「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The plurality of stripe patterns projected by the projection system are inclination pattern light where each has concentration gradient and are composed by the multivalue pattern.例文帳に追加

投光系にて投射される複数のストライプパターンは、それぞれが濃度勾配を持った傾斜パターン光であり、かつ多値のパターンにより構成される。 - 特許庁

The imprint system comprises a plurality of imprint devices for forming a pattern on resin on a substrate by bringing the resin on the substrate into contact with a pattern surface of a die.例文帳に追加

このインプリントシステムは、基板上の樹脂と型のパターン面とを接触させて、基板上の樹脂にパターンを形成するインプリント装置を複数備える。 - 特許庁

To provide camera incorporated type irregular pattern read optical device and system for which an irregular pattern read optical part and a camera optical part are integrally combined.例文帳に追加

凹凸パターン読取光学部とカメラ光学部とを一体的に組み合わせたカメラ一体型凹凸パターン読取光学装置及びシステムを提供する。 - 特許庁

If it is determined that the rotation angle detecting system has an abnormality (YES in S201), the previous conduction pattern PBK is stored as the target conduction pattern (S204).例文帳に追加

回転角検出系に異常有りと判定されたときには（Ｓ２０１：ＹＥＳ）、目標通電パターンとして前回通電パターンＰＢＫを設定する（Ｓ２０４）。 - 特許庁

PATTERN IMAGE GENERATION DEVICE, PATTERN IMAGE GENERATION METHOD, DEVICE INFORMATION COLLECTION DEVICE, DEVICE INFORMATION COLLECTION METHOD, AND DEVICE INFORMATION COLLECTION SYSTEM例文帳に追加

パターン画像生成装置及びパターン画像生成方法、機器情報収集装置及び機器情報収集方法並びに機器情報収集システム - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity of line width of a pattern line on a both-face substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

両面基板におけるパターン線の線幅のばらつきを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

MOBILE OBJECT DRIVING METHOD AND MOBILE OBJECT DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND PATTERN FORMATION DEVICE, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The transmitted light optical system projects for example an intermediate image of a second pattern as an image inverted in a prescribed direction to an intermediate image of a first pattern.例文帳に追加

送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 - 特許庁

To calibrate positional coordinates of a generated pattern and a substrate stage in an exposure system which uses an array of controllable elements PPM to generate the pattern.例文帳に追加

制御可能な要素の配列ＰＰＭを用いてパターンを生成する露光装置において、生成されたパターンと基板ステージの位置座標を校正すること。 - 特許庁

In the case the finger print pattern coincides with the contained pattern, the user is required to input a kind of command by way of the same interface system.例文帳に追加

指紋パターンが格納されているパターンと一致する場合には、ユーザは同一のインターフェースシステムを介してある種のコマンドを入力することが所要される。 - 特許庁

The system has a fingerprint authenticating part and a blood vessel pattern authenticating part, and performs person identification by fingerprint and person identification by the blood vessel pattern.例文帳に追加

システムに指紋認証処理部と血管パターン認証処理部とを設け、指紋による本人確認と血管パターンによる本人確認を行うようにする。 - 特許庁

MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT AND METHOD FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT BETWEEN MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

対象上にグレースケールパターンを形成するためのマスクレスリソグラフィシステム及びマスクレスリソグラフィの間に対象上にグレースケールパターンを形成するための方法 - 特許庁

To provide a structural pattern candidate creating system which automatically creates candidates for several complicated structural patterns and facilitates the selection of a purposive structural pattern.例文帳に追加

幾通りもある複雑な構造パターンの候補を自動生成し、目的に合った構造パターンの選択を容易にする構造パターン候補生成システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a field effect transistor which can be patterned in a micro-pattern without a ferrodielectric material damaged by a conventional pattern lithography system.例文帳に追加

通常の加工装置で、パターニングし、強誘電体がダメージを受けない、パターンの微細化ができる電界効果トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

It is possible to write a computer program which will determine the Bravais lattice type, unit-cell dimensions, and crystal system from a spot diffraction pattern rather than a CBED pattern. 例文帳に追加

CBED図形よりもむしろ点状の回折図形からブラベー格子の型、単位胞の大きさおよび結晶系を決定するコンピュータプログラムを書くことが可能である。 - 科学技術論文動詞集

The system consists of a function that receives the pattern allocated with the commodities, a storage device that records difference information when the unique shelf space allocation pattern is generated on the basis of the previous pattern received, and a pattern generator that generates unique shelf space allocation pattern for the pattern received this time, on the basis of the difference information recorded.例文帳に追加

商品を棚に割り当てたパターンを受信する手段と、前回の受信したパターンをもとに独特の棚割してパターンを作成したときの差分情報を記憶する手段と、受信した今回のパターンに対して、記憶した差分情報をもとに独特の棚割したパターンを作成する手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

The pattern manufacturing system comprises exposure to directly draw a resist overlying on a copper foil formed on both the faces of the substrate by using the line width of the pattern line and an exposure amount designated by processing pattern data 100, forming a resist pattern by developing the exposed resist, and forming a pattern by etching the copper foil of both the faces of the substrate forming the resist pattern.例文帳に追加

加工用パターンデータ１００により指定されたパターン線の線幅と露光量を用いて、基板の両面に形成された銅箔上にラミネートされたレジストに直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、レジストパターンが形成された基板の両面の銅箔をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

The lithography system is provided, comprising an illumination system for providing a radiation beam, and a support structure for supporting a pattern forming device.例文帳に追加

放射ビームを提供するための照明システムと、パターン形成デバイスを支持するための支持構造とを備えたリソグラフィ装置である。 - 特許庁

To provide a method for performing adaptation to identify the reference model of a pattern recognition system, especially, the acoustic reference model of a voice recognition system.例文帳に追加

パターン認識システムの参照モデル、特に音声認識システムの音響参照モデルの識別可能な適合の方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-beam pattern defining (PD) system, capable of correcting a distortion error in an image forming system and a charged particle processing or inspecting apparatus.例文帳に追加

結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATION SYSTEM, LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATING METHOD, EXPOSURE SYSTEM EVALUATING METHOD, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

リソグラフィプロセス評価システム、リソグラフィプロセス評価方法、露光装置評価方法、マスクパターン設計方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The system comprises a projection system (14), operable to project a fringe pattern (18) having a reference mark onto the object (12).例文帳に追加

このシステムは、基準マークを有する干渉縞パターン（１８）を物体（１２）上に投影するように動作可能な投影システム（１４）を備える。 - 特許庁

The aligner is provided with an illumination optical system (1-7) for illuminating the reticle (R), in which a pattern to be transferred is formed, and a projection optical system (PL) for forming an image of the pattern of the reticle on a substrate (W).例文帳に追加

転写すべきパターンの形成されたレチクル（Ｒ）を照明する照明光学系（１〜７）と、レチクルのパターンの像を基板（Ｗ）上に形成する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

A power supply OFF pattern transmitting part 4 of a computer system 1 sends power supply OFF pattern data instructing the OFF of the power supply of other computer systems such as a computer system 2 to the other computer through a LAN 3.例文帳に追加

コンピュータシステム１の電源ＯＦＦパターン送信部４は、コンピュータシステム２などの他のコンピュータシステムの電源のＯＦＦを指示する電源ＯＦＦパターンデータをＬＡＮ３を介して当該他のコンピュータシステムに送る。 - 特許庁

Pattern data for performing image drawing are divided into a part for performing image drawing by a variable shaping system, and a part for performing image drawing by a collective figure system by using a data dividing device 102, and two pattern data are formed.例文帳に追加

描画を行うパターンデータをデータ分割装置１０２により可変成形方式で描画を行う部分と一括図形方式で描画を行う部分に分割し、２つのパターンデータを作成する。 - 特許庁

A corrective pattern image serving as a pattern image which is produced by reflections within an illuminating optical system or an imaging optical system is stored in the memory of a control circuit for each color, R (red), G (green) and B (blue).例文帳に追加

制御回路のメモリには、照明光学系又は撮像光学系の内部の反射により生ずるパターン画像である補正パターン画像が、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色毎に記憶されている。 - 特許庁

In the information recording and reproducing device using a partial response and maximum likelihood (PRML) identification system as an identification system, an evaluation value calculation 200 has a reference table 204 storing the table of the correct pattern, its ideal signal, the erroneous pattern corresponding thereto and its ideal signal and the Euclid distance Ej between the correct pattern and the erroneous pattern.例文帳に追加

識別方式にパーシャル・レスポンス・アンド・マキシマム・ライクリーフッド（PRML）識別方式を用いた情報記録再生装置において、評価値算出器２００は、正パターンとその理想信号、これに対応する誤パターンとその理想信号、前記正パターンと誤パターンとのユークリッド距離Eｊのテーブルを格納した参照テーブル２０４を有する。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

To generate a combination test pattern for confirming that when an existing system is shifted into the other system environment, the business thereof operates correctly in the system environment after the shift.例文帳に追加

既存システムを他のシステム環境へ移行する際に、その業務が移行後のシステム環境で正しく動作することを確認するための組み合わせテストパターンを生成する。 - 特許庁

A system constant of the interconnected power system and a representative load pattern are recoded in a database 20 in advance, and a system parameter operator 110 calculates a system parameter which minimizes the voltage variation on the basis of the system constant and the representative load pattern, and a temperature calculated from a measurement value of a temperature sensor 7.例文帳に追加

連系される電力系統の系統定数および代表的負荷パターンをデータベース２０に予め記録し、この系統定数および代表的負荷パターンと、温度センサ７の計測値から算出した気温に基づき、系統パラメータ演算器１１０が電圧変動を最小化する系統パラメータを算出する。 - 特許庁

A pattern forming material layer 49 is formed by coating a pattern forming material 48 on a substrate 41 by a coating mechanism 47, and a laser optical system 45 irradiates laser beam LB on the pattern forming material layer 49 formed on the substrate 41 and by sintering the pattern forming material 48, a pattern is formed.例文帳に追加

塗布機構４７が基板４１上にパターン形成材料４８を塗布してパターン形成材料層４９を形成し、レーザ光学系４５が基板４１上に形成されたパターン形成材料層４９にレーザ光ＬＢを照射してパターン形成材料４８を焼結させてパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an resist ink for forming a resist pattern using a direct resist drawing system for achieving smaller number of resist pattern forming steps, sufficient etching resistance of the resist pattern, and a satisfactory manufacturing yield and required manufacturing time for a conductor pattern, and provide a method for manufacturing a conductor pattern and a printed wiring board using the ink.例文帳に追加

レジストパターンの形成工程が少なく、レジストパターンの耐エッチング性が十分で、導体パターンの製造歩留まりや製造所要時間が満足のいく、レジスト直描方式を用いたレジストパターン形成用レジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The card issuing and pattern replacing system comprises the card which can record an ID for specifying the printed pattern in which the pattern can be printed, a card printing terminal for issuing the card and performing the replacing work of the pattern, a host computer for managing the control of the terminal and the management of the pattern and the network for connecting the terminal to the host computer.例文帳に追加

本発明は、図柄を印刷可能で印刷された図柄を特定するためのＩＤを記録可能なカードとカードの発行や図柄の交換作業を行うカード印刷端末と端末の制御や図柄の管理を行うホストコンピュータと端末とホストコンピュータとを結ぶネットワークとで構成される。 - 特許庁

This playing pattern processing system displays a list LP of pieces of pattern data on a display 12 and when desired pattern data (both-hand accompaniments 1, 2, and 3, left-hand accompaniments 1 and 2, arpeggio 1, etc.), are indicated with a cursor CR, the schematized pattern corresponding to the pattern data is displayed at a chart display part CP.例文帳に追加

この発明の演奏パターン処理システムでは、複数のパターンデータがディスプレイ１２上にリストＬＰで表示され、所望のパターンデータ（各行：両手伴奏１，２，３、左手伴奏１，２、アルペジオ１、…）をカーソルＣＲで指示すると、当該パターンデータに対応する図式化されたパターンがチャート表示部ＣＰに表示される。 - 特許庁

The pattern measuring system is provided with a simulator which determines the dimension measuring position of a pattern to be transferred on a wafer in accordance with dimensional distribution of the pattern within photomask surface, gauging equipment which measures dimension of the pattern in the dimension measuring position, and photomask database which stores data concerning dimensional distribution of the pattern within the photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に応じ、ウエーハ上に転写されるパターンの寸法計測位置を決定するシミュレータと、寸法計測位置においてパターンの寸法を計測する寸法検査装置と、フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に関するデータを格納するフォトマスクデータベースとを有する。 - 特許庁

To provide a communication pattern switching device of an electronic key system, which sets a communication pattern of a communication master as a pattern best suited to a communication state and copes with even when a standard on the Radio Law is an issue in pattern switching.例文帳に追加

通信マスタの通信パターンを通信状態に応じた最適なパターンに設定することができ、仮にパターン切り換えに際して電波法の規格が問題となる場合であっても、これに対応することができる電子キーシステムの通信パターン切換装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern shape prediction program and a pattern shape prediction system, capable of confirming a pattern shape, with no actual electron beam lithography, when manufacturing a mask pattern by utilizing a shot shape arrangement drawing data in which a dose amount is corresponded for each shot shape.例文帳に追加

ショット形状毎にドーズ量を対応付けたショット形状配列描画データを利用してマスクパターン等を製造する場合に、実際に電子線描画することなく、パターンの形状を確認できるパターン形状予測プログラム、パターン形状予測システムを提供する。 - 特許庁

Concerning this phased array antenna system, a sum pattern and a difference pattern can be obtained while utilizing the fact that the bore site direction (direction of tracking axis) of the sum pattern is same as that of the difference pattern even when the number of phase shifters capable of adjusting the phase shift quantity is equal to the number of element antennas.例文帳に追加

和パターンと差パターンのボアサイト方向（トラッキング軸の方向）が同じであることを利用して、移相量を調整可能な移相器の数が素子アンテナの数と同じでも和パターンと差パターンを得ることができるフェーズドアレーアンテナシステムを構成する。 - 特許庁

The printing system provided with a printer driver 13 having a design pattern image generating function includes an attaching range particularizing module 14 for particularizing an attaching range of the design pattern image, and a design pattern image generating module 15 for generating the design pattern image of the particularized range.例文帳に追加

地紋画像作成機能を有するプリンタドライバ１３を備えた印刷システムにおいて、地紋画像の付加範囲を特定する付加範囲特定モジュール１４と、特定された範囲の地紋画像を作成する地紋画像作成モジュール１５とを備えるようにした。 - 特許庁

To provide an automatic pattern extraction method and an automatic pattern extraction system which can automatically extract an enormous number of normal patterns to be used for performing abnormality diagnosis especially by collation processing with a normal pattern and can easily register the extracted normal patterns in a pattern library.例文帳に追加

特に正常パターンとの照合処理によって異常診断を行う際に用いる膨大な数の正常パターンを自動抽出して容易にパターンライブラリに登録することができるパターン自動抽出方法およびパターン自動抽出システムを提供すること。 - 特許庁

This three-dimensional shape measuring system is a pattern-projecting device, using emission from a stroboscope of a camera as a light source, transmitting light through a pattern mask, and projecting a three-dimensional position detection pattern to an object, and the pattern-projecting device is mountable on the camera and dismountable therefrom.例文帳に追加

本発明の三次元形状計測システムは、カメラのストロボの発光を光源とし、パターンマスクを透過させて、被写体に三次元位置検出用パターンを被写体に投影するパターン投影装置であって、該パターン投影装置はカメラに対して着脱可能とした。 - 特許庁

Interference pattern information 17 is outputted by a pattern matching verification system 15, and the interference pattern information 17 and design rules 11 are compiled to extract design rules to be applied to the interference pattern information 17, by a physical verification system 16, and design rules are referred to verify the design rules between a comparison cell list 13 and the interference pattern information 17.例文帳に追加

パターンマッチング検証システム１５によって干渉パターン情報１７が出力され、物理検証システム１６によって、干渉パターン情報１７とデザインルール１１とがコンパイルされることによって干渉パターン情報１７に適用されるデザインルールが抽出され、デザインルールを参照して、比較セルリスト１３と干渉パターン情報１７との間にてデザインルールの検証が行われる。 - 特許庁

The air-conditioner arrangement support system includes an information storage part 16 and an arrangement pattern derivation part 13a.例文帳に追加

そして、空調機配置支援システムは、情報記憶部１６と配置パターン導出部１３ａとを備える。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR DERIVING OPTIMAL ANSWER PATTERN AND RECORDING MEDIUM WITH ITS PROGRAM RECORDED例文帳に追加

最適回答パターン導出システムならびにその方法、及び同方法のプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The image display device 7 sets a view point, a pattern object and a background object in a world coordinate system.例文帳に追加

画像表示装置７は、ワールド座標系に視点、図柄オブジェクト及び背景オブジェクトを設定する。 - 特許庁