「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition having i-beam transmit tance and low thermal expansion after imidization, and enabling to form a pattern with excellent thermal resistance, and to provide a method of forming such a pattern, and further to provide electronic parts with high reliability.例文帳に追加

ｉ線透過性とイミド化後の低熱膨張性を有し、優れた耐熱性のパターンを形成できる感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性に優れる電子部品の提供。 - 特許庁

To provide a heat-resistant photosensitive polymer composition having high sensitivity and excellent pattern form, resolution and storage stability, to provide a method for manufacturing a pattern and to provide electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パタ−ン形状、解像性及び保存安定性に優れる耐熱性感光性重合体組成物、パターンの製造方法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a cured object excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film and a method for forming a pattern.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition which is developed with water, achieves good pattern accuracy, ensures little residue of organic matter after baking by heating, and is used chiefly for a resistive element pattern excellent in adhesion, and also to provide a cured product thereof.例文帳に追加

水で現像ができ、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣が少なく、密着性に優れた抵抗体パターン用等の樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition for obtaining a hardener superior in pattern precision even when an exposure amount is comparatively small, and to provide its storing method, a cured film forming method and a pattern forming method.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PLATING, LAMINATE, METHOD OF PRODUCING SURFACE METAL FILM MATERIAL USING THE SAME, SURFACE METAL FILM MATERIAL, METHOD OF PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, METAL PATTERN MATERIAL, AND WIRING BOARD例文帳に追加

めっき用感光性樹脂組成物、積層体、それを用いた表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及び配線基板 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a large film thickness, ensuring a good pattern shape and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern and electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、パターンの形状も良好な、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good peelability of a resist pattern and substantially avoids edge lifting of the resist pattern and peeling of plated copper, and to provide a photosensitive resin laminate using the same.例文帳に追加

レジストパターンの剥離性が良好で、レジストパターンのスソ浮き発生性が少なく、メッキ銅剥がれが少ない感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in stability with the lapse of time as to a shrinkage pattern of a coated film, and usable as a shrinkage pattern paint capable of forming the coated film excellent in an antifouling property of the coated film.例文帳に追加

塗膜のちぢみ模様の柄が経時的な安定性に優れ、塗膜の耐汚染性に優れた塗膜を形成できるちぢみ模様塗料に用いることができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has hydrophobicity suitable for the formation of a fine resist pattern and ensures excellent solubility of its exposed part in an alkali developer in development, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンの形成等に好適な疎水性を有し、現像処理時には、露光部がアルカリ現像液に対する溶解性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet and the pattern layer is formed from an aqueous composition comprising a carbonate urethane resin.例文帳に追加

基材シート上に絵柄模様層が形成されている化粧シートであって、前記絵柄模様層が、カーボネート系ウレタン樹脂を含む水性組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage, achieves resolution up to a fine pattern, and can form a pattern or a film excellent in solvent and heat resistances.例文帳に追加

保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

NOVEL COPOLYMER, NOVEL COPOLYMER-CONTAINING COMPOSITION, LAMINATE BODY, METHOD OF PRODUCING METAL FILM-SURFACED MATERIAL, METAL FILM-SURFACED MATERIAL, METHOD OF PRODUCING METALLIC PATTERN MATERIAL AND METALLIC PATTERN MATERIAL例文帳に追加

新規共重合ポリマー、新規共重合ポリマーを含有する組成物、積層体、表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、及び金属パターン材料 - 特許庁

To provide a method for forming an ultrahigh heat-resistant positive pattern by using a positive photosensitive composition in the process which requires high heat resistance of a photoresist pattern such as manufacturing of a TFT active matrix substrate.例文帳に追加

ＴＦＴアクティブマトリクス基板の製造など、フォトレジストパターンに高耐熱性が要求されるプロセスにおいて、ポジ型感光性組成物を用いて良好な超高耐熱ポジ型パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation-sensitive composition having simultaneously superior characteristics, with respect to sensitivity, resolution, pattern section shape, etc.例文帳に追加

感度、解像度、パターン断面形状などについて同時に優れた特性を有するポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition exhibiting high sensitivity and high resolution in pattern formation by irradiation with active light.例文帳に追加

活性光線の照射によるパターン形成において、高感度、高解像度を示すポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜およびパターン形成方法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition having high resolution, ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in aging stability.例文帳に追加

高解像度およびレジストパターンのエッジラフネスが改善され、さらに経時安定性が優れた感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which prevents falling of a pattern and ensures improved edge roughness, density dependence and surface roughness in etching.例文帳に追加

パターン倒れが防止され、エッジラフネス、疎密依存性、及びエッチング時の表面荒れが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photocurable composition which has high sensitivity and high solubility, suppresses occurrence of residue on development, reduces image thickening, and allows reproduction of a desired image pattern.例文帳に追加

高感度で高溶解性で現像残渣を抑えると共に、画像太りを軽減して所期の画像パターンの再現を可能とする。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which improves the shape of a resist pattern, that is, rectangularity and line edge roughness while retaining high resolution.例文帳に追加

高解像性は維持しつつ、レジストパターンの形状、すなわち、矩形性およびラインエッジラフネスを改善したホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a paste composition for conductor/dielectric formation having high resolution even in a large film thickness and capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

高膜厚でも高解像度が得られ、ファインパターン形成を可能とする導体／誘電体形成のためのペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in sensitivity, resolution, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等にも優れた放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To manufacture a TFT (Thin Film Transistor) without using a mask pattern that uses a resist composition and to manufacture a display device using the TFT.例文帳に追加

レジスト組成物を用いたマスクパターンを用いることなくＴＦＴ及びそれを用いた表示装置を製造することを目的とする。 - 特許庁

A color filter can be produced using a colored pattern formed by patterning the colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることで、着色パターンを形成して、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

To provide a photosensitive composition enabling production of a highly-sensitive and contrasty polyimide film pattern which can use an i line as its illuminant.例文帳に追加

光源としてｉ線が使用可能であり、高感度で、コントラストのよいポリイミド膜パターンの形成が可能な感光性組成物を得る。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND DISPLAY PANEL例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板、ディスプレイ板の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス - 特許庁

To provide a resist composition which enables to form a pattern having a superior shape and proper focus margin.例文帳に追加

優れた形状及び良好なフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition formable of a pattern having excellent resolution and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt giving a pattern having excellent line edge roughness, and to provide a resist composition using the salt.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる塩及びこれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for a resist composition capable of preparing a resist pattern having an excellent line edge roughness and an excellent top shape.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス及び優れたトップ形状を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which shows high resolution, good pattern collapse resistance and a good mask error factor (MEF).例文帳に追加

高い解像度、良好なパターン倒れ耐性、良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を示すレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution, focus margin and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern having excellent resolution and excellent line edge roughness by using a salt for a resist composition.例文帳に追加

本発明の塩をレジスト組成物に用いることにより、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

On a wiring pattern 201, two or more electric elements 203 are packaged and the electric elements 203 are sealed with a thermosetting resin composition 204.例文帳に追加

配線パターン２０１に、２以上の電気素子２０３を実装し、電気素子２０３を熱硬化性樹脂組成物２０４で封止する。 - 特許庁

There are also provided a photosensitive element using the photosensitive resin composition, a process for producing a resist pattern, and process for producing a printed circuit board.例文帳に追加

また、その感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法も開示する。 - 特許庁

To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern showing a desired resolution by using a resist layer having a prescribed composition.例文帳に追加

所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。 - 特許庁

To provide a hardening composition for nanoimprinting lithography, having a low viscosity and a high transcription pattern accuracy, and excellent in a mechanical strength.例文帳に追加

低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、機械的強度に優れたナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition that exhibits suppressed drying in a nozzle and accelerated drying on an object, and a pattern-forming method.例文帳に追加

ノズル内での乾燥を抑制させ、かつ、対象物上での乾燥を促進させたインク組成物、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A wall material with a pattern is obtained by integrating the base material and the decorative material via an adhesive layer made of a polyurethane resin composition foam.例文帳に追加

基材と化粧材とをポリウレタン樹脂組成物発泡体からなる接着層を介して一体化されてなる模様付き壁材。 - 特許庁

To provide a resin composition that gives cured product having high refractive index, excellent mold releasability, excellent mold pattern reproducibility and excellent adhesiveness.例文帳に追加

高屈折率で、離型性、型再現性、密着性に優れた硬化物を与える樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To obtain an excellent image composition result by improving matching degree among a plurality of images and improving pattern alignment accuracy.例文帳に追加

複数画像間の絵柄の一致度を高め、かつ絵柄の位置合わせ精度を高める工夫によって、良好な画像合成結果を得る。 - 特許庁

MONOMER, HIGH POLYMER COMPOUND FOR RESIST, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

単量体、レジスト用高分子化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁