「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a system for rapidly and surely carrying out cutting of pattern cloth, though pattern matching cutting by apparel CAM (automatic cutting machine) was impossible.例文帳に追加

アパレルＣＡＭでの柄合わせ裁断は不可能であったが、柄生地の裁断を速く、確実に、裁断させるシステムである。 - 特許庁

DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING PATTERN TO BE EVALUATED AND PATTERN EVALUATION SYSTEM例文帳に追加

評価対象パターン決定装置、評価対象パターン決定方法、評価対象パターン決定プログラムおよびパターン評価システム - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, RESIZING DEVICE FOR PATTERN DIMENSIONS, CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND RESIZING METHOD OF THE PATTERN DIMENSIONS例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置、パターン寸法のリサイズ装置、荷電粒子ビーム描画方法及びパターン寸法のリサイズ方法 - 特許庁

A fixed pattern storage section 15 stores the fixed pattern data in the image coding system of an H.261 being suitable to the terminal 2.例文帳に追加

固定パターン格納部１５は端末２に適合したＨ．２６１の画像符号化方式の固定パターンデータを格納する。 - 特許庁

To provide a system for extracting spots where a pattern is not permitted which extracts spots beforehand where an additional processing of a pattern cut is not allowed.例文帳に追加

パターンカットの追加工が行えない個所を事前に摘出するパターンカット不可個所摘出システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING SYSTEM OF MASK PATTERN, CELL LIBRARY, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターンの作製方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 - 特許庁

MOVABLE BODY DRIVE METHOD, MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a mask pattern data generation system/method having no-return work on the matching work of mask pattern data.例文帳に追加

マスクパターンデータの合わせ込み作業に関わる戻り作業のないマスクパターンデータ作成システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PATTERN EXPOSURE, METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING CIRCUIT, PATTERN EXPOSURE MASK, MANUFACTURE OF THE MASK, AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

パターン露光方法及び装置、回路製造方法及びシステム、パターン露光マスク、マスク製造方法、集積回路装置 - 特許庁

To provide a system for dividing a system band in a suitable division pattern in a radio communication system where the system band is divided and allocated to a user.例文帳に追加

システム帯域を分割してユーザに割り当てる無線通信システムにおいて、システム帯域を適切な分割パターンで分割するシステムを提供する。 - 特許庁

The composite polarization modified illumination system includes a first modified illumination system that polarizes light in the first direction by means of a first lattice pattern and a second modified illumination system that polarizes light in the second direction by means of a second lattice pattern.例文帳に追加

複合偏光変形照明系は、第１の方向の偏光に具現される第１の照明系及び第２の方向の偏光に具現される第２の照明系を含む。 - 特許庁

The lens position switching mechanism 20 switches the position of the light-distribution pattern switching lens 19 to a first position for making the light-distribution pattern P3 of the light-concentrating system pass through as it is and a second position for switching the light-distribution pattern P3 of the light-concentrating system to the light-distribution pattern P4 of the diffusion system.例文帳に追加

レンズ位置切替機構２０は、配光パターン切替レンズ１９の位置を、集光系の配光パターンＰ３をそのまま通過させる第１位置と集光系の配光パターンＰ３を拡散系の配光パターンＰ４に切り替える第２位置とに、切り替える。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a hybrid lithographic system so as to form a pattern, including a superfine pattern and a large area pattern requiring no accuracy, in a short time with high accuracy.例文帳に追加

超微細なパターンと、精度の要求されない大面積パターンとを含むパターンを、高精度にかつ短時間で形成することができるハイブリッドリソグラフィ方式によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

For this arpeggio pattern data generation system, source data OD for an arpeggio pattern representing a desired playing pattern are divided into groups by t racks 1 to M and prepared as partial pattern data OD11 to ODM (A).例文帳に追加

このアルペジオパターンデータ作成システムでは、所望の演奏パターンを表わすアルペジオパターン用元データＯＤが、トラック１〜Ｍ毎のグループに分けられて部分パターンデータＯＤ１〜Ｍとして用意される（Ａ）。 - 特許庁

A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

To provide an electronic apparatus operating pattern switching system low in cost and simple in operation.例文帳に追加

低コストで操作の簡単な電子機器運転パターン切換システムを提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DESIGN RULE CHECKING ENHANCED WITH PATTERN MATCHING例文帳に追加

パターンマッチングを有する改良されたデザインルール検査のための方法及びシステム - 特許庁

A projection system projects the radiation beam with a pattern to a target of the substrate.例文帳に追加

投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

The imaging system (camera 1) 12 is arranged between the pattern projectors 10, 11.例文帳に追加

撮像装置（カメラ１）１２をパターン投影装置１０，１１の間に配置する。 - 特許庁

PATTERN ANALYSIS SUPPORTING METHOD AND SYSTEM FOR DIAGNOSIS AND TREATMENT, RECORDING MEDIUM AND ITS CHART例文帳に追加

診療パターン分析支援装置、方法、および記憶媒体ならびに図表 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT AND OPTICAL FIBER例文帳に追加

照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁

To provide an optical lithography system for providing an optical pattern without using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを使用せずに光パターンを与える光リソグラフィーシステムを提供する。 - 特許庁

A system 10 forms pattern vapor deposition on a substrate 14 from a compression fluid.例文帳に追加

システム１０は、基板１４に圧縮流体からパターン蒸着を形成する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加

電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR IDENTIFYING CANDIDATE PAIR OF POSITION DETECTION PATTERN OF BAR CODE例文帳に追加

バーコードの位置検出パターンの候補対を識別する方法、装置及びシステム - 特許庁

The pattern of a mask M is exposed on a base plate G through a projection optical system 3.例文帳に追加

投影光学系３を介してマスクＭのパターンを基板Ｇに露光する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, SYSTEM FOR REMOVAL PROCESSING OF REMAINING FILM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジストパターンの形成方法と残存膜除去処理システムおよび記録媒体 - 特許庁

The character symbol string is transmitted to the authentication system and converted to the selection pattern.例文帳に追加

この文字記号列は、認証システムに送信され、選択パターンに変換される。 - 特許庁

To provide a method, a system, and a manufactured article for finding an abnormal pattern.例文帳に追加

異常パターン発見のための方法、システム及び製造物品を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR NON-SPIN COAT SYSTEM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ノンスピン塗布方式用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

TEST PATTERN PRODUCING DEVICE, SIMULATION RESULT ANALYZING DEVICE AND LSI SIMULATING SYSTEM例文帳に追加

テストパターン発生装置、シミュレーション結果解析装置およびＬＳＩシミュレーションシステム - 特許庁

To provide a system for lighting a target area with a desired lighting pattern.例文帳に追加

ターゲット領域を所望の照明パターンで照明するシステムを提供する。 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERN IN SOLDER RESIST LAYER ON PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

プリント回路基板上のソルダーレジスト層にパターンを形成する方法及びシステム - 特許庁

To provide an antenna system which can have a low side lobe of a monopulse difference pattern.例文帳に追加

モノパルス差パターンの低サイドローブ化を実現したアンテナ装置を提供すること。 - 特許庁

HEATING PATTERN OF TRIANGULAR HEATING, PRODUCTION SYSTEM OF HEATING PASSAGE AND ITS METHOD例文帳に追加

三角加熱の加熱パターン及び加熱経路の生成システム並びにその方法 - 特許庁

A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.例文帳に追加

投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

PATTERN DEPENDENT MATCHING/ADJUSTMENT OF NEIGHBORHOOD INCLUDING OPTICAL OPERATION BY PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

投影光学系による光操作を含むパターン依存の近傍の整合／調整 - 特許庁

To provide a vein pattern management system, a vein pattern registering device, a vein pattern authentication device, a vein pattern registering method, a vein pattern authentication method, a program and a vein data structure, enabling determination of the presence or absence of a false vein pattern artificially formed on the body surface.例文帳に追加

体表面に作為的に生成された擬似静脈パターンの有無を判定可能な、静脈パターン管理システム、静脈パターン登録装置、静脈パターン認証装置、静脈パターン登録方法、静脈パターン認証方法、プログラムおよび静脈データ構造を提供する。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

After the resist pattern 7A is formed, it can be reduced in pattern width W, so that it is not required to prepare an expensive exposure system for micronizing the resist pattern 7A.例文帳に追加

レジストパターン７Ａを形成した後にそのパターン幅Ｗを縮小化できるので、レジストパターン７Ａを微細化するための高価な露光装置を用意する必要がない。 - 特許庁

To provide a lithography correcting system which forms a resist pattern nearer to design dimensions for forming the resist pattern crossing perpendicularly to a pattern on a substrate having steps.例文帳に追加

段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and system of testing a pattern, in which the contour data of the pattern is extracted without failure, and a high speed and accurate test of the circuit pattern is performed.例文帳に追加

パターンの輪郭データの抽出を失敗すること無く、高速かつ正確に回路パターンの検査を行うことのできる、パターン検査方法及びシステムを提供する。 - 特許庁