patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
To provide a layout pattern verifying device capable of accurately recognizing and verifying a layout pattern.例文帳に追加
レイアウトパターンを正しく認識して検証することが可能なレイアウトパターン検証装置を提供すること。 - 特許庁
The thermal stress is dispersed by the fine voids even in use for an electrode pattern, thus preventing the pattern from being thermally deformed.例文帳に追加
電極パターンに使用しても、微細ボイドにより熱ストレスを分散し、パターンが熱変形しない。 - 特許庁
When such a view is taken, the pattern shown in (a) can be modeled into the pattern shown in (b).例文帳に追加
このように考えていくと、(a)に示されるパターンは、(b)に示されるようなパターンにモデル化できる。 - 特許庁
To provide a magnetic disk having an emboss pattern wherein a good reproducing signal is obtained from the emboss pattern.例文帳に追加
エンボスパターンから良好な再生信号を得ることができるエンボスパターン付き磁気ディスクを提供する。 - 特許庁
A pattern arranging device 50 arranges a dummy pattern in a layout region where a plurality of wiring patterns are arranged.例文帳に追加
パターン配置装置50は、複数の配線パターンが配置されたレイアウト領域にダミーパターンを配置する。 - 特許庁
A test pattern is formed at the test pattern formation part 25 when the ink is jetted from the nozzles of the recording head 15.例文帳に追加
テストパターン形成部25は、記録ヘッド15のノズルからインクが噴射されてテストパターンが形成される。 - 特許庁
Such a hologram pattern can be made similar even concerning the resonance label having no capacitor pattern.例文帳に追加
このようなホログラムパターンは、コンデンサパターンを有しない共振ラベルについても同様にすることができる。 - 特許庁
To obtain a precise fine wiring pattern after heating, regardless of whether a photoresist pattern prior to the heating is fine or coarse.例文帳に追加
加熱前のフォトレジストパターンの疎密にかかわらずに加熱後に精密な微細配線パターンを得る。 - 特許庁
A thick internal wiring pattern 25 is constituted of the internal wiring pattern 23-2 and the metal materials 24.例文帳に追加
内部配線パターン23−2および金属材24によって厚内部配線パターン25を構成する。 - 特許庁
The bit map plotted by the pattern creation and display processing section 3 is displayed on the display 5 as test pattern.例文帳に追加
パターン作成表示処理部3により描画したビットマップを、テストパターンとしてディスプレイ5に表示させる。 - 特許庁
The objective fine wiring pattern is formed using the resist pattern 35 as a mask.例文帳に追加
このレジストパターン35をマスクとして用いることによって、微細な配線パターンを形成することができる。 - 特許庁
A polysilicon thin film pattern 41 and a resist pattern 42 are formed on the surface of a substrate W.例文帳に追加
基板Wの表面には、ポリシリコン薄膜パターン41およびレジストパターン42が形成されている。 - 特許庁
To form a hard mask pattern having an interval smaller than a pattern interval obtained from a lithography equipment.例文帳に追加
リソグラフィ装備から得られるパターン間隔よりさらに小さい間隔を有するハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁
A plurality of wiring pattern layers are formed on a wiring pattern 17a on the surface of a substrate 11.例文帳に追加
基板11の表面では、配線パターン17a上に複数層の配線パターン層が形成される。 - 特許庁
The drawing pattern multiplexing apparatus 1 forms cell group for each drawing pattern by a cell group forming means 23.例文帳に追加
図柄多重化装置1は、セルグループ形成手段23によって、図柄ごとにセルグループを形成する。 - 特許庁
APPARATUS FOR CREATING ORIGINAL WITH GROUND TINT PATTERN, ORIGINAL WITH GROUND TINT PATTERN, IMAGE PROCESSOR AND IMAGE PROCESSING METHOD例文帳に追加
地紋パターン付原稿の作成装置、地紋パターン付原稿、画像処理装置及び画像処理方法 - 特許庁
By the test pattern 1, the impact of line edge roughness on a transferred pattern can be analyzed.例文帳に追加
テストパターン1によって,転移パターン上の線状の縁の粗さの影響は,分析することができる。 - 特許庁
LITHOGRAPHY EVALUATION PATTERN, MASK HAVING THE PATTERN AND ADJUSTING METHOD OF LITHOGRAPHY DEVICE USING THE MASK例文帳に追加
リソグラフィ評価用パターン、該パターンを有するマスク、及び該マスクを使用するリソグラフィ装置の調節方法 - 特許庁
A behavior pattern classifying part 14 classifies the behavior pattern of the driver from the stored driving behavior.例文帳に追加
行動様式分類部14は、蓄積した運転行動から運転者の行動様式を分類する。 - 特許庁
To improve the pattern accuracy by suppressing lateral etching in a light shielding pattern caused during producing a negative photomask.例文帳に追加
ネガ型フォトマスク作製時に生じる遮光パターンのラテラルエッチングを抑制し、パターン精度を向上させる。 - 特許庁
MICROPROCESSOR AND ITS EVALUATION AND TEST PATTERN FOR EVALUATION AND RECORDING MEDIUM RECORDING THE TEST PATTERN例文帳に追加
マイクロプロセッサとその評価方法、及び、評価用のテストパターン並びにこのテストパターンが記録された記録媒体 - 特許庁
TITANIA NANO FINE CRYSTAL DISPERSED THIN FILM PATTERN AND PRODUCTION METHOD FOR THE SAME AND ARTICLE WITH THE THIN FILM PATTERN例文帳に追加
チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンとその製造方法およびその薄膜パターンを備えた物品 - 特許庁
An N-type gate pattern 110a and a P-type gate pattern 110b are formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上にそれぞれN型ゲートパターン110a及びP型ゲートパターン110bを形成する。 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE USING THE SAME, AND RESIST PATTERN AND MICROLENS FORMED BY THE SAME例文帳に追加
レジストパターン形成方法とそれを用いた露光装置およびそれにより作製したレジストパターンとマイクロレンズ - 特許庁
Then, a pattern is drawn on the resist layer by an electron ray, and the resist pattern 5 is obtained on the board through the development.例文帳に追加
次に、電子線によりパターンをレジスト層に描画し、現像を経て基板上にレジストパターン5を得る。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK OBTAINED BY THE SAME AND METHOD FOR IMPROVING DIFFERENCE OF MASK PATTERN DIMENSION ON PATTERN ROUGHNESS/FINESS例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、それによって得られたフォトマスクおよびマスクパターン寸法の疎密差改善方法 - 特許庁
A spacer is formed on the side wall of a gate pattern constituted of the gate electrode and the silicidation prevention film pattern.例文帳に追加
ゲート電極及びシリサイド化防止膜パターンで構成されたゲートパターンの側壁にスペーサを形成する。 - 特許庁
It is preferable to couple the wiring pattern of the heating resistor with the detection wiring pattern by electrostatic induction.例文帳に追加
前記発熱抵抗体の配線と前記検出用配線とは静電誘導で結合されていてもよい。 - 特許庁
WALL-MOUNTING STRUCTURE FOR SHOWING ENGRAVED PATTERN BEAUTIFULLY IN GLASS PRODUCT WITH ENGRAVED PATTERN FOR WALL-MOUNTING例文帳に追加
壁掛け用の模様彫りこみガラス製品において、その彫りこみ模様を美しく見せる壁掛け構造 - 特許庁
RESIST PATTERN SWELLING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
When the pattern is not in place, the nozzle corresponding to the pattern can be determined not to eject the ink.例文帳に追加
有るべき位置にパターンが無い場合、そのパターンに対応するノズルを不吐出と判断することができる。 - 特許庁
SIZING PROCESSING METHOD FOR GRAPHIC DATA WITH OPC PATTERN AND SIZING PROCESSING APPARATUS FOR GRAPHIC DATA WITH OPC PATTERN例文帳に追加
OPCパターン付き図形データのサイジング処理方法及びOPCパターン付き図形データのサイジング処理装置 - 特許庁
The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern.例文帳に追加
パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。 - 特許庁
PHOTOMASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, METHOD OF FORMING PATTERN BY USING THE PHOTOMASK, AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置 - 特許庁
A second semiconductor pattern having the first conduction type is laminated on the first semiconductor pattern.例文帳に追加
前記第1半導体パターン上に前記第1導電型を有する第2半導体パターンが積層される。 - 特許庁
METHOD OF FORMING ANTENNA PATTERN AND ELECTROMAGNETIC SHIELDING PATTERN ON SHEETLIKE SUBSTRATE, ANTENNA, AND ELECTROMAGNETIC SHIELDING MATERIAL例文帳に追加
アンテナパターンおよび電磁シールドパターンのシート状基材への形成方法と、アンテナおよび電磁シールド材 - 特許庁
Each liquid crystal cell CLC has a 1st electrode pattern FPEP and a 2nd electrode pattern SPEP.例文帳に追加
液晶セルCLCのそれぞれは、第1電極パターンFPEPと第2電極パターンSPEPを備える。 - 特許庁
An arbitrary region 12 is extracted from LSI pattern (semiconductor circuit pattern) data 11 (step S1).例文帳に追加
LSIパターン(半導体回路パターン)データ11の中から任意の領域12を抽出する(ステップS1)。 - 特許庁
To facilitate simultaneous acquisition of a plurality of pixel data corresponding to an access pattern at each setting position of the pattern.例文帳に追加
アクセスパターンの各設定位置で、そのパターンに対応した複数の画素データの同時取得を容易とする。 - 特許庁
Furthermore, a gold pattern can be obtained by adsorbing gold nanoparticles on the obtained pattern.例文帳に追加
さらに、得られたパターン上に金ナノ粒子を吸着させることにより金パターンを得ることができる。 - 特許庁
To miniaturize a shutter device for opening and shielding a pattern display part in a pattern display device.例文帳に追加
図柄表示装置における図柄表示部の開放および遮蔽を行なうシャッター装置を小型化する。 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL PHOTOMASK, PATTERN EXPOSURE METHOD USING SAME, PATTERN EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DNA CHIP例文帳に追加
液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びDNAチップの製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD OF METAL OXIDE THIN FILM AND COMPOSITION FOR FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM PATTERN例文帳に追加
金属酸化物薄膜のパターン形成方法および金属酸化物薄膜パターン形成用組成物 - 特許庁
A second mask pattern (15) is left by etching the second mask film using the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加
レジストパターンをエッチングマスクとして、第2のマスク膜をエッチングすることにより、第2のマスクパターン(15)を残す。 - 特許庁
An output pixel pattern memory 52 stores an output pixel pattern corresponding to the fluctuation threshold value matrix.例文帳に追加
この変動閾値マトリクスに対応する出力画素パターンが出力画素パターンメモリ52に格納されている。 - 特許庁
The wiring pattern 5a for resistance is formed longer than the wiring pattern 3a to function as resistance.例文帳に追加
抵抗用配線パターン5aは配線パターン3aよりも長く形成されており、抵抗として機能する。 - 特許庁
A photo resist pattern 7 is then formed so as to cover the upper electrode pattern 5a.例文帳に追加
次に誘電体膜加工用のフォトレジストパターン7を上部電極パターン5aを覆うように形成する。 - 特許庁
After the mold is removed, the polymer pattern is imprinted onto a metal/semiconductor pattern on a substrate.例文帳に追加
モールドを外した後、そのポリマーパターンを基板上の金属/半導体パターンに転写することができる。 - 特許庁
Primary exposure reticle pattern data are formed in reference to the calculation result of the pattern shape correction.例文帳に追加
上記パターン形状補正の計算結果を参考にして一次露光用レチクルパターンデータを作製する。 - 特許庁
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