「plasma state」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PLASMA ELECTRONIC STATE MEASURING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

プラズマ電子状態測定装置および方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLID-STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、および固体撮像素子の製造方法 - 特許庁

PLASMA TREATMENT METHOD, PLASMA ETCHING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

プラズマ処理方法、プラズマエッチング方法、固体撮像素子の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MONITORING STATE OF DISCHARGE IN PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法 - 特許庁

To provide a plasma display device capable of properly preventing thermal breakage or burn-in of a plasma display panel in accordance with a driving state of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの駆動状態に応じてプラズマディスプレイパネルの熱破壊や焼付をより適切に防止できるようにする。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma treatment method and apparatus which can check a lighting state of plasma and an irradiation state of plasma after plasma lighting to secure plasma treatment with high reliability when treating an object to be treated with atmospheric plasma.例文帳に追加

大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際してプラズマ点灯後のプラズマの点灯状態やプラズマの照射状態を確認できて信頼性の高いプラズマ処理を確保することができる大気圧プラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device including a means for detecting an amount of an ion flux of plasma (plasma density) and a device state on a distribution of the amount of an ion flux of plasma, wherein the amount of an ion flux of plasma is related to a stability in mass production and a reduction in a performance difference among chambers or devices.例文帳に追加

量産安定性と機差低減に関わるプラズマのイオンフラックスの量（プラズマ密度）と、その分布に関する装置状態を検知する手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cathode arc ion film forming device that forms a stabler plasma state and that excels in controllability of the plasma state.例文帳に追加

より安定なプラズマ状態を形成することができ、プラズマ状態の制御性に優れたカソードアークイオン成膜装置の提供。 - 特許庁

To further stabilize the state of plasma near a target surface.例文帳に追加

ターゲット面近傍のプラズマ状態の更なる安定化を図ること。 - 特許庁

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND ITS OPERATIONAL STATE OUTPUT METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の運転状態の出力方法 - 特許庁

To provide a plasma treatment device which can obtain a glow-state uniform plasma even when the distance between electrodes is increased to plasma-treat a thicker work, and input power to the plasma is increased to improve the plasma treatment capability, and which is high in plasma treatment capability.例文帳に追加

厚みのある被処理物をプラズマ処理するために電極間距離を大きくしたり、プラズマ処理能力を向上させるために投入電力の増加させた際においても、グロー状の均一なプラズマを得ることができ、しかも、プラズマ処理性能の高いプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING RUNNING STATE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS, APPARATUS FOR DETERMINING RUNNING STATE, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマ処理装置の運転状態判定方法、運転状態判定装置、プログラム及び記憶媒体 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus capable of setting the temperature of a plasma treatment chamber accurately to a specific state, and performing an accurate plasma treatment, while maintaining a constant plasma treatment characteristic.例文帳に追加

プラズマ処理室の温度を正確に特定の状態とし、プラズマ処理の特性を一定に保って、高精度のプラズマ処理を実施することが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device and a plasma treatment method where the uniformity of plasma in a reaction vessel can be increased, and the state of the plasma can be easily monitored.例文帳に追加

反応容器内におけるプラズマの均一性を高めることが可能で、プラズマ状態を容易にモニタリングできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することにある。 - 特許庁

This control method in a plasma nitriding technique comprises the steps of: employing a signal which indicates an excited state of plasma during the plasma nitriding operation, as a measurement object; and controlling a plasma power source by feeding the measurement result back to the source.例文帳に追加

プラズマ窒化制御方法であって、プラズマ窒化中のプラズマの励起状態を表す信号を計測対象にし、その計測結果に基づきプラズマ電源をフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a plasma generating device in which uniformity of plasma density of the plasma generated in a line state is improved, and plasma processing of a high uniformity is carried out.例文帳に追加

ライン状に発生したプラズマのプラズマ密度の均一性を改善し、高均一なプラズマ処理が出来るプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma enhanced CVD system with which the observation over the entire part of a plasma state is possible and the uniformity by the film thickness and film quality can be promptly discriminated from the distribution state of the plasma.例文帳に追加

プラズマ状態の全体を観察可能で、そのプラズマの分布状態により膜厚や膜質による均一性を即座に判断することのできるプラズマＣＶＤ装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of properly monitoring the state of plasma discharge and detecting a sign of abnormal discharge, and to provide a method for monitoring the state of discharge in the plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ放電の状態を適正に監視して、異常放電の予兆を検出することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To reduce the change of a plasma state and to maintain a stable plasma state over a long period of time in a method for forming a deposited film containing microcrystalline silicon on a moving substrate by a plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により移動する基板上に微結晶シリコンを含む堆積膜を形成する方法において、プラズマ状態の変化を少なくし、長時間安定なプラズマ状態を維持することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for determining a running state of a plasma processing apparatus capable of determining the running state, under the condition that a processing condition adapted to a first plasma processing apparatus is adapted to a second plasma processing apparatus.例文帳に追加

第２のプラズマ処理装置に第１のプラズマ処理装置に適用される処理条件を適用した場合における運転状態を判定することができるプラズマ処理装置の運転状態判定方法を提供する。 - 特許庁

To form a marking on a work A in a stable state by using a plasma cutting torch where a moving plasma is employed.例文帳に追加

移行式プラズマを採用したプラズマ切断トーチを用いて安定した状態で被加工材Ａにマーキングを形成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device in which a light emitting state of a plasma near a to-be-processed object is easily found.例文帳に追加

被処理物近傍のプラズマの発光状態を容易に知ることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma gas nozzle body capable of realizing a stable discharged state under the atmospheric condition, and generating plasma gas of large volume.例文帳に追加

大気圧条件下で安定した放電状態を実現でき、しかも大量のプラズマガスを発生できる常圧プラズマガスノズル体の提供。 - 特許庁

To enlarge a plasma density region wherein a continuously uniform state can be ensured in a parallel-plate type ECR plasma treatment apparatus.例文帳に追加

平行平板型ＥＣＲプラズマ処理装置において、連続して均一な状態が確保できるプラズマ密度領域を拡大する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which enables the observation of the state of a processed object under a plasma treatment on real time.例文帳に追加

プラズマ処理中の被処理物の状態をリアルタイムで観察可能とするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Then, a plasma treatment by plasma of an oxygen gas is conducted on a substrate having the through-hole, in the state of the substrate being applied with a bias.例文帳に追加

次いで、貫通孔が形成された基板に対して、基板にバイアスを印加した状態で酸素ガスのプラズマによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

A container 17 to adjust the uniformity of the plasma density is installed in a diffusion region of plasma generated in a line state.例文帳に追加

ライン状に発生させたプラズマの拡散領域にプラズマ密度の均一性を調整する容器１７が設けられる。 - 特許庁

The steel has excellent fatigue properties in a plasma cut part, and can be used as a member subjected to repeated stress even in a state of being as plasma-cut.例文帳に追加

プラズマ切断部の疲労特性が優れており、プラズマ切断ままでも繰り返し応力が作用する部材として用いることができる。 - 特許庁

Plasma processing is conducted to the surface parts of the film 3 and wirings 4 for thirty seconds, by using CH_4 in a plasma state.例文帳に追加

膜３および配線４の表層部に、プラズマ状態のCH_4ガスを用いて３０秒間プラズマ処理を施す。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a plasma treatment container to a nearly new state when the surface of the container is degraded through its use in the plasma environment.例文帳に追加

プラズマ中での使用により表面が劣化したプラズマ処理容器を新品同様に再生することを提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for plasma treatment by which plasma of a higher density can be obtained in a state where the rise of manufacturing cost or the occurrence of damages is suppressed.例文帳に追加

製造コストの上昇やダメージの発生などを抑制した状態で、より高い密度のプラズマが得られるようにする。 - 特許庁

Preferably, under the state that a printing master is installed on the plate cylinder of a printing machine, a plasma is directed as a plasma jet to a printing surface.例文帳に追加

好ましくは印刷機の版胴上に印刷マスターが搭載されている間にプラズマをプラズマジェットとして印刷面に向ける。 - 特許庁

To provide a plasma generator in which generation of plasma is secured and its state is maintained stably.例文帳に追加

確実にプラズマを発生させ、その状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加

装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To suppress any change of a plasma state by measuring the density of specified particles in plasma with a simple equipment.例文帳に追加

簡単な設備でプラズマ中の特定粒子の密度を計測し、プラズマ状態の変化を抑制すること。 - 特許庁

To enable maintenance reflecting the lighting state of plasma in a plasma generating device used for processing workpiece such as modification of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を反映したメンテナンスを可能にする。 - 特許庁

A diketone is brought to a plasma state and is polymerized into a diketone polymer.例文帳に追加

ジケトンをプラズマ状態にして重合させてジケトン重合体を形成する。 - 特許庁

Lastly, the plasma display is in a sustain period, and a display cell is sustained in a discharge state.例文帳に追加

最後に、プラズマディスプレイは維持（sustain）周期にあり、表示セルが放電状態に維持される。 - 特許庁

To speedily and easily find a trouble state upon a plasma emission processing with a simplified mechanism.例文帳に追加

プラズマ発光処理時の異常状態を逸早く且つ簡単な仕組みで容易に発見する。 - 特許庁

To form a thin film in the state in which damages due to dust and abnormal plasma are suppressed.例文帳に追加

ダストや異常プラズマによるダメージが抑制された状態で、薄膜が形成できるようにする。 - 特許庁

A processing gas injected into the gap is excited to its plasma state in operation.例文帳に追加

空隙に注入されたプロセスガスは、動作中にプラズマ状態に励起される。 - 特許庁

Consequently, unstable state of plasma is prevented from being sustained and damage on a workpiece can be controlled.例文帳に追加

これによりプラズマの不安定な状態が続くことを抑え、被処理体へのダメージが抑えられる。 - 特許庁

To provide a monitoring system precisely recognizing the change of state of a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching device for precisely detecting an etching state of a wafer.例文帳に追加

ウェハのエッチング状態を精度よく検出できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric structure capable of easily controlling a discharge state of plasma.例文帳に追加

プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。 - 特許庁