「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A magnetic oscillation element has a first electrode, a second electrode, a first magnetic layer, a second magnetic layer, and a first spacer layer.例文帳に追加

実施形態によれば、第１電極と第２電極と第１磁性層と第２磁性層と第１スペーサ層とを備えた磁気発振素子が提供される。 - 特許庁

The invention also includes a second outer conductive layer having a thickness substantially equal to that of the first outer conductive layer and being bonded to the second adhesive layer.例文帳に追加

本発明は、第１外部導電層の厚さとほぼ同じ厚さを有し、第２粘着層に接合する第２外部導電層も含む。 - 特許庁

Any sand that falls on the upper surface of the second layer 3 and passes therethrough is also retained between the first layer 2 and second layer 3.例文帳に追加

第２層３の上部表面上に落ちそしてそれを通過するいかなる砂も第１層２と第２層３との間に保持される。 - 特許庁

A first layer 51a of the Mo layer 51 is formed by the first condition, and afterwards, a second layer 51b is formed by the second condition.例文帳に追加

まず、第１条件でＭｏ層５１の第１層５１ａを形成し、その後第２条件で第２層５１ｂを形成する。 - 特許庁

A second base layer 37 of second conductive type and an emitter layer 38 of first conductive type are disposed on the first base layer contacting the trench.例文帳に追加

トレンチに接して第１ベース層上に第２導電型の第２ベース層３７と第１導電型のエミッタ層３８とが配設される。 - 特許庁

The ridge is formed of a lower part formed of the second second-clad layer, and a ridge contact layer formed of the contact layer.例文帳に追加

リッジは第２の第２クラッド層で形成される下部と、コンタクト層で形成されるリッジ部コンタクト層とからなっている。 - 特許庁

In a stage where an optical separation layer is formed on a second information layer, the second information layer is initialized.例文帳に追加

第２の光学情報層の上に、光学分離層を形成した段階で、第２の光学情報層を初期化する。 - 特許庁

The third p-type layer is provided between the first p-type layer and the second p-type layer and contains the p-type impurity at a third concentration lower than the second concentration.例文帳に追加

第３ｐ形層は第１ｐ形層と第２ｐ形層との間に設けられ、第２濃度よりも低い第３濃度でｐ形不純物を含む。 - 特許庁

An SAS structure is formed with a second guide layer 15, a current blocking layer 16, and a second clad layer 18.例文帳に追加

第２ガイド層１５，電流ブロッキング層１６および第２クラッド層１８によりＳＡＳ構造が形成されている。 - 特許庁

Furthermore, the insulation layer 300 and the second isolation layer 180 are planarized, and the second isolation layer 180a of existing thickness is left on the semiconductor substrate.例文帳に追加

さらに絶縁層３００及び第２遮断層１８０を平坦化し、半導体基板上に既定の厚さの第２遮断層１８０ａを残留させる。 - 特許庁

The second p-side wiring layer has a p-side external terminal exposed from the first insulating layer and second insulating layer on the third surface.例文帳に追加

第２のｐ側配線層は、第３の面で第１の絶縁層及び第２の絶縁層から露出されたｐ側外部端子を有する。 - 特許庁

The assignment of a second layer is given priority over a first layer, and the assignment of a third layer is given priority over the first and second layers.例文帳に追加

第１レイヤより第２レイヤの割り当てを優先させ、第１および第２レイヤより第３レイヤの割り当てを優先させる。 - 特許庁

A semiconductor light emitting element has: a support substrate; a first electrode; a first conductivity type layer; a light emitting layer; a second conductivity type layer; and a second electrode.例文帳に追加

半導体発光素子は、支持基板と、第１電極と、第１導電形層と、発光層と、第２導電形層と、第２電極と、を有する。 - 特許庁

An interlayer insulation film 4 is provided between the first-layer wiring 3 and the second-layer wiring 5, and the second- layer wiring 5 is covered with a protection insulation film 6.例文帳に追加

第１層目配線３と第２層目配線５との間には、層間絶縁膜４が設けられ、第２層目配線５は、保護絶縁膜６で被覆される。 - 特許庁

The p-type layer (4) and the second n-type layer (5) contact with each other so as to form a hetero interface, and a positive electrode (E1) is formed on the second n-type layer (5).例文帳に追加

ｐ型層（４）と第２のｎ型層（５）とはヘテロ界面をなすように接しており、第２のｎ型層（５）には正電極（Ｅ１）が形成されている。 - 特許庁

The second n-side wiring layer has an n-side external terminal which is exposed from the first insulating layer and second insulting layer on the third surface.例文帳に追加

第２のｎ側配線層は、第３の面で第１の絶縁層及び第２の絶縁層から露出されたｎ側外部端子を有する。 - 特許庁

A laser unit is connected with a second device layer part and a hinge 24 connects the first device layer part and the second device layer part.例文帳に追加

レーザが第２のディバイス層部分に接続され、ヒンジ２４がこの第１のディバイス層部分と第２のディバイス層部分とを接続する。 - 特許庁

Subsequently, after the second resist layer is removed, a second insulating layer 100 is formed on an upper surface of the first insulating layer 70.例文帳に追加

次いで、第２レジスト層を除去した第１絶縁層７０上面に第２絶縁層１００を形成する。 - 特許庁

The second carrier block layer 21b is formed between the second part 17b of the active layer 17 and the p-type III-V compound semiconductor layer 15.例文帳に追加

第２のキャリアブロック層２１ｂは、活性層１７の第２の部分１７ｂとｐ型III−Ｖ化合物半導体層１５との間に設けられている。 - 特許庁

In the first resin layer, the coefficient of linear expansion is larger than that of the second resin layer, and elastic modulus is lower than that of the second resin layer.例文帳に追加

第１の樹脂層は、第２の樹脂層よりも線膨張係数が大きく、かつ、弾性率が低い。 - 特許庁

Etching of the second layer film 19 is stopped at the interface of the first layer film 18 and the second layer film 19 if a gas of C4H8 system is used.例文帳に追加

第２層膜１９のエッチングは、Ｃ４Ｈ８系のガスで行うと、エッチングは第１層膜１８と第２層膜１９の界面で止まる。 - 特許庁

A second metal layer forming process for forming a second metal layer 14 on the first metal layer is carried out.例文帳に追加

そして、第１金属層上に、第２金属層１４を形成する第２金属層形成工程を実施する。 - 特許庁

The stamper is peeled (ST5), a second layer is film-deposited on the 2P resin and then a cover layer is formed on the second layer (ST6).例文帳に追加

スタンパを剥がし（ＳＴ５）、前記２Ｐ樹脂層上に第２層を成膜後、前記第２層上にカバー層を形成する（ＳＴ６）。 - 特許庁

The buffer layer is disposed on the reserve side of the second base layer, and has a higher impurity concentration than the second base layer.例文帳に追加

バッファ層は、第二のベース層の裏面に設けられ、第二のベース層よりも不純物濃度が高い。 - 特許庁

At the second layer forming process S3, a second layer 20 is formed on the first layer 10 and on the hollow portion 11.例文帳に追加

第２層形成工程Ｓ３では、第１層１０及び空洞部分１１の上に第２層２０が形成される。 - 特許庁

A first light shielding layer 21 and a second light shielding layer 22 are deposited on an element substrate 10, and a resist mask is formed on the second light shielding layer 22.例文帳に追加

素子基板１０に第１遮光層２１、及び第２遮光層２２を成膜して、第２遮光層２２上にレジストマスクを形成する。 - 特許庁

A hole 26 is formed in the second colored layer 24 so as to make color reproducibility of the second colored layer 24 lower than color reproducibility of the first colored layer 16.例文帳に追加

第２着色層２４には、第１着色層１６よりも色再現性が低くなるように、穴２６が形成されている。 - 特許庁

After the removing step, impurity ions of the second conductivity are irradiated from the top surface side of the first layer and the second layer toward the semiconductor layer 14.例文帳に追加

除去工程後に、第１層及び第２層の上面側から半導体層１４に向かって第２導電型の不純物イオンを照射する。 - 特許庁

The ridge has a lower portion formed of the second second clad layer and the ridge-portion contact layer formed of the contact layer.例文帳に追加

リッジは第２の第２クラッド層で形成される下部と、コンタクト層で形成されるリッジ部コンタクト層とからなっている。 - 特許庁

To improve flexibility of a second unwoven fabric layer in a GBR (guided born regeneration) membrane having a two-layer structure of a first unwoven fabric layer and the second unwoven fabric layers.例文帳に追加

第１不織布層と第２不織布層との２層構造を有するGBR膜において、第２不織布層の柔軟性を向上させる。 - 特許庁

The optical layer includes a first optical layer having a first face in a rugged shape and a second optical layer having a second face in a rugged shape.例文帳に追加

光学層が、凹凸形状の第１の面を有する第１の光学層と、凹凸形状の第２の面を有する第２の光学層とを備える。 - 特許庁

The second cleaning layer 12 is arranged on the bottom 13b side of the casing 13 and the first cleaning layer 11 is layered/arranged on the second cleaning layer 12.例文帳に追加

第二浄化層１２はケーシング１３の底部１３ｂ側に配置され、第一浄化層１１は第二浄化層１２上に積層配置されている。 - 特許庁

To display a second layer by superimposing it on a background of a first layer and to change how the second layer looks when a prescribed event occurs.例文帳に追加

第１の層の背景に第２の層を重畳して表示し、所定のイベントがあったとき、第２の層の見え方を変更する。 - 特許庁

The second seal layer 202 and the third seal layer 203 are joined with each other via the second intermediate layer 205b.例文帳に追加

第２シール層２０２と第３シール層２０３とは、第２中間層２０５ｂを介して接合されている。 - 特許庁

The second layer is provided on the luminescent layer side opposite to the first layer, and has a second conductive shape.例文帳に追加

前記第２の層は、前記第１の層とは反対の側となる前記発光層の側に設けられ、第２導電形を有する。 - 特許庁

Alternatively, the heat insulating and retaining material is constituted by laminating the first cloth, a first high foamed layer, a synthetic resin film layer, a second foamed layer and the second cloth in this order and bonding them to one another.例文帳に追加

または、第一布帛、第一高発泡層、合成樹脂製フィルム層、第二高発泡層及び第二布帛の順で積層貼合されてなる。 - 特許庁

The shield 13 has a first layer 13A1, a second layer 13A2, a third layer 13B, a first connecting section 13C and a second connecting section 13D.例文帳に追加

シールド１３は、第１層１３Ａ１、第２層１３Ａ２、第３層１３Ｂ、第１の連結部１３Ｃおよび第２の連結部１３Ｄを有している。 - 特許庁

The relation between the total film thickness d1 of the Si film of a first layer and the SiO_x film of a second layer and SiO_x film d2 of the second layer is 0.1≤d2/d1≤0.9.例文帳に追加

第１層のＳｉ膜と第２層のＳｉＯ_x膜との合計膜厚d1と第２層のＳｉＯ_x膜d2との関係が、0.1≦ｄ2/ｄ1≦0.9となるようにする。 - 特許庁

The second transistor has: a third gate insulating layer; the second gate charge storage layer; and a fourth gate insulating layer.例文帳に追加

第２のトランジスタは、第３のゲート絶縁層と、第２のゲート電荷蓄積層と、第４のゲート絶縁層とを有する。 - 特許庁

The upper and lower surfaces of the second layer are made in contact with the first and third layers respectively, and the side face of the second layer is made in contact with an oxidized layer containing oxygen and aluminum.例文帳に追加

また、第２の層の上面及び下面は第１及び第３の層と接し、側面は酸素とアルミニウムを含む酸化層と接する。 - 特許庁

A first glaze layer 2 comprising the first glaze is formed on the surface of the substrate 1, and a second glaze layer 3 comprising the second glaze is formed on the upper side of the first glaze layer 2.例文帳に追加

基体１の表面に、第１釉薬からなる第１釉薬層２と、より表面側に第２釉薬からなる第２釉薬層３とを形成する。 - 特許庁

Then, the first material layer is covered with a second material layer 4 by covering the second material layer 4 on the surface 10 of the base material 1.例文帳に追加

次に第２の材料層４を基材１の被処理面１０に被覆することにより、第２の材料層４で第１材料層に覆う。 - 特許庁

On an Si substrate 51, a second AlAs layer 59, a first GaN layer 53, and a second AlAs layer 60 are epitaxially grown.例文帳に追加

Ｓｉ基板５１上に、第２のＡｌＡｓ層５９，第１のＧａＮ層５３第２のＡｌＡｓ層６０をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

A second conductive layer 32 may be provided on the base material, and the dielectric layer 16 may be provided so as to cover at least one part of the second conductive layer.例文帳に追加

基材上に第２の導電層３２を設け、この第２の導電層の少なくとも一部を覆うように誘電体層１６を設けてもよい。 - 特許庁

In a portion where the first printing layer 25 and the second printing layer 26 are layered, the second printing layer 26 is positioned at a surface side.例文帳に追加

これら第１印刷層２５と第２印刷層２６とが重層する部分においては、第２印刷層２６が表面側に位置している。 - 特許庁