| 意味 | 例文 |
pattern-systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3674件
PRINTER, EJECTION CHECKING METHOD, METHOD FOR FORMING PATTERN FOR EJECTION CHECK, PROGRAM, AND PRINTING SYSTEM例文帳に追加
印刷装置、吐出検査方法、吐出検査用パターンの形成方法、プログラムおよび印刷システム - 特許庁
INFORMATION CONTROL METHOD, INFORMATION CONTROL SYSTEM, PROGRAM, RECORDING MEDIUM, PATTERN TESTER, AND BOARD TESTER例文帳に追加
情報管理方法、情報管理システム、プログラム、記録媒体、パターン検査装置及び基板検査装置 - 特許庁
Further, a printing system capable of laying down the materials in a definite pattern is described.例文帳に追加
さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
The indexes are previously determined resting on pattern data formed at the formation of a reticle and given to the exposure system.例文帳に追加
指標はレチクル作成時のパターンデータから予め決定して露光装置に与えられる。 - 特許庁
The system operation determining part 7 has a predetermined pattern of sorting ratio 10.例文帳に追加
また、 このシステム稼動判定部7は、予め設定されている振分け比率パターン10を有している。 - 特許庁
To provide a system and method for detecting and predicting a congestion pattern based on feedback.例文帳に追加
ネットワークフィードバックから輻輳パターンを検出して予測する方法およびシステムを提供すること。 - 特許庁
To provide a cogeneration system wherein an appropriate demand prediction pattern is maintained under a user's initiative.例文帳に追加
適正な需要予測パターンをユーザ主導の下で維持できるコジェネレーションシステムを提供する。 - 特許庁
Further, the invention presents a printing system capable of laying down the above material in a definite pattern.例文帳に追加
さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
Each of these part objects is arranged within a world coordinate system to set a long-length pattern object.例文帳に追加
これら各部品オブジェクトをワールド座標系内に配置して長尺図柄オブジェクトを設定する。 - 特許庁
the people in a society considered as a system organized by a characteristic pattern of relationships 例文帳に追加
特徴的なパターンの関係によって組織された体系として見なされる社会の人々 - 日本語WordNet
ELECTRON ACCELERATOR, PATTERN MEMORY DEVICE USED FOR ELECTRON ACCELERATOR, AND CONTROL SYSTEM FOR ELECTRON ACCELERATOR例文帳に追加
電子加速器、電子加速器に用いられるパタ—ンメモリ装置および電子加速器の制御システム - 特許庁
SEMICONDUCTOR WAFER PRODUCT AND ITS MANUFACTURING/ SALES SYSTEM BY DRAWING PATTERN MADE INTO ELECTRONIC FILE例文帳に追加
半導体ウェハ製品及び電子ファイル化された図柄情報によるその製造販売システム - 特許庁
MULTIMEDIA CONFERENCE SYSTEM, APPLICATION SERVER, METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING MIXED PATTERN例文帳に追加
マルチメディア会議システム、アプリケーションサーバ、混合パターン決定方法および混合パターン決定用プログラム - 特許庁
ARRAY ANTENNA FEEDER, ARRAY ANTENNA SYSTEM USING SAME, AND VARIABLE BEAM PATTERN BROADCASTING SATELLITE例文帳に追加
アレーアンテナ給電装置及びそれを用いたアレーアンテナシステム並びに可変ビームパターン放送衛星 - 特許庁
MAP DEFORMATION PATTERN-SHARING DEVICE AND METHOD, AND DEFORMED MAP CREATING DEVICE, SYSTEM AND METHOD例文帳に追加
地図デフォルメパターン共有装置及び方法並びにデフォルメ地図作成装置、システム及び方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CRYSTAL LAYER, LASER IRRADIATION METHOD, MULTI-PATTERN MASK, AND LASER IRRADIATION SYSTEM例文帳に追加
半導体結晶層の製造方法、レーザ照射方法、マルチパターンマスクおよびレーザ照射システム - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR PREPARING WIRING PATTERN AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD例文帳に追加
配線パターン作成システム、配線パターン作成方法、その方法をコンピュータに実行させるプログラム - 特許庁
The projection lens system 2 forms the image of a pattern formed on the reticle R on the wafer W.例文帳に追加
投影レンズ系2は、レチクルRに形成されたパターンの像を、ウエハW上に結像する。 - 特許庁
PHOTORESIST EXPOSURE METHOD, RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURE OF TAPE CARRIER, TAPE CARRIER AND EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
フォトレジスト露光方法、レジストパターン形成方法、テープキャリアの製造方法、テープキャリア、および露光装置 - 特許庁
FURNACE PERFECT-COMBUSTIBLE TO WHOLE MOLD CONTAINING RESIN-MADE PATTERN WITH FULL MOLD PROCESS AND CASTING SYSTEM USING THIS MOLD例文帳に追加
フルモールドした樹脂製模型を鋳型ごと完全燃焼させる炉とそれを用いた鋳造システム - 特許庁
To provide an interactive client-server authentication system based on Random Partial Pattern Recognition (RPPR) algorithm.例文帳に追加
ランダム部分的パターン認識(RPPR)アルゴリズムに基づくインタラクティブなクライアント−サーバ認証システムの提供。 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁
CAD SYSTEM FOR EDITING SEMICONDUCTOR MASK PATTERN, DESIGNING METHOD USING THE SAME AND RECORDING MEDIUM THEREFOR例文帳に追加
半導体マスクパターン編集用のCADシステム、これを用いた設計方法及びその記録媒体 - 特許庁
The pattern 11 is printed by a multicolor offset printing system using ultraviolet curable type ink.例文帳に追加
絵柄11は紫外線硬化型インキを用い、多色オフセット印刷方式によって印刷されている。 - 特許庁
MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PHOTOMASK FABRICATION SYSTEM, AND IMAGING DEVICE例文帳に追加
マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置及びフォトマスク作製システム並びに撮像素子 - 特許庁
PRINT METHOD, PRINT METHOD OF PRINT PATTERN, READING METHOD, PRINTER, READER, AND PRINT SYSTEM例文帳に追加
印刷方法、印刷パターンの印刷方法、読取方法、印刷装置、読取装置、及び、印刷システム - 特許庁
Further, the invention describes a printing system capable of laying down the above materials in a definite pattern.例文帳に追加
さらに、前記材料を規定されたパターンで敷設することが可能な印刷システムを記載する。 - 特許庁
The respective component objects are arranged inside a world coordinate system and a long-length pattern object is set.例文帳に追加
これら各部品オブジェクトをワールド座標系内に配置して長尺図柄オブジェクトを設定する。 - 特許庁
When the operation pattern is registered, the access from the system device 8 to the storage device 5 is permitted.例文帳に追加
登録されている操作パターンであれば、システム装置8から記憶装置5へのアクセスを許可する。 - 特許庁
To provide an electron beam exposure method using a VSB system and a pattern formation method using the same.例文帳に追加
VSB方式の電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The embossing system 30 is an apparatus for forming the rugged pattern on the original roll 20 by embossing.例文帳に追加
エンボス加工システム30は、エンボス加工によって原反20に凹凸柄を形成する装置である。 - 特許庁
TWO-DIMENSIONAL CODE PATTERN READABLE BY READER, DISPLAY MEDIUM FOR MAP, READING SYSTEM AND READING METHOD例文帳に追加
読取装置で読取可能な二次元コードパターン、地図の表示媒体、読取システムおよび読取方法 - 特許庁
The wiring system first dummy pattern 2a of a first wiring layer, the wiring system second dummy pattern 4a of a second wiring layer, and the dummy pattern 5 of the contact hole which connects the first and the second dummy patterns, are arranged, so that working irregularity on a manufacturing process is reduced.例文帳に追加
また、第1配線層の配線系第1ダミーパターン2aと、第2配線層の配線系第2ダミーパターン4aと、第1及び第2ダミーパターンを接続するコンタクトホールのダミーパターン5を配置し、製造プロセス上での加工ばらつきを低減する。 - 特許庁
A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23.例文帳に追加
ウエハステージ23の基準板36上に、前記各レチクルパターンRP1,RP2の投影光学系11を介した投影像に各別に受光する第1センサパターン及び第2センサパターンを設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor pattern evaluation system wherein a means which obtains three-dimensional form information of a pattern by not-destroying style is realized and relation between the three-dimensional form information of the pattern and device property is evaluated.例文帳に追加
パターンの立体形状情報を非破壊で得る手段を実現し、これらパターンの立体形状情報とデバイス特性の関係を評価する半導体パターン評価システムを提供する。 - 特許庁
Next, a 2nd pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 2nd unit exposure area adjacent to the 1st unit exposure area.例文帳に追加
次いで、パターン領域に形成された第2パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを第1単位露光領域と隣り合う第2単位露光領域に露光する。 - 特許庁
A graphic pattern to be included in a divided region 72 is transferred to a resist layer 74 via a mask 73 by using a pattern transfer method of an optical contact-less system to form a latent image 75b of the graphic pattern.例文帳に追加
光学的非接触方式のパタン転写方法を用いて、分割領域72に含まれる図形パタンをマスク73を介してレジスト層74に転写し、図形パタンの潜像75bを形成する。 - 特許庁
The protective system is in contact with the mask at the location other than the pattern surface, and is connected to a holder 110 to have a space SP between the pattern surface and itself via the contact, and has a cover 120 for protecting the pattern surface.例文帳に追加
保護機構はパターン面以外でマスクと接触し、接触部を介してパターン面との間で空間SPを有するように保持部110と接続し、パターン面を保護するカバー部120を有する。 - 特許庁
An illumination optical system 70 irradiates a substrate W with light for pattern exposure via the mask M, and exposure-transfers the line-like pattern 84 corresponding to the main pattern part 81, on the substrate W.例文帳に追加
照明光学系70が基板Wに対してパターン露光用の光をマスクMを介して照射し、基板Wに主パターン部81に対応するライン状のパターン84を露光転写する。 - 特許庁
This device is provided with a pattern generating means 14 that generates an image signal of the interlace system denoting a convergence adjustment pattern and in the case of displaying the adjustment pattern on a display device, the convergence adjustment pattern is displayed at a prescribed position only.例文帳に追加
コンバーゼンス調整用パターンを表わすインターレース方式の画像信号を発生するパターン発生手段(14)を備え、この調整用パターンを表示装置に表示させるに当たり、一定の位置にのみコンバーゼンス調整用パターンを表示させる。 - 特許庁
The automatic modeling device retrieves a shape pattern that agrees with the shape pattern name of the list 101, sets the dimensional parameter value and the location parameter value to a data file having the same shape as the shape pattern and outputs this pattern (103) as a three-dimensional solid model by using a CAD system.例文帳に追加
自動モデリング装置では入力表の形状パターン名と一致する形状パターンを検索し、形状パターン同形データファイルに寸法パラメータ値、配置パラメータ値を設定し、CADシステムにより三次元ソリッドモデルとしてアウトプットする103。 - 特許庁
The invention provides external device transmitting system along with a high pattern processor having internal function bus, a method for sending a command to an external device transmitting system, and a high speed pattern processor employing the system and method.例文帳に追加
本発明は、内部関数バスを持つ高速パターンプロセッサと共に用いる外部デバイス伝送システム、外部デバイス伝送システムにコマンドを送信するための方法、およびこのシステムおよび方法を採用する高速パターンプロセッサを提供する。 - 特許庁
When the lighting pattern of sub-field pair applying a simultaneous scanning system is a specific pattern, both lighting patterns of the sub-field pair are converted to the prescribed lightening patterns, the dither system and the frame modulation system are applied and displayed.例文帳に追加
同時スキャン方式を適用するサブフィールド対の点灯パターンが特定パターンである場合に、サブフィールド対の双方の点灯パターンを所定の点灯パターンに変換し、ディザ方式と前記フレーム変調方式とを適用して表示する。 - 特許庁
To provide a velocity pattern-controlling system for a single spindle driving motor which readily regulates the velocity pattern of the single spindle driving motor without causing problems of signal fade, noise, etc.例文帳に追加
単錘駆動モータの速度パターンを簡単に、しかも信号減衰やノイズなどの問題を生じない単錘駆動モータの速度パターン制御システム - 特許庁
To provide an angle sensor for preventing unexpected encoded pattern that may be generated, when the encode pattern is changed due to the fluctuation of a detection system from being generated.例文帳に追加
検出系のばらつきによりエンコードパターンの変わり際で生じ得る期待しないエンコードパターンの発生を防止することが可能な角度センサを提供する。 - 特許庁
The pattern is preferably added to the image with a low intensity so that the pattern is invisible or imperceptible to the human visual system under normal viewing conditions.例文帳に追加
通常の視点条件の下では、人間の視覚システムには不可視又は知覚不能であるように、パターンは、低強度で画像に加えられるのが好ましい。 - 特許庁
To provide a digital broadcast system, that allows a user to simply acquire a dress pattern or the like through broadcasting and can output the pattern, on the basis of a size of its own purpose.例文帳に追加
型紙等のパターンを放送を通じて簡単に入手出来、しかも自分の目的とするサイズをもとにそのパターンを出力することを可能とする。 - 特許庁
MOVING BODY SYSTEM AND MOVING BODY DRIVING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING例文帳に追加
移動体システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.例文帳に追加
反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a test pattern forming system, where the test pattern can be immediately used for the simulation by carrying out simulation, in an environment which approximates actual operation.例文帳に追加
実際の運用に近い環境でのシミュレーションを行い、シミュレーションのテストパターンとしてすぐに使用可能なテストパターン作成システムを提供する。 - 特許庁
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