of the multipath signal is determined based on the calculated PL value.例文帳に追加

そして、相関演算処理により求められたピーク相関値と、当該ピーク相関値を示したピーク位相からＭ（１≦Ｍ＜２）チップ遅れた位相の相関値とを用いてＰＬ値を算出し、算出したＰＬ値に基づいて、受信信号がマルチパス信号である場合の当該マルチパス信号の信頼度を判定する。 - 特許庁

This aligner is provided with a projection optical system (PL) for forming a pattern image of a mask (M) on a photosensitive substrate (W) and a substrate stage for holding and moving the photosensitive substrate.例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）上に形成するための投影光学系（ＰＬ）と、感光性基板を保持して移動するための基板ステージ（ＷＳＴ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

In a step 419, the value of logarithm likelihood PL(M') with penalty at the time of applying a weighted mean value a'_jk^(s) of the parameter a_jk corresponding to T_jk larger than ζ to a formula (1) is calculated by referring to a matrix T.例文帳に追加

ステップ４１９では、行列Ｔを参照し、ζより大きいＴ_jkに対応するパラメータａ_jkの重み付け平均値ａ’_jk^(s)を式（１）に適用した場合のペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ’）の値を算出する。 - 特許庁