「micro beam」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

MICRO COINING DEVICE WITH LASER BEAM ENERGY AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

レーザエネルギ微小印刻装置および方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MEASURED DATA OF ELECTRON BEAM MICRO-ANALYZER例文帳に追加

電子線マイクロアナライザーの測定データ補正方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF HIGH PRECISION MICRO PARTS UTILIZING ENERGY BEAM例文帳に追加

エネルギービーム利用の高精度マイクロパーツ製造方法 - 特許庁

BEAM IRRADIATION UNIT, MICRO-FABRICATION METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

ビーム出射ユニット、微細加工方法および装置 - 特許庁

STAGE FOR MICRO MACHINING SYSTEM USING CHARGED PARTICLE BEAM例文帳に追加

帯電粒子ビームを用いた微細加工システム用のステージ - 特許庁

MICRO ELECTROMECHANICAL SYSTEM HAVING BEAM TO BE DEFORMED BY BENDING例文帳に追加

曲げ変形を受ける梁を有するマイクロエレクトロメカニカルシステム - 特許庁

To provide a multi-beam micro-machining system and method.例文帳に追加

マルチビーム微細機械加工システム及び方法を提供する。 - 特許庁

OPTICAL FIBER LASER AND METHOD OF OSCILLATING LASER BEAM OF 2.8 MICRO METER BAND例文帳に追加

光ファイバレーザ、２．８μｍ帯のレーザ光の発振方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYTICAL METHOD, AND ANALYZER THEREFOR例文帳に追加

電子線プローブマイクロＸ線分析方法、及びその装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MICRO-CRYSTALLIZING METAL STRUCTURE BY LASER BEAM IRRADIATION例文帳に追加

レーザ照射による金属組織の微細化方法及び装置 - 特許庁

MICRO BEAM IRRADIATION AREA DETECTING METHOD USING SURFACE ACOUSTIC WAVE例文帳に追加

表面弾性波を用いたマイクロビーム照射領域検出方法 - 特許庁

BEAM IRRADIATION UNIT, UNIT ALIGNMENT METHOD, MICRO- FABRICATION METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

ビーム出射ユニット、ユニット調整方法、微細加工方法および装置 - 特許庁

CARRIER AND MICRO INSPECTION ELEMENT, THEIR MANUFACTURING METHOD, AND LASER BEAM MACHINE例文帳に追加

担体およびマイクロ検査素子とそれらの製造方法並びにレーザ加工機 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, MICRO-PATTERN DRAWING SYSTEM AND IRREGULAR PATTERN CARRIER例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システムおよび凹凸パターン担持体 - 特許庁

OBLIQUE EJECTION ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYSIS METHOD, PROGRAM USED THEREIN, AND OBLIQUE EJECTION ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYZER例文帳に追加

斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法およびそれに用いられるプログラム、並びに、斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析装置 - 特許庁

LASER BEAM MACHINING METHOD, AND METHOD OF PREPARING MOLD FOR MICRO LENS ARRAY USING THE SAME例文帳に追加

レーザー加工方法及びそれを用いたマイクロレンズアレイ型の作成方法 - 特許庁

A measure is prepared in a multi-beam charged particle beam apparatus, the measure that can change micro-field size so that each beam will not make a micro field size that is to be drawn become an even-numbered multiple of a drawing pattern size.例文帳に追加

マルチビーム荷電粒子線装置において各ビームが描画する微小フィールドサイズを描画パターンサイズの偶数倍にしない為に、微小フィールドサイズを変更する手段を設ける。 - 特許庁

This micro electromechanical system has a beam 1, and an electrode 10 coupled with the beam by an electrostatic interaction.例文帳に追加

マイクロエレクトロメカニカルシステムは梁１と、静電相互作用によって梁に結合された電極１０とを有する。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING SAMPLE FOR ANALYZING POLE SURFACE LAYER PART IN ELECTRON BEAM MICRO-ANALYSIS例文帳に追加

電子線マイクロアナリシスにおける極表層部分析用試料作製方法 - 特許庁

METHOD FOR DISPOSING MICRO ION BEAM FORMING MEMBER AND PRISM ADJUSTING STAND WITH PRISM例文帳に追加

マイクロイオンビーム形成用部材の配置方法及びプリズム付プリズム調整台 - 特許庁

A beam splitter 6 is arranged between a micro lens disc 2 and a pinhole disc 3.例文帳に追加

マイクロレンズディスク２とピンホールディスク３との間には、ビームスプリッタ６が配置されている。 - 特許庁

A width of a micro tool to be measured is measured precisely by using the laser beam in a system.例文帳に追加

本発明は、レーザ光を用いて被測定マイクロ工具の幅を精密に測定する。 - 特許庁

To compensate nonlinearity with respect to the dose of electron beam emitted from a micro emission source.例文帳に追加

マイクロ放出源から放出される電子線量に関し、非線形性を補償すること。 - 特許庁

A micro optical element 3 adjusts the diameter of the beam made incident from the first optical system 2.例文帳に追加

微小光学素子３は、第１光学系２から入射されたビームの径を調整する。 - 特許庁

A micro-mirror device, in which a plurality of micro-mirror elements are arranged in a two dimensional array shape, is used as the line shaped optical beam generator.例文帳に追加

ライン状光ビーム発生装置として、複数のマイクロミラー素子が２次元アレイ状に配列されたマイクロミラー装置を用いる。 - 特許庁

Each optical beam of the optical beam array is converged to a micro spot by an objective lens (10), to be projected on a sample (11).例文帳に追加

この光ビームアレイの各光ビームは対物レンズ（１０）により微小スポット状に集束して試料（１１）に投射する。 - 特許庁

A laser beam is irradiated at a predetermined cycle T to control the timing of the start signal to be provided to each micro mirror so that the laser beam may be incident upon the micro mirror when the micro mirror is at a desired angle.例文帳に追加

レーザ光を所定の周期Ｔで照射し、各微小ミラーが所望する配置角度となっているときに当該レーザ光が当該微小ミラーに入射するように、各微小ミラーに与える開始信号のタイミングを制御する。 - 特許庁

Thus, the laser beam (refer to laser pulse waveform of code 32) is generated with one group of laser beam of relieved oscillation pulse strings where pulses whose pulse width is about one micro second are arranged at an interval of several micro seconds.例文帳に追加

これにより、パルス幅が１マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビーム（符号３２のレーザパルス波形参照）が発生される。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method which enables micro and highly accurate machining with low energy, a laser beam machining device, and a three-dimensional structure with a highly accurate and micro shape formed therein.例文帳に追加

低エネルギーで、微小且つ高精度な加工を可能としたレーザ加工方法、レーザ加工放置及び高精度且つ微細な形状が加工された立体構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device which can easily reduce a manufacturing cost of a micro device and can easily enhance the quality of the micro device.例文帳に追加

マイクロデバイスの製造コストを低減することが容易で、かつ、マイクロデバイスの品質を高くすることが容易なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) WITH ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線を用いてＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

A polygon mirror 4 controls the direction of reflection of the beam made incident from the micro optical element 3.例文帳に追加

ポリゴンミラー４は、微小光学素子３から入射されたビームの反射方向を制御する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus capable of performing high-precision micro-fabrication in a narrow area.例文帳に追加

狭い部位において高精度な微細加工を行うことが可能なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

RADIATION TUBE SYSTEM OF CARBON NANOTUBE SUBSTRATE SEPARATION TYPE FOR ELECTRON BEAM GENERATION OF MICRO FOCUSING LEVEL例文帳に追加

マイクロ集束レベルの電子ビーム発生用炭素ナノチューブ基板分離型の放射線管システム - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ANALYZING FOREIGN MATTER BY OBLIQUE EMISSION ELECTRON BEAM PROBE MICRO-X-RAY ANALYSIS例文帳に追加

斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析による異物の分析方法およびその装置 - 特許庁

Therefore, in the projector, a laser beam is converted to incoherent scattered light by a micro mirror device (5).例文帳に追加

そこで、本発明では、マイクロミラー装置（５）によりレーザ光を非コヒーレントな散乱光に変換する。 - 特許庁

A micro prism (13) receives the first or second laser beam, and emits a coupling laser beam (LC) onto the same optical axis (OA).例文帳に追加

マイクロプリズム（１３）は、第１のレーザ光又は第２のレーザ光を受け、同一の光軸（ＯＡ）上へ結合レーザ光（ＬC）を出射する。 - 特許庁

A sample machining method includes a process for machining one portion of a sample 14 into a micro sample 6 by irradiating it with a first ion beam radiated from a first ion source for scanning; a process for separating the micro sample machined by the first ion beam from the sample; and a process for machining the micro sample 6 by using the second ion beam through irradiation with an ion beam from a second ion beam machining apparatus 17.例文帳に追加

第１のイオン源から放出される第１のイオンビームを照射し走査して試料１４の一部をマイクロサンプル６に加工する手段と、前記第１のイオンビームにより加工された前記マイクロサンプルを前記試料から分離するプローブと、第２のイオンビーム加工装置１７から照射し、前記マイクロサンプル６を前記第２のイオンビームを用いて加工する方法。 - 特許庁

A micro beam emitted from respective lens elements of the second lens array 13 passes through the respective micro regions 150 of the first condensing lens 15 and does not pass through difference in level 155 between the micro regions 150.例文帳に追加

第２レンズアレイ１３の各レンズ要素から出射された小光束は、第１集光レンズ１５の各小領域１５０を通過し、小領域１５０の間の段差１５５を通過しない。 - 特許庁

A laser beam emitted from a laser beam source 1 of the micro object manipulation equipment is applied to a hologram substrate 3 via an illumination optical system 2.例文帳に追加

微小物体処理装置のレーザー光源１から射出されたレーザー光は照明光学系２を介してホログラム基板３に照射される。 - 特許庁

The atomic and molecular beam may be given either of before and after the formation of the semiconductor micro structure.例文帳に追加

原子・分子線の照射は、半導体微細構造を形成する前後のいずれか一方でもよい。 - 特許庁

A resist is applied to an outer surface of a metallic micro pipe, and exposure beam is applied to spirally scanning and exposing.例文帳に追加

金属マイクロパイプの外表面にレジストを付し、露光ビームを当てて螺線状に走査露光する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR IRRADIATING LASER BEAM, METHOD AND APPARATUS OF MICRO MACHINING, AND METHOD AND APPARATUS FOR FORMING THIN FILM例文帳に追加

レーザ照射方法及び装置、微細加工方法及び装置、並びに薄膜形成方法及び装置 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy.例文帳に追加

微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SWITCHING AND CONTROLLING DOSE OF ELECTRON BEAM EMITTED FROM MICRO EMISSION SOURCE例文帳に追加

マイクロ放出源から放出される電子線量をスイッチングして制御するためのデバイスおよび方法 - 特許庁