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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patterned lineに関連した英語例文

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patterned lineの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 65



例文

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法において、タンタル膜6をパターニングし、非線形素子用下電極61を備えた第1のタンタルパターン6aと、データ線2、保持容量用下電極62、および共通電極63を備えた第2のタンタルパターン6bとを形成する。 - 特許庁

The radiation patterned coating material can have a high contrast with respect to material properties, such that development of a latent image can be successful to form lines with very low line-width roughness and adjacent structures with a very small pitch.例文帳に追加

この放射状パターン形成されたコーティング材が材料特性に関して高いコントラストを有し得ることによって、潜像の現像にきわめて低いライン幅粗さを有するラインおよびきわめて小さなピッチを有する隣接構造体をうまく形成し得る。 - 特許庁

In the exposure of subfield rows (electrical stripes) on a reticle 10, a variation in line width due to the effect of a non-patterned charged particle beam dose (fogging) on a wafer 23 is made uniform by varying the shot time through control of a blanking opening 7 while sustaining a constant shot cycle.例文帳に追加

レチクル10のサブフィールド列(エレクトリカルストライプ)の露光において、ショットサイクルは一定に保ったまま、ブランキング開口7をコントロールしてショットタイムを変化させて、ウェハ23上への非パターン化荷電粒子線ドーズ(かぶり)の影響による線幅変動を均一化する。 - 特許庁

例文

A photoresist film 80 is formed on semiconductor substrates 10, 20 and patterned, in order to expose a source line region 85 in a flash memory array region 90 and a polysilicon film region 40 in CMOS circuit regions 100, 110.例文帳に追加

半導体基板10、20上にホトレジスト膜80を形成し、フラッシュ・メモリ・アレイ領域90内のソース線領域85及びCMOS回路領域100、110内の多結晶シリコン膜領域40を露出するためにホトレジスト層80にパターニングを施す。 - 特許庁


例文

With respect to calling signals from a plurality of slave units and an alarm signal of a sensor, a voltage level of a power source superimposed on a transmission line by a power source supply from a master unit is changed by a voltage patterning portion of a slave unit, and the signals are transmitted to the master unit from a data transmission/reception circuit of the slave unit as a patterned signal.例文帳に追加

複数の子機からの呼出信号、センサの警戒信号を、親機からの電源供給により伝送路上に重畳される電源の電圧レベルを子機の電圧パターン化部で変化させ、パターン化された信号として子機のデータ送受信回路から親機に送信する。 - 特許庁

In the array antenna apparatus provided with antenna elements 21A, 21B and a feeder line 10 which are patterned on an upper substrate 1 and a lower substrate 2, a no-power-supply element 32 is formed so as to be disposed on a position of less than 1/2 wavelength from respective antenna elements 21A, 21B.例文帳に追加

上層基板1及び下層基板2上にパターン化されたアンテナ素子21A,21Bと給電線路10とを備えたアレーアンテナ装置において、各アンテナ素子21A,21Bに対して、2分の1波長未満の位置に位置するように無給電素子32を備える。 - 特許庁

The printed circuit board for high frequency signal transmission comprises a plurality of transmission lines patterned in the printed circuit board to transmit a high frequency signal, a number of ground line blocks that have via holes and are disposed between the transmission lines with a predetermined space in the signal transmission direction to block noise, and ground electrodes connected to the ground line block by the via holes.例文帳に追加

本発明の高周波信号伝送用プリント回路基板は、プリント回路基板内にパターニングされ、高周波信号を伝達する複数の伝送線路と、ビアホールを有し、前記伝送線路の間に信号伝達方向に所定の間隔で配置されてノイズを遮蔽する多数の接地線路ブロックと、前記ビアホールによって前記接地線路ブロックに接続される接地電極部とを含む。 - 特許庁

Then, a second interlayer insulating film 210 is formed on the whole that includes the bit line 208 and the pad 209, and material films for a lower electrode, a ferroelectric body, and an upper electrode are successively formed thereon and patterned for the formation of a capacitor 211 composed of a lower electrode 211A, a ferroelectric film 211B, and an upper electrode 211C.例文帳に追加

次にビット線及び該パッドを含む全体の上に第2層間絶縁膜210を形成し、その上に下部電極用、強誘電体及び上部電極用の各物質を順次成膜後、パターニングして下部電極211A、強誘電体膜211B及び上部電極211Cからなるキャパシタ211を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

A patterned Al layer 22 is formed on the surface of a silicon substrate 21 for manufacturing the orifice plate, and the silicon substrate 21 is subjected to dry etching while using an Al layer 22 as a mask, thereby forming a hole 21a serving as a recessed part disposed at the position corresponding to a discharge opening on the surface of the silicon substrate 21 and forming a groove-shaped cut line 21d.例文帳に追加

オリフィスプレートを作製するためのシリコン基板21の表面に、パターニングされたAl層22を形成し、Al層22をマスクとしてシリコン基板21のドライエッチングを行うことで、シリコン基板21の表面における吐出口に対応する位置に配置された、凹部としての穴21a、および溝状の切断ライン21dを形成する。 - 特許庁

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも2つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、2つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and its coating film prepared by dissolving a poly(amide acid-imide) copolymer having high i-line transparency in an organic solvent to obtain a stable varnish and uniformly dissolving a diazo naphthoquinone photosensitive agent in the varnish, and to provide a finely patterned polyimide film obtained from the above coating film, and a production method of the film.例文帳に追加

本発明は高いi線透明性を有するポリ(アミド酸−イミド)共重合体を有機溶媒に溶解して得られる安定なワニスにジアゾナフトキノン系感光剤を均一に溶解して成る感光性樹脂組成物とその塗膜、および該塗膜より得られる、微細パターン化されたポリイミド膜およびその製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

例文

A first high-speed transmission path substrate 1 with a strip line structure comprises a first sheet type elastomer 1A having a constant dielectric constant, a plurality of conductive first strip type elastomer 1B that are arranged on both ends of the first sheet type elastomer 1A, and a plurality of patterned high-speed transmission paths 1C for connecting both ends of the first strip type elastomers 1B.例文帳に追加

ストリップライン構造の第1高速伝送路基板1は、一定の誘電率を有する第1シート状エラストマ1Aと、第1シート状エラストマ1Aの両端に配列される導電性の複数の第1短冊状エラストマ1Bと、第1短冊状エラストマ1Bの両端間を接続するパターン形成された複数の第1高速伝送路1Cと、を構成する。 - 特許庁




  
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