「mo-si」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Cr(%)≤(1/3)(6.5-Ni(%))1/2...(1) Pcm=C+ Si/30+Mn/20+Cu/20+Ni/60+Cr/20+Mo/15+V/10...(2).例文帳に追加

Cr (％) ≦(1/3)(6.5 −Ni (％))^1/2 ・・・・・(1) Pcm ＝Ｃ＋Si/30 ＋Mn/20 ＋Cu/20 ＋Ni/60 ＋Cr/20 ＋Mo/15 ＋V/10・・・・・(2) - 特許庁

An oxide Mo layer is formed on an interface between the Mo layer and the Si layer.例文帳に追加

Ｍｏ層とＳｉ層の界面に酸化Ｍｏ層を形成する。 - 特許庁

Atomized Co base metal chemical compound particle is preferably Si-Cr-Mo base Co base metal chemical compound dispersion particle or Si-Cr-Mo-Ni base Co base metal chemical compound particle.例文帳に追加

アトマイズ製Co基金属間化合物粒子としては、Si−Cr−Mo系Co基金属間化合物分散粒子またはSi−Cr−Mo−Ni系Co基金属間化合物粒子とすることが好ましい。 - 特許庁

As for the hard particle, it is desirable to adopt at least one particle selected from among intermetallic compound particle of Mo-Ni-Cr-Si-Co, intermetallic compound particle of Cr-Mo-Co and alloy particle of Fe-Mo.例文帳に追加

硬質粒子としては、Mo−Ni−Cr−Si−Coの金属間化合物粒子、Cr−Mo−Coの金属間化合物粒子、Fe−Mo合金粒子のうちから選ばれた１種以上とするのが好ましい。 - 特許庁

In a reflecting film comprising an Mo/Si multilayer film formed by laminating periodically an Mo layer 1 with the thickness of 2.8 nm and an Si layer 2 with the thickness of 4.2 nm as many as 100 (50-pair) layers in total on a substrate 3, an Ru layer 4 is formed on the Si layer 2 on the outermost surface side of a periodical structure.例文帳に追加

基板３の上に、厚さ2.8nmのMo層１と厚さ4.2nmのSi層２が周期的に合計100（５０対）層積層されたMo/Si多層膜からなる反射膜において、周期構造の最表面側にあたるSi層２上に、Ru層４が成膜されている。 - 特許庁

X value = Cr+Mo+1.5Si+0.5Nb+0.2V+0.3W+8 Al-Ni-0.6Co≥-0.5Mn-30C-30N-0.5Cu...(1).例文帳に追加

Ｘ値＝Cr＋Mo＋1.5 Si＋0.5 Nb＋0.2 Ｖ＋0.3 Ｗ＋８Al−Ni−0.6 Co−0.5 Mn−30Ｃ−30Ｎ−0.5 Cu --- (1) - 特許庁

The abrasive part 2 is mainly composed of iron, and carbon equivalent weight Ceq expressed by a formula: Ceq=C+Mn/6+Si/24+Ni/40+Cr/5+Mo/4+V/14, is set to be 0.02 mass% or less.例文帳に追加

Ｃｅｑ＝Ｃ＋Ｍｎ／６＋Ｓｉ／２４＋Ｎｉ／４０＋Ｃｒ／５＋Ｍｏ／４＋Ｖ／１４ - 特許庁

When such a multilayer film is immersed in an etchant for dissolving the Mo layers 3, since the etchant infiltrates, while successively dissolving the Mo layers 3 from the layer on the surface side, the Mo/Si multilayered film can be peeled off in a very short period of time, even if an etchant that does not dissolve the Si layers is used 4.例文帳に追加

このような多層膜を、Mo層３を溶かすエッチング液に浸漬すると、表面側の層から順にMo層３を溶かしながらエッチング液が侵入して行くので、Si層４は溶かさないエッチング液を用いても、ごく短時間でMo/Si多層膜を剥離することが可能になる。 - 特許庁

In the expressions, C, N, Ni, Cu, Mn, Cr, Si, Al, Mo, and Ti each denote the content (mass%) of each element.例文帳に追加

γmax=420C+470N+23Ni+9Cu+7Mn-11.5Cr-11.5Si-52Al+189…式１γpot =700C+800N+10(Mn+Cu)+20Ni-9.3Si-6.2Cr-9.3Mo-74.4Ti-37.2Al+63.2…式２ここで、C、N、Ni、Cu、Mn、Cr、Si、Al、Mo、Tiは、それぞれの元素の含有量(質量%)を示す。 - 特許庁

The mirror includes a multilayer structure including an Mo/Si alternation layer.例文帳に追加

該ミラーは、Ｍｏ／Ｓｉ交互層を含む多層構造を含む。 - 特許庁

Further, the sintered compact may comprise one or more kinds of metals selected from Ni, Co, Cr, Mo, W, Si and V by ≤50% in total.例文帳に追加

なお、Ni、Co、Cr、Mo、Ｗ、Si、Ｖのうちから選ばれた１種または２種以上を合計で50％以下含有してもよい。 - 特許庁

The lithium fluoride layer 3' is stable on the Mo/Si multilayer film 2 but adhesion to the Mo/Si multilayer film 2 is relatively weak.例文帳に追加

フッ化リチウム層３’は、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜２上で安定しているが、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜２との密着力は比較的弱い。 - 特許庁

Ceq=C+Si/24+Mn/6+Ni/40+Cr/5+Mo/4+V/14, wherein C, Si, Mn, Ni, Cr, Mo and V represent the contents (mass%) of respective elements; and the content of an element which is not contained is made zero.例文帳に追加

Ｃｅｑ＝Ｃ＋Ｓｉ／２４＋Ｍｎ／６＋Ｎｉ／４０＋Ｃｒ／５＋Ｍｏ／４＋Ｖ／１４、ここで，Ｃ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｖ：各元素の含有量（ｍａｓｓ％）で含有しない元素は０とする。 - 特許庁

Next, an Mo/Si multilayer film is formed in an (optical) effective region that is one size smaller than the protection layer 2.例文帳に追加

次に、この保護層２よりも一回り小さい（光学的な）有効領域内へ、マグネトロンスパッタリングによりMo/Si多層膜を形成する。 - 特許庁

The employed hard particle comprises ferromolybdenum powder which includes 60-70% Mo and 0.1% or less C, and the balance substantial Fe and unavoidable impurities; or Co based hard particle including Mo, Cr and Si.例文帳に追加

硬質粒子としては、Mo：60〜70％、及びC：0.1％以下を含有し、残部実質的にFe及び不可避的不純物からなるフェロモリブデン粉末か、Mo、Cr及びSiを含有するCo基硬質粒子を使用する。 - 特許庁

In the multilayer film which the Si layers and Mo layers 4 are repeatedly piled and a medium layer 3 is provided in between the Si layers and Mo layers, the Mo layers are constituted of crystalized Mo layers.例文帳に追加

Ｓｉ層２とＭｏ層４を繰り返し積層し、これらＳｉ層とＭｏ層との間に中間層３を設けた多層膜において、前記Ｍｏ層は、結晶化したＭｏ層で構成される。 - 特許庁

Mo/Si MULTILAYER FILM AND METHOD FOR IMPROVING ITS HEAT RESISTANCE例文帳に追加

Ｍｏ／Ｓｉ多層膜及びその耐熱性を向上させる方法 - 特許庁

An aluminum anodized coating is immersed into an aqueous solution containing the fluoro-complex salt of Zr, Si, Ti, Au, Ag, Co, Ni, Mo, Mn, Nb, Ta, W, Zn, Fe, Ir or Sc.例文帳に追加

アルミニウム陽極酸化皮膜を、Zr 、Si、Ti、Au、Ag、Co、Ni、Mo、Mn、Nb、Ta、W、Zn、Fe、Ir、又はScのフルオロ錯塩を含む水溶液に浸漬させることを特徴とする。 - 特許庁

Here, although a forming region for an Mo layer 3 is formed on the entire face of the effective region, a forming region for an Si layer 4 is formed by dividing it into plural regions.例文帳に追加

このとき、Mo層３の形成領域は有効領域全面とするが、Si層４の形成領域は複数に分割して形成している。 - 特許庁

The weld metal is preferably prepared so as to satisfy 50≤719-795C-35.55Si-13.25Mn-23.7Cr-26.5Ni-23.7Mo-11.85Nb≤360 (where C, Si, Mn, Cr, Ni, Mo and Nb denote the content (mass %) of each element).例文帳に追加

溶接金属が、50≦ 719-795C-35.55Si-13.25Mn-23.7Cr-26.5Ni-23.7Mo-11.85Nb≦360 （ここに、C 、Si、Mn、Cr、Ni、Mo、Nb：各元素の含有量（質量％））を満足するように調整するのが好ましい。 - 特許庁

The above steel sheet contains suitable amounts of C, N, Ti, Nb, Mo, Cu, Ni, B, Mg, Si, Mn and S.例文帳に追加

以上の鋼板が、Ｃ，Ｎ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｂ，Ｍｇ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｓの好適量を含有する。 - 特許庁

The masteralloy can include Cr, B, Ta, Nb, C, Mo, W, Zr, Zn, Cu, Hf, O, Si or N.例文帳に追加

母合金には、Ｃｒ，Ｂ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃ，Ｍｏ，Ｗ，Ｚｒ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ｈｆ，Ｏ，Ｓｉ又はＮを含むことができる。 - 特許庁

The steel bar moreover contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNb１種以上、及び／または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%、Mn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの１種以上、及び／または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

Thickness distribution of the Si layer 11 and the Mo layer 12 of the Mo/Si mutual layer 20 is determined by optimality treatment for expanding angle reflecting property of the Mo/Si mutual layer of fixed thickness of basic structure.例文帳に追加

基本構造である一定膜厚のＭｏ／Ｓｉ交互層の角度反射特性を拡大するための最適化処理によって、Ｍｏ／Ｓｉ交互層２０のＳｉ層１１とＭｏ層１２の膜厚分布を決定する。 - 特許庁

The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加

該鋼棒は、更に、Si:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの１種以上、及び／または、B 、Cu、Ni及びMoの１種以上を含有する。 - 特許庁

An Mo/Si multilayer film is formed on a substrate 5 by a sputtering method.例文帳に追加

基板５の上にスパッタリング法でＭｏ／Ｓｉ多層膜を成膜した。 - 特許庁

An Mo/Si multilayer film 2 is formed on the surface of a substrate 1.例文帳に追加

基板１の表面には、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜２が成膜されている。 - 特許庁

H3 value=C/0.2+Si/5.0+Mn/1.3+Cr/1.0+Mo/1.2+0.4t-0.7(Cr+Mo) ^1/2 (3).例文帳に追加

Ｈ３値＝Ｃ／０.２＋Ｓｉ／５.０＋Ｍｎ／１.３＋Ｃｒ／１.０＋Ｍｏ／１.２＋０.４ｔ−０.７（Ｃｒ＋Ｍｏ）^1/2 …（３） - 特許庁

Cr-Mo-Si-Co alloy grains are dispersed as hard grains in a matrix phase by 10 to 30% in the area ratio, and also porosity is regulated to 1 to 10% in the volume ratio.例文帳に追加

基地相中に硬質粒子としてCr−Mo−Si−Co系合金粒子を面積率で10〜30％分散させ、かつ気孔率が体積率で１〜10％とする。 - 特許庁

The Ceq value is expressed by a formula: Ceq=C+Mn/6+Si/24+Ni/40+Cr/5+Mo/4+V/14, wherein Ceq is carbon equivalent (mass%), and each of C, Mn, Si, Ni, Cr, Mo, and V is the content of each alloy element (mass%).例文帳に追加

Ｃｅｑ＝Ｃ＋Ｍｎ／６＋Ｓｉ／２４＋Ｎｉ／４０＋Ｃｒ／５＋Ｍｏ／４＋Ｖ／１４、ここで、Ｃｅｑ：炭素当量（ｍａｓｓ％）、Ｃ、Ｍｎ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｖ：各合金元素の含有量（ｍａｓｓ％）。 - 特許庁

The contaminants contained in a Fischer-Tropsch product stream and comprising inorganic components such as Al, Co, Ti, Fe, Mo, Na, Zn, Si, and Sn, derived from a catalyst are removed through acidic aqueous stream.例文帳に追加

フィッシャー・トロプシュ生成物流に含まれる、触媒に起源するAl,Co,Ti,Fe,Mo,Na,Zn,Si,およびSnなど無機成分を含む汚染物を、酸性水溶により処理し汚染物を除去する。 - 特許庁

Meanwhile, a target-holding means 18 changes the target material 2 alternately to Mo and Si, to form a Mo/Si multilayer film on the face 1a to be film-formed of the substrate 1.例文帳に追加

この際、ターゲット保持手段１８は、ターゲット材２を、ＭｏとＳｉとに交互に切り換えて、基板１の成膜面１ａ上にＭｏ／Ｓｉ多層膜を形成する。 - 特許庁

[2], and C≤-0.175(Si+10Al+ Mo)+0.17 [3].例文帳に追加

Ｓｉ＋１０Ａｌ＋Ｍｏ≦０．８・・・［１］ Ｃｕ＋Ｎｉ＋Ｃｒ≦１．０％・・・［２］ Ｃ≦−０．１７５（Ｓｉ＋１０Ａｌ＋Ｍｏ）＋０．１７・・・［３］ - 特許庁

Here, [Cu], [Si], [N], and [Mo] are contents of each element shown by mass%.例文帳に追加

ここで、［Ｃｕ］、［Ｓｉ］、［Ｎ］、及び［Ｍｏ］は、質量％で表した各元素の含有量とする。 - 特許庁

The one in which Si, Mn, Cr, Mo, Cu, Ni or the like are suitably added as steel components may be used.例文帳に追加

鋼成分としてＳｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｃｕ，Ｎｉ等を適宜添加したものを用いることができる。 - 特許庁

Pcm=C+Si/30+(Mn+Cu+Cr)/20+Ni/60+Mo/15+V/10+5B (1); the symbols in the formula (1) denote the mass% of the respective elements.例文帳に追加

Ｐｃｍ＝Ｃ＋Ｓｉ／３０＋（Ｍｎ＋Ｃｕ＋Ｃｒ）／２０＋Ｎｉ／６０＋Ｍｏ／１５＋Ｖ／１０＋５Ｂ （１） 式（１）中の記号は各元素の質量％を示す。 - 特許庁

To provide an Mo-Si-B alloy which has excellent oxidation resistance at high temperatures.例文帳に追加

高温において優れた耐酸化性を有するＭｏ−Ｓｉ−Ｂ合金を提供する。 - 特許庁

WC-BASED W-Mo-Si-C SYSTEM COMPOSITE CERAMIC, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＷＣ基Ｗ−Ｍｏ−Ｓｉ−Ｃ系複合セラミックス及びその製造方法 - 特許庁

The multilayer film reflection mirror is provided with: an Mo/Si multilayer film 6 having a structure in which a layer principally comprising Mo and a layer principally comprising Si are alternately and periodically formed on the surface of a substrate 4; and an Ru/Si multilayer film 8 having a structure in which a layer principally comprising Ru and a layer principally comprising Si are alternately and periodically formed on the Mo/Si multilayer film.例文帳に追加

基板（４）表面にＭｏを主成分とする層とＳｉを主成分とする層を交互に周期的に成膜した構造を有するＭｏ／Ｓｉ多層膜（６）と、前記Ｍｏ／Ｓｉ多層膜上にＲｕを主成分とする層とＳｉを主成分とする層を交互に周期的に成膜した構造を有するＲｕ／Ｓｉ多層膜（８）とを備える。 - 特許庁

H_mXY_12O_40 (1) (X: either of P and Si; Y: either of W and Mo; when X=P, m=3; when X=Si, m=4).例文帳に追加

Ｈ_mＸＹ_12Ｏ_40 （１）（Ｘ：Ｐ、Ｓｉのいずれか、Ｙ：Ｗ、Ｍｏのいずれか ｍ：Ｘ＝Ｐの場合はｍ＝３ Ｘ＝Ｓｉの場合はｍ＝４） - 特許庁

In the formula Sb-Mo-X-Ni-Y-Z-Si-C-O (1), X reprensents at least one kind of an element selected from V and Nb and Z represents at least one kind of an element selected from Cu and W.例文帳に追加

Sb-Mo-X-Ni-Y-Z-Si-C-O(1)（式中、ＸはＶおよびＮｂから選ばれた少なくとも一種の元素を示し、ＺはＣｕおよびＷから選ばれた少なくとも一種の元素を示す。） - 特許庁

The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加

ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか１種の酸化物、またはいずれか２種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁

A reflective mirror is constituted so that a reflection film 4 may be formed by laminating alternately a Mo thin film 2 with a low refraction substance and an Si thin film 3 with a high refraction substance on a substrate 1.例文帳に追加

反射ミラーにおいては、基板１の上に、低屈折物質であるMo薄膜２と高屈折物質であるSi薄膜３が交互に積層され、反射膜４を構成している。 - 特許庁

The photocatalytic material (TiO_2) layer 5 is formed on the Mo/Si multi-layer film.例文帳に追加

このＭｏ／Ｓｉ多層膜の上には、光触媒材料（ＴｉＯ_２）層５が成膜されている。 - 特許庁