「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

A fixed pattern storage section 15 stores the fixed pattern data in the image coding system of an H.261 being suitable to the terminal 2.例文帳に追加

固定パターン格納部１５は端末２に適合したＨ．２６１の画像符号化方式の固定パターンデータを格納する。 - 特許庁

The pattern exposure system decides the luminous exposure for pattern exposure in accordance with the received thickness of the resist film (step S202).例文帳に追加

パターン露光装置は、受信した膜厚に応じてパターン露光処理における露光量を決定する（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

To suppress a factor which deteriorate substrate characteristics by securing a pattern width which becomes broad enough in a power supply system pattern.例文帳に追加

電源系パターンに十分に幅広となるパターン幅を確保し、基板特性を悪化させる要因を抑制させること。 - 特許庁

To provide a pattern extraction system with which the dimensional variations of a semiconductor integrated circuit, attributed to pattern density, can be inspected.例文帳に追加

半導体集積回路のパターン密度に起因する寸法変動を検査可能なパターン抽出システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING SYSTEM OF MASK PATTERN, CELL LIBRARY, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターンの作製方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 - 特許庁

MOVABLE BODY DRIVE METHOD, MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a mask pattern data generation system/method having no-return work on the matching work of mask pattern data.例文帳に追加

マスクパターンデータの合わせ込み作業に関わる戻り作業のないマスクパターンデータ作成システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PATTERN EXPOSURE, METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING CIRCUIT, PATTERN EXPOSURE MASK, MANUFACTURE OF THE MASK, AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

パターン露光方法及び装置、回路製造方法及びシステム、パターン露光マスク、マスク製造方法、集積回路装置 - 特許庁

To provide a system for dividing a system band in a suitable division pattern in a radio communication system where the system band is divided and allocated to a user.例文帳に追加

システム帯域を分割してユーザに割り当てる無線通信システムにおいて、システム帯域を適切な分割パターンで分割するシステムを提供する。 - 特許庁

The composite polarization modified illumination system includes a first modified illumination system that polarizes light in the first direction by means of a first lattice pattern and a second modified illumination system that polarizes light in the second direction by means of a second lattice pattern.例文帳に追加

複合偏光変形照明系は、第１の方向の偏光に具現される第１の照明系及び第２の方向の偏光に具現される第２の照明系を含む。 - 特許庁

The lens position switching mechanism 20 switches the position of the light-distribution pattern switching lens 19 to a first position for making the light-distribution pattern P3 of the light-concentrating system pass through as it is and a second position for switching the light-distribution pattern P3 of the light-concentrating system to the light-distribution pattern P4 of the diffusion system.例文帳に追加

レンズ位置切替機構２０は、配光パターン切替レンズ１９の位置を、集光系の配光パターンＰ３をそのまま通過させる第１位置と集光系の配光パターンＰ３を拡散系の配光パターンＰ４に切り替える第２位置とに、切り替える。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a hybrid lithographic system so as to form a pattern, including a superfine pattern and a large area pattern requiring no accuracy, in a short time with high accuracy.例文帳に追加

超微細なパターンと、精度の要求されない大面積パターンとを含むパターンを、高精度にかつ短時間で形成することができるハイブリッドリソグラフィ方式によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

For this arpeggio pattern data generation system, source data OD for an arpeggio pattern representing a desired playing pattern are divided into groups by t racks 1 to M and prepared as partial pattern data OD11 to ODM (A).例文帳に追加

このアルペジオパターンデータ作成システムでは、所望の演奏パターンを表わすアルペジオパターン用元データＯＤが、トラック１〜Ｍ毎のグループに分けられて部分パターンデータＯＤ１〜Ｍとして用意される（Ａ）。 - 特許庁

A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

The pattern of a mask M is exposed on a base plate G through a projection optical system 3.例文帳に追加

投影光学系３を介してマスクＭのパターンを基板Ｇに露光する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, SYSTEM FOR REMOVAL PROCESSING OF REMAINING FILM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジストパターンの形成方法と残存膜除去処理システムおよび記録媒体 - 特許庁

PATTERN ANALYSIS SUPPORTING METHOD AND SYSTEM FOR DIAGNOSIS AND TREATMENT, RECORDING MEDIUM AND ITS CHART例文帳に追加

診療パターン分析支援装置、方法、および記憶媒体ならびに図表 - 特許庁

To provide an electronic apparatus operating pattern switching system low in cost and simple in operation.例文帳に追加

低コストで操作の簡単な電子機器運転パターン切換システムを提供する。 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT AND OPTICAL FIBER例文帳に追加

照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー - 特許庁

The imaging system (camera 1) 12 is arranged between the pattern projectors 10, 11.例文帳に追加

撮像装置（カメラ１）１２をパターン投影装置１０，１１の間に配置する。 - 特許庁

The character symbol string is transmitted to the authentication system and converted to the selection pattern.例文帳に追加

この文字記号列は、認証システムに送信され、選択パターンに変換される。 - 特許庁

To provide a method, a system, and a manufactured article for finding an abnormal pattern.例文帳に追加

異常パターン発見のための方法、システム及び製造物品を提供する。 - 特許庁

To provide an antenna system which can have a low side lobe of a monopulse difference pattern.例文帳に追加

モノパルス差パターンの低サイドローブ化を実現したアンテナ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical lithography system for providing an optical pattern without using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを使用せずに光パターンを与える光リソグラフィーシステムを提供する。 - 特許庁

TEST PATTERN PRODUCING DEVICE, SIMULATION RESULT ANALYZING DEVICE AND LSI SIMULATING SYSTEM例文帳に追加

テストパターン発生装置、シミュレーション結果解析装置およびＬＳＩシミュレーションシステム - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR NON-SPIN COAT SYSTEM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ノンスピン塗布方式用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a system for lighting a target area with a desired lighting pattern.例文帳に追加

ターゲット領域を所望の照明パターンで照明するシステムを提供する。 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERN IN SOLDER RESIST LAYER ON PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

プリント回路基板上のソルダーレジスト層にパターンを形成する方法及びシステム - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DESIGN RULE CHECKING ENHANCED WITH PATTERN MATCHING例文帳に追加

パターンマッチングを有する改良されたデザインルール検査のための方法及びシステム - 特許庁

A projection system projects the radiation beam with a pattern to a target of the substrate.例文帳に追加

投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

A system 10 forms pattern vapor deposition on a substrate 14 from a compression fluid.例文帳に追加

システム１０は、基板１４に圧縮流体からパターン蒸着を形成する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加

電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR IDENTIFYING CANDIDATE PAIR OF POSITION DETECTION PATTERN OF BAR CODE例文帳に追加

バーコードの位置検出パターンの候補対を識別する方法、装置及びシステム - 特許庁

HEATING PATTERN OF TRIANGULAR HEATING, PRODUCTION SYSTEM OF HEATING PASSAGE AND ITS METHOD例文帳に追加

三角加熱の加熱パターン及び加熱経路の生成システム並びにその方法 - 特許庁

A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.例文帳に追加

投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

PATTERN DEPENDENT MATCHING/ADJUSTMENT OF NEIGHBORHOOD INCLUDING OPTICAL OPERATION BY PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

投影光学系による光操作を含むパターン依存の近傍の整合／調整 - 特許庁

To provide a vein pattern management system, a vein pattern registering device, a vein pattern authentication device, a vein pattern registering method, a vein pattern authentication method, a program and a vein data structure, enabling determination of the presence or absence of a false vein pattern artificially formed on the body surface.例文帳に追加

体表面に作為的に生成された擬似静脈パターンの有無を判定可能な、静脈パターン管理システム、静脈パターン登録装置、静脈パターン認証装置、静脈パターン登録方法、静脈パターン認証方法、プログラムおよび静脈データ構造を提供する。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of drawing a chip pattern while varying shot conditions of a specific pattern included in one piece of lithographic data of the chip pattern.例文帳に追加

チップパターンの一つの描画データに含まれる特定のパターンのショット条件を変えながら、チップパターンを描画可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。 - 特許庁

Consequently, the pattern forming system attains to properly form the pattern approximate to the grating form on the substrate 9 while discharging the pattern forming material from the plurality of the discharge openings.例文帳に追加

これにより、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することが実現される。 - 特許庁

TEST PATTERN GENERATING METHOD, DATA STRUCTURE OF TEST PATTERN, TEST PATTERN GENERATING DEVICE, DISPLAY PANEL INSPECTION SYSTEM, CONTROL PROGRAM, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH THE PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加

テストパターン発生方法、テストパターンのデータ構造、テストパターン発生装置、表示パネル検査システム、制御プログラム、及び該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁