「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A system and the method for printing the pattern on a semiconductor by a lithography are executed by using a combination of an illumination and a mask pattern to be optimized so as to generate a desired pattern.例文帳に追加

所望のパターンを生成するように最適化される照明及びマスク・パターンの組み合わせを用いて、半導体上にパターンをリソグラフィにより印刷するシステム及び方法が述べられる。 - 特許庁

A pattern set means 10 outputs a load power pattern so as to satisfy a demand pattern which a load 7 connected to the receiving-end bus-bars 3 of a power system requires.例文帳に追加

電力系統の受電端母線３に接続された負荷７が要求する消費電力パターンを満たすようにパターン設定手段１０は負荷電力パターンを出力する。 - 特許庁

Pattern recognition and a retrieval structure, based on the Web, permit online pattern retrieval and a selection using various pattern renderings and similarity techniques, including a system based on the edge properties mentioned above.例文帳に追加

ウェブに基づくパターン認識と検索構造は、上述のエッジ特性に基づくシステムを含む、種々のパターン表現と類似性技術を利用して、オンラインパターン検索と選択を可能とする。 - 特許庁

In the die-die comparison system, a pattern inspection apparatus matches a relationship between a pattern in a chip A' and a pixel with a relationship between a pattern in a chip A and the pixel when an image of the chip A' is captured.例文帳に追加

ダイ−ダイ比較方式において、チップＡ’からの画像の取り込み時、チップＡ’中のパターンと前記画素との関係をチップＡ中のパターンと前記画素との関係に一致させる。 - 特許庁

To provide an image processing system and an image forming apparatus, and an information processing apparatus capable of always outputting an image developing a proper ground tint pattern effect by adjusting ground tint pattern density when variation in the density of a ground tint pattern image takes place.例文帳に追加

地紋画像の濃度変動が発生する場合に、地紋濃度の調整を行なって適切な地紋効果が得られる画像を常に出力するようにすること。 - 特許庁

The system picturizes pattern light projected images of an object being illuminated by the pattern light to acquire image data of the pattern light-projected images, while picturizing non-pattern light projected images of the object being non-illuminated by the pattern light to acquire image data of the non-pattern light projected images.例文帳に追加

対象物体にパターン光が投光されている状態における対象物体のパターン光投光画像を撮像しパターン光投光画像の画像データを取得し、パターン光が投光されていない状態における対象物体のパターン光非投光画像を撮像しパターン光非投光画像の画像データを取得する。 - 特許庁

A pattern part of an information recording body 1 having a hidden pattern is illuminated by a light source 24, reflected light is read out by an optical sensor 25 through a check pattern 27 and a lens system 26, a moire pattern is generated, and whether the generated moire pattern is the same as a reference pattern stored in a storage means 29 or not is judged to solve conventional problems.例文帳に追加

隠しパターンを有する情報記録体１のパターン部を光源２４で照明し、反射光を確認パターン２７およびレンズ系２６を介して光センサ２５で読み取り、モアレパターンを発生させ、記憶手段２９に記憶された標準パターンとの異同の判定を行なうことにより、課題を解決した。 - 特許庁

An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加

露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁

When this household appliance control system is switched to a crime prevention mode by an operation panel 22, etc., a presence production system control part 44 acquires the sample pattern from the sample pattern storage part 42 and transmits control signals to each household appliance according to the acquired sample pattern.例文帳に追加

操作パネル２２等で防犯モードに切替られると、在宅演出システム制御部４４はサンプルパターン記憶部４２からサンプルパターンを取得し、取得したサンプルパターンに従って各家電機器に制御信号を送信する。 - 特許庁

A system candidate division part 14 divides the second system candidates at division places for eliminating the largest inhibition pattern appearance places, and generates the system.例文帳に追加

系列候補分割部１４は各第２の系列候補について最多の禁止パターン出現箇所を解消する分割箇所で分割して系列を生成する。 - 特許庁

The image forming apparatus employs a top mark detecting system and a pattern matching detection system as a system for measuring the circumferential length of an intermediate transfer body.例文帳に追加

本画像形成装置は、中間転写体の周長を測定する方式として、トップマーク検知方式及びパターンマッチング検知方式を採用する。 - 特許庁

A world coordinate system having a visual point and a pattern object set therein is converted to a visual point coordinate system, and the visual point coordinate system is modified and corrected (T1-T4).例文帳に追加

視点と図柄オブジェクトとが設定されたワールド座標系を視点座標系に変換して、その視点座標系を変形補正する（Ｔ１〜Ｔ４）。 - 特許庁

A system comprising an illumination system for supplying a radiation beam, an array of individually controllable elements for forming a pattern to the beam, and a projection system are disclosed.例文帳に追加

放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。 - 特許庁

Furthermore, the terminal also transmits/receives a signal during system switching (System Hopping) in accordance with the system switching pattern unique to each terminal.例文帳に追加

また端末も端末毎に固有のシステム切替パターンに従ってシステム切替を実施（Ｓｙｓｔｅｍ Ｈｏｐｐｉｎｇ）しながら信号を送受信する。 - 特許庁

To make small-sized a lighting system for an optical shape measuring instrument, and to improve the reliability without making an optical system large-sized even when a different pattern is irradiated by an irradiation optical system of a pattern irradiating method.例文帳に追加

パターン照射法の照射光学系から異なるパターンを照射するようにしても、光学系が大きくならないようにして、光学的形状測定装置の照明装置の小型化と信頼性の向上を図る。 - 特許庁

From the XML schema document, an operation pattern interpretation program is automatically prepared (S6), and the operation pattern of the XML document and the operation pattern interpretation program are automatically developed into operation pattern data usable in the automatic operation system (S7).例文帳に追加

ＸＭＬスキーマ文書から運転パターン解釈プログラムを自動作成し（Ｓ６）、ＸＭＬ文書の運転パターンと運転パターン解釈プログラムから自動運転システムで利用可能な運転パターンデータに自動展開する（Ｓ７）。 - 特許庁

The pattern detection processing program generation system inputs an attack pattern description file 22 in which an attack pattern to be detected is described by a pattern sequence constituted of normal expression modified by a syntax element specifier.例文帳に追加

このパターン検出処理プログラム生成システムは、構文要素指定子によって修飾された正規表現で構成されるパターンシーケンスで検出対象の攻撃パターンを記述した攻撃パターン記述ファイル２２を入力する。 - 特許庁

In this automatic accompaniment generation system, accompaniment pattern data Ap which consists of a plurality of pattern notes P1 to P5 are used, and these pattern notes P1 to P5 are associated with each other serially in time, by timing information (0000, 0480, 0960, 1440), each of which is included in each pattern note.例文帳に追加

この自動伴奏生成システムでは、複数のパターンノートＰ１；Ｐ２；…から成る伴奏パターンデータＡｐが使用され、これらのパターンノートＰ１〜Ｐ５は、夫々が有するタイミング情報（0000，0480，0960，1440 )により時系列的に関連付けられている。 - 特許庁

A pattern detecting part 112 eliminates configurations that can not be included in a system about each system configuration pattern outputted by the information retrieving part 111 by referring to the system constraint storing part 132 and outputs a configuration satisfying a constraint condition as a system example.例文帳に追加

パターン検出部１１２は、システム制約記憶部１３２を参照して、情報検索部１１１が出力する各システム構成パターンについて、システム内に含められない構成を削除し、制約条件を満たすものを、システム例として出力する。 - 特許庁

The exposure apparatus comprises an original pattern stage RS, an illumination optical system IL for illuminating an original pattern R, a wafer stage WS, a projection optical system UL, and a TTR detector 104.例文帳に追加

露光装置は、原版ステージＲＳと、原版Ｒを照明する照明光学系ＩＬと、基板ステージＷと、投影光学系ＵＬと、ＴＴＲ検出器１０４とを備える。 - 特許庁

To provide a vehicle lamp capable of electrically switching between a horizontally wide light distribution pattern and a light distribution pattern suitable for AFS (adaptive front-lighting system) projecting light beams leftward and rightward.例文帳に追加

水平方向にワイドな配光パターンと左右側方を照射するＡＦＳ（Adaptive Front-Lighting System）に適した配光パターンとを電気的に切り替えることが可能な車両用灯具を提供する。 - 特許庁

A wiring board 50 is structured by integrally forming the detection system wiring pattern 52 for sending a detection signal, and the driving system wiring pattern 51 for sending a driving signal on the same substrate body.例文帳に追加

配線基板５０は、検出信号送信用の検出系配線パターン５２と、駆動信号送信用の駆動系配線パターン５１とを同一の基板本体に形成して成る。 - 特許庁

To provide a system and a method for enhancing the performance of a lithographic system free from a mask by reducing pattern data required in datapath to a pattern generator.例文帳に追加

パターン発生器へのデータ経路において必要とされるパターン・データを低減することによって、マスクのないリソグラフィ・システムの性能を向上させるシステム及び方法を提供すること。 - 特許庁

To detect a position by an optimum pattern for an individual system by setting a ratio between the pattern width of a first color (reference color) and that of a second color.例文帳に追加

第１色目（基準色）と第２色目のパターン幅の比を設定することにより、個々のシステムに最適なパターンで位置検知する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR TRAINING PARAMETERS OF PATTERN RECOGNITION SYSTEM EXACTLY ASSOCIATED WITH ONE IMPLEMENTED TRANSFORM EXAMPLE OF ONE PATTERN FROM LIST例文帳に追加

リストからの一パターンの一実現変形例にそれぞれが厳密に関連付けられたパターン認識システムのパラメータを訓練する方法及びシステム - 特許庁

The imaging part 22 comprises an imaging element 28 for imaging the test pattern and an optical system 26 for guiding the test pattern to the imaging element 28.例文帳に追加

また、撮像部２２は、テストパターンを撮像するための撮像素子２８と、テストパターンを撮像素子２８に導くための光学系２６とを有する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, which is suited for the manufacture of a system LCD (liquid crystal display) and with which variation in a resist pattern dimension is suppressed.例文帳に追加

システムＬＣＤの製造に好適であり、レジストパターン寸法のばらつきを抑えることができるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern which is suitable for manufacturing a system LCD and which can suppress variations in the dimension of the resist pattern.例文帳に追加

システムＬＣＤの製造に好適であり、レジストパターン寸法のばらつきを抑えることができるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system for forming a circuit pattern of a first direction and a line/space circuit pattern of a second direction through only one exposure.例文帳に追加

第１の方向の回路パターン及び第２の方向のライン／スペース回路パターンを一回の露光に形成するための露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide a system for inspecting defects of a pattern shape and positional deviation of a servo pattern at high speed in inspection of a patterned medium for a hard disk.例文帳に追加

ハードディスク用のパターンドメディアの検査において、パターン形状及びサーボパターンの位置ずれの欠陥を高速に検査する方式を提供する。 - 特許庁

To provide a wireless low-frequency electrical stimulation system easily changing an electrical stimulation pattern even when applying the electrical stimulation pattern.例文帳に追加

電気刺激パタンを印加しているときでも、該電気刺激パタンを容易に変更することができる無線型低周波電気刺激システムを提供する。 - 特許庁

The shape pattern 102, the name of the pattern 102, a dimensional parameter and a location parameter input list 101 of a product are read by an automatic modeling system 103.例文帳に追加

部品の形状のパターン１０２と形状パターン名、寸法パラメータ、配置パラメータ入力表１０１を自動モデリングシステム１０３で読み込む。 - 特許庁

The second master pattern and the pattern to be measured are positioned so as to match the coordinate system of the hole, they are compared and the hole is inspected (step 108).例文帳に追加

穴の座標系が一致するように第２のマスタパターンと被測定パターンを位置合わせし、これらを比較して穴を検査する（ステップ１０８）。 - 特許庁

To provide a pattern drawing system by which decline in throughput in the pattern drawing process can be suppressed even if number of light modulation devices is increased.例文帳に追加

光変調素子の数が増加しても、パターン描画工程におけるスループットの低下を抑えることができるパターン描画システムを提供する。 - 特許庁

To provide an image processing system which decreases conversion into a wrong dictionary pattern when comparing an input image pattern with dictionary patterns.例文帳に追加

入力した画像パターンを辞書パターンと比較する場合に、誤った辞書パターンへの変換を減少させる画像処理システムを提供する。 - 特許庁

Then, edited and processed pattern sewing data of the embroidery pattern are transferred from the server side computer 6 to the user side sewing system 2 (S32).例文帳に追加

そして、編集処理した刺繍模様の模様縫製データをサーバ側コンピュータ６からユーザ側縫製システム２に転送することができる（Ｓ３２）。 - 特許庁

SERVO CONTROL SYSTEM, SERVO WRITE HEAD, SERVO PATTERN WRITE APPARATUS, MAGNETIC MEMORY MEDIUM, AND METHOD FOR GENERATING SERVO PATTERN ON MAGNETIC MEMORY MEDIUM例文帳に追加

サーボ制御システム、サーボ書込みヘッド、サーボ・パターン書込み装置、磁気記憶媒体、及びサーボ・パターンを磁気記憶媒体上に生じさせる方法 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

The evaluating apparatus includes a light source 4, a test pattern 5 having a standard pattern formed for evaluating an infrared optical system, the infrared lens 10 for forming a pattern image of the test pattern with light irradiated from the light source, and an image sensor 6 for detecting the formed pattern image.例文帳に追加

評価装置は光源４と、赤外線光学系評価用の標準パターンが形成されたテストパターン５と、光源光が照射された前記テストパターンのパターン像を結像する赤外線レンズ１０と、結像されたパターン像を検知する画像センサ６とを有する。 - 特許庁

In the traffic light control system, a pattern of traffic light control parameters corresponding to present time is selected by use of a first pattern switching table used in a conventional time-controlled pattern selection method, and thereafter, a pattern is reselected by use of a newly provided second pattern switching table.例文帳に追加

従来の時間制御のパタン選択方式で用いられる第一パタン切替テーブルを用いて、現在時刻に対応する交通信号制御パラメータのパタンを選択した後、本発明では、新たに設けた第二パタン切替テーブルを用いて、再度パタンの選択を行う。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device for drawing a pattern on a substrate which is continuously moved relative to a projection optical system while increasing the moving speed of the substrate to improve the drawing speed of the pattern on the substrate, resulting in the improved pattern drawing efficiency of the pattern drawing device.例文帳に追加

投影光学系に対して相対的に連続移動する基板に対してパターンを描画するパターン描画装置において、基板の移動速度を増大させて基板に対するパターンの描画速度を向上し、パターン描画装置におけるパターンの描画効率を向上する。 - 特許庁

When a pattern matching part 9 decides that power supply OFF pattern data received by a receiving buffer 7 from the other computer system coincides with self-power supply OFF pattern data of a pattern storing part 8, it generates a pattern data coincidence signal and gives it to a power supply OFF instruction signal generating part 10.例文帳に追加

パターンマッチング部９は、受信バッファ７が他のコンピュータシステムから受けた電源ＯＦＦパターンデータとパターン記憶部８の自己の電源ＯＦＦパターンデータとが一致すると判断した時には、パターンデータ一致信号を発生して電源ＯＦＦ指示信号発生部１０に与える。 - 特許庁

In the mask pattern correction system, respective regions according to materials or processes are extracted by a region extracting unit 22a from mask pattern data preliminarily stored in a pattern data storing unit 21, adjacent pattern distances including other materials of the mask pattern are calculated in the extracted regions by a control unit 20.例文帳に追加

予めパターンデータ格納部２１に格納されたマスクパターンデータから、領域抽出部２２ａ、…により材料または加工プロセス別にそれぞれの領域が抽出され、抽出された複数の領域にて、マスクパターンの他材料を含めた隣接パターン距離が制御部２０内で算出される。 - 特許庁

A process for producing the glass plate having an electric conductor pattern, which comprises using such the toner to form the pattern of the toner on the surface of the glass plate by an electronic printing system, then heating the glass plate having the pattern of the toner formed on its surface at a predetermined temperature to convert the pattern of the toner to the pattern of the electric conductor.例文帳に追加

該電子印刷用トナー使用し、ガラス板面に電子印刷方式で該トナーからなるパターンを形成した後、ガラス板を所定温度に加熱することにより前記トナーパターンを焼成して導電体パターンに変換する、導電体パターンをガラス板面に形成する方法。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 10 capable of forming a light distribution pattern for a low beam and a light distribution pattern for a high beam in a switching system, and a control part 302 for controlling the light distribution pattern in a switching system based on information for indicating a front state of one's own vehicle.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンを切替形成可能な車両用灯具１０と、自車の前方状況を示す情報に基づいて配光パターンを切替制御する制御部３０２と、を備える。 - 特許庁