| 意味 | 例文 |
projection drawing methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23件
METHOD FOR DRAWING AXONOMETRIC PROJECTION PLAN例文帳に追加
軸測投影図の製図方法 - 特許庁
METHOD FOR DRAWING PROJECTION AND RECESS OF ROTARY PUMP例文帳に追加
ロータリーポンプの山と谷の描き方 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING PROJECTION DRAWING AND COMPUTER- READABLE STORAGE MEDIUM WITH PROJECTION DRAWING PREPARATION PROGRAM STORED THEREON例文帳に追加
投影図作成方法及び投影図作成プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能記憶媒体 - 特許庁
To obtain an image sensing device, capable of obtaining an accurate image on a projection drawing method.例文帳に追加
投影図法上の正確な像が取得できる撮像装置を得る。 - 特許庁
MAGNETIC RECORDING MEDIUM, RETICLE FOR ELECTRON BEAM REDUCED PROJECTION DRAWING AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加
磁気記録媒体、電子線縮小投影描画用レチクルおよび磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
To provide a method by which the angle of rotation of each axis of a model projection drawing can be set easily in plotting (including tracing) a single view drawing.例文帳に追加
立体図を作図(トレースを含む)するに際して、モデル投影図の各軸の回転角を簡単に設定できる方法を提供する。 - 特許庁
DRAWING METHOD OF SHAPED-BEAM TYPE ELECTRON BEAM PROJECTION DEVICE AND SHAPED-BEAM TYPE ELECTRON BEAM IRRADIATION SYSTEM例文帳に追加
成形ビーム型の電子ピーム照射装置の描画方法および成形ビーム型の電子ピーム照射装置 - 特許庁
To change content of images with reference to a vanishing point in a perspective projection drawing method while maintaining operability and visibility of a user.例文帳に追加
ユーザの操作性及び視認性を維持しつつ、透視投影図法における消失点を基準にして画像の内容を変更する。 - 特許庁
To provide a method for creating a three-dimensional solid model by a simple operation from a two-dimensional projection drawing created on a CAD screen.例文帳に追加
CAD画面上で作成される2次元投影図から簡単な操作で3次元ソリッドモデルを作成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for reconstituting an image from a set of data on a projection drawing acquired by the computed tomography(CT) scanning of an object.例文帳に追加
対象物のコンピュータ断層撮影(CT)スキャンで獲得された投影図のデータのセットから画像を再構成する方法を提供する。 - 特許庁
SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING METHOD AND ITS DEVICE, SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR RECORDING MEDIUM WITH RECORDED LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING PROGRAM例文帳に追加
立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成方法とその装置、並びに立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
To provide a method for friction stir welding capable of welding two aluminum plates advantageously without forming a projection of a mark which is made by drawing out a pin of a rotation tool.例文帳に追加
回転治具のピンの引抜跡からなる突起を形成せしめることなく、2つのアルミニウム材を有利に接合可能な摩擦撹拌接合方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for projection capable of improving resolution by shifting the phase of modulated light when drawing is carried out according to pattern data.例文帳に追加
パターンデータに応じて描画を行う際に変調光の位相をシフトすることにより、解像度を高めることができる投影装置および投影方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam lithography system capable of conducting both charged particle beam lithography by a character projection method for drawing one or more patterns of many patterns arranged in an aperture, and a charged particle beam lithography by a variable shaped beam method.例文帳に追加
アパーチャに多数配置されたパターンの一つから複数のパターンを描画する一括描画方式での荷電粒子ビーム描画と、可変成形ビーム描画方式による荷電粒子ビーム描画との両方を行う。 - 特許庁
To provide a method to design a mask for integrated circuit (IC) design layout drawing in order to efficiently configure sub-resolution assist features (SRAFs) corresponding to an optimally structured annular illumination light source of a lithography projection system.例文帳に追加
リソグラフィ投影システムの最適に構成された輪帯照明光源に対応するサブレゾルーション補助構造体(SRAF)を効率的に構成するために、集積回路(IC)設計レイアウトを描画するマスクを設計する方法を提供する。 - 特許庁
In method for positioning and fixing the rotation preventive mechanism/thrust bearing member of a movable spiral body in a scroll compressor for refrigerating air conditioner, the movable spiral body and plate ad/or front housing and plate are relatively positioned and fixed by providing a projection 5 on the plate 1 of a rotation preventive member 50 by drawing and press- fitting the projection 5 into the mate member.例文帳に追加
冷凍空調用のスクロール式圧縮機における可動渦巻体の回転阻止機構/スラスト軸受部材の位置決め及び固定方法において、前記回転阻止部材50のプレート1,2にプレス絞りにて、凸部5を設け、相手部材にその凸部を圧入することで、可動渦巻体とプレート及び/又はフロントハウジングとプレートの相対的な位置決めと固定を行う。 - 特許庁
The method of manufacturing the discharge lamp device includes a melting process in which a projection part 57 or the like of a rear end side of the discharge lamp DL having a socket part 5 on a rear end part of which lead wire drawing-out parts 55, 56 are formed is melted by a hot board HB and is integrally connected with the starter IG.例文帳に追加
本発明の放電ランプ装置の製造方法は、後端側にリード線引出部55、56が形成されたソケット5を有する放電ランプDLの後端側の凸部57等を熱板HBで溶融する溶融工程を経て、始動器IGと一体接続される。 - 特許庁
To provide a method for producing polyamide fibers containing inorganic particles by a direct spinning and drawing method at a high speed, by which the polyamide fibers not generating fiber breakage and fuzzes and inhibiting the projection of the inorganic particles on the surfaces of the fibers can be produced in good productivity without wearing out machines, even when used as sizing agent-free warps in a high speed rotation loop.例文帳に追加
高速での直接紡糸延伸法で無機粒子を含有するポリアミド繊維を製造する際に、無機粒子の繊維表面への突出を抑制し、高速回転織機の無糊経糸として使用しても、機器の摩耗がなく、また、切れ糸や毛羽の生じないポリアミド繊維を生産性よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electron beam (EB) drawing data generation method capable of extracting a graphic in a CP cut-away frame as a character pattern while suppressing an increase in computational complexity even if it is necessary to resize a graphic cell, when extracting the graphic in a character projection (CP) cut-away frame generated from a cell arrangement frame included in the graphic cell as a character pattern.例文帳に追加
図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたCP切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、CP切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、EB描画データ生成方法を提供すること。 - 特許庁
This method is characterized, by detecting the wrong crystal orientation generated systematically with the specific orientation relation between the measured correct crystal orientation and the wrong crystal orientation by being distributed on a fixed curve connecting each of poles (100), (010) and (001) or on its periphery on a stereo projection drawing plane of the wrong crystal orientation, and correcting the wrong crystal orientation by utilizing the distribution.例文帳に追加
測定した正しい結晶方位と誤った結晶方位との間に特定の方位関係をもって生ずる系統的に発生する誤った結晶方位は、誤った結晶方位のステレオ投影図平面での(100),(010),(001)の各極を結ぶ一定の曲線上またはその近傍に分布することにより検知し、さらにその分布を利用して誤った結晶方位を修正することを特徴とする。 - 特許庁
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