「semiconductor catalyst」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHODS FOR IMPROVING ACTIVITY OF CATALYST AND PERFORMANCE OF SEMICONDUCTOR, AND METHODS FOR PRODUCING ACTIVITY-IMPROVED CATALYST AND PERFORMANCE-IMPROVED SEMICONDUCTOR例文帳に追加

触媒の活性及び半導体の性能向上方法及び活性の向上した触媒及び性能の向上した半導体の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING SEMICONDUCTOR THIN FILM, AND CATALYST NOZZLE例文帳に追加

半導体薄膜の形成方法及びその装置、並びに触媒ノズル - 特許庁

LATENT CATALYST FOR EPOXY RESIN, EPOXY RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

エポキシ樹脂用潜伏性触媒、エポキシ樹脂組成物および半導体装置 - 特許庁

CURING CATALYST, RESIN COMPOSITION, RESIN SEALED TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE, AND COATING MATERIAL例文帳に追加

硬化触媒、樹脂組成物、樹脂封止型半導体装置、およびコーティング材 - 特許庁

To provide a method of efficiently gettering a catalyst element from a semiconductor layer after a treatment crystallizing of a semiconductor film using the catalyst element is performed.例文帳に追加

触媒元素を用いる半導体膜の結晶化処理を行った後に、該触媒元素を効率よく半導体層からゲッタリング（捕獲）する方法を提供する。 - 特許庁

MICROCAPSULE TYPE CURING CATALYST AND RESIN COMPOSITION FOR SEALING SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加

マイクロカプセル型硬化触媒およびそれを用いた半導体封止用樹脂組成物 - 特許庁

METHOD OF IMPROVING ACTIVITY OF CATALYST AND PERFORMANCE OF SEMICONDUCTOR AND METHOD OF MANUFACTURING CATALYST HAVING IMPROVED ACTIVITY, SEMICONDUCTOR HAVING IMPROVED PERFORMANCE AND WET SOLAR CELL例文帳に追加

触媒の活性及び半導体の性能向上方法、及び、活性の向上した触媒及び性能の向上した半導体並びに湿式太陽電池の製造方法 - 特許庁

CATALYST CONTACT RADICAL CREATION EQUIPMENT, SEMICONDUCTOR DEVICE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

触媒接触型ラジカル生成装置および半導体装置ならびに液晶表示装置 - 特許庁

LATENT CATALYST, THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND EPOXY RESIN MOLDING MATERIAL COMPRISING THE CATALYST, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

潜伏性触媒並びに該触媒を配合してなる熱硬化性樹脂組成物及びエポキシ樹脂成形材料並びに半導体装置 - 特許庁

In the semiconductor-film forming method, the semiconductor film is formed on the substrate by using catalyst CVD, high-density catalyst CVD, high-density plasma CVD, plasma CVD, reduced pressure CVD, atmospheric pressure CVD, sputtering or catalyst sputtering processes.例文帳に追加

本発明は、触媒ＣＶＤ，高密度触媒ＣＶＤ，高密度プラズマＣＶＤ，プラズマＣＶＤ，減圧ＣＶＤ，常圧ＣＶＤ，スパッタリング，触媒スパッタリングを利用して、基板に半導体膜を形成する半導体膜形成方法である。 - 特許庁

This is a semiconductor forming method for forming a semiconductor film on substrate by using bias catalyst CVD, high-density bias catalyst CVD, bias pressure-reduction CVD, bias atmospheric CVD.例文帳に追加

本発明は、バイアス触媒ＣＶＤ，高密度バイアス触媒ＣＶＤ，バイアス減圧ＣＶＤ，バイアス常圧ＣＶＤを利用して、基板に半導体膜を形成する半導体膜形成方法である。 - 特許庁

Or a light catalyst is brought into contact with a desired location in the oxide semiconductor having high conductivity, and light is applied to the light catalyst, thus forming a low-conductivity section in the oxide semiconductor.例文帳に追加

あるいは、高導電率の酸化物半導体の所望の場所に光触媒を接触させ、光触媒に光を照射して酸化物半導体に低導電率の部分を形成する。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning system 1 has a noble metal catalyst carrier 2 in which a noble metal catalyst layer containing a noble metal catalyst is supported on a first base material and an oxide semiconductor carrier 3 in which an oxide semiconductor layer containing an oxide semiconductor is supported on a second base material.例文帳に追加

排ガス浄化システム１は、貴金属触媒を含有する貴金属触媒層を第１基材に担持してなる貴金属触媒担持体２と、酸化物半導体を含有する酸化物半導体層を第２基材に担持してなる酸化物半導体担持体３とを有する。 - 特許庁

In a process for applying catalyst for crystallizing an amorphous silicon film formed on a substrate surface, the catalyst is deposited by applying a catalyst solution by using a semiconductor manufacturing device such as a spin coater at the time of applying the catalyst.例文帳に追加

基板表面上に形成した非結晶シリコン膜を結晶化するための触媒を塗布する工程において、触媒の塗布にはスピンコータ等の半導体製造装置を用いて触媒溶液を塗布して触媒を析出させる。 - 特許庁

To reduce the concentration of a catalyst element included in a crystalline semiconductor layer of a thin film transistor.例文帳に追加

薄膜トランジスタの結晶質半導体層に含まれる触媒元素の濃度を低減する。 - 特許庁

OPTICAL SEMICONDUCTOR CATALYST CARRYING FIBER, AIR FILTER, AIR CONDITIONER, HEAT EXCHANGE ELEMENT AND HEAT EXCHANGE UNIT例文帳に追加

光半導体触媒担持繊維、エアフィルタ、空気調和装置、熱交換エレメント、および熱交換ユニット - 特許庁

An amorphous semiconductor film containing silicon is formed and is loaded with the catalyst element to be crystallized.例文帳に追加

ケイ素を含む非晶質半導体膜を形成し、触媒元素を添加して結晶化する。 - 特許庁

In the optical semiconductor catalyst 846, a diameter of a secondary particle is 0.1 to 1 μm.例文帳に追加

なお、光半導体触媒８４６は、二次粒子の直径が０．１から１マイクロメートルである。 - 特許庁

A catalyst element is added to an amorphous semiconductor film and heated to form a crystalline semiconductor film, and the catalyst element is removed from the crystalline semiconductor film, and subsequently, an inverted staggered thin-film transistor is fabricated.例文帳に追加

本発明は、非晶質半導体膜に触媒元素を添加し加熱して、結晶性半導体膜を形成するとともに該結晶性半導体膜から触媒元素を除き、その後逆スタガ型薄膜トランジスタを作製する。 - 特許庁

After an amorphous semiconductor thin-film is crystallized using a catalyst element, it is dipped in a hot sulfuric acid to remove the catalyst element.例文帳に追加

非晶質半導体薄膜を、触媒元素を利用して結晶化させた後、熱硫酸溶液中に浸すことにより前記触媒元素を除去する。 - 特許庁

A titanium oxide layer 2 for photo-catalyst formed by mixing the fine particles of the titanium oxide for photo-catalyst in the similar raw material is laminated on the semiconductor layer 1.例文帳に追加

光触媒用酸化チタン膜２は、光触媒用酸化チタンの微粒子を上記同様の素材に混入させ、半導体層１に積層する。 - 特許庁

Moreover, an active region is formed on a silicon region with no residual catalyst element to manufacture a semiconductor device, wherein impurities do not exist in the interface between the gate insulating film and the semiconductor layer.例文帳に追加

また、残留触媒元素の無いシリコン領域に活性領域を形成して不純物の無い半導体装置を作成する。 - 特許庁

The polycrystalline semiconductor thin film 7 is grown using this layer 100B as a seed by the catalyst CVD method or the like.例文帳に追加

これをシードとして触媒ＣＶＤ法等により多結晶性半導体薄膜７を成長させる。 - 特許庁

To provide a technology for eliminating efficiently a catalyst element from semiconductor films containing silicon.例文帳に追加

ケイ素を含む半導体膜中から触媒元素を効率良く除去するための技術を提供する。 - 特許庁

This can greatly reduce the amount of the catalyst element left in the active region of the semiconductor device.例文帳に追加

このことで、半導体装置の能動領域における残留触媒元素量を大きく低減できる。 - 特許庁

In the exhaust gas cleaning catalyst body, the oxide semiconductor layer is supported on the base material in the exhaust gas channel at upstream of the noble metal catalyst layer or is laminated on the noble catalyst layer.例文帳に追加

また、排ガス浄化触媒体においては、酸化物半導体層は、貴金属触媒層よりも排ガス流路における上流側で基材に担持されているか、または、貴金属触媒層上に積層形成されている。 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD BY CATALYST SPUTTERING AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

触媒スパッタリングによる薄膜形成方法及び薄膜形成装置並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

SILANOL CONDENSATION CATALYST, THERMOSETTING SILICONE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL SEMICONDUCTOR SEALING USE, AND SEALING BODY USING THE SAME例文帳に追加

シラノール縮合触媒、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物およびこれを用いる封止体 - 特許庁

Then, by reacting with heated liquid, the catalyst elements in the semiconductor film is gettered into the liquid.例文帳に追加

次に、加熱された液体と反応させて、半導体膜中の触媒元素を液体中へとゲッタリングさせる。 - 特許庁

Cations are incorporated in a semiconductor by bringing a catalyst containing the cations such as Cr, V, Fe and Mn which are different from the components of the semiconductor into contact with the surface of the semiconductor such as titanium oxide.例文帳に追加

酸化チタン等の半導体の表面に、半導体の構成成分とは異なる成分であるＣｒ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｎ等の陽イオンを含む媒体を接触させて、半導体に陽イオンを含有させる。 - 特許庁

A catalyst element for promoting crystallization of an amorphous semiconductor thin film is added to the amorphous semiconductor thin film, and heat treatment is performed on the film so as to obtain a crystalline semiconductor thin film 102.例文帳に追加

非晶質半導体薄膜に対して当該非晶質半導体薄膜の結晶化を助長する触媒元素を添加し、熱処理を行うことにより結晶性半導体薄膜１０２を得る。 - 特許庁

The nanotubes can be used as a semiconductor material, an emitter material, a heat resistant packing material, a high strength material, a catalyst, etc.例文帳に追加

半導体材料、エミッタ材料、耐熱性充填材料、高強度材料、触媒等として利用可能である。 - 特許庁

The gettering process enables the amorphous semiconductor film with sufficient reduction in the catalyst element to be obtained.例文帳に追加

このゲッタリング工程により、触媒元素が充分に低減された結晶質半導体膜を得ることが可能となる。 - 特許庁

A semiconductor device comprises: a catalyst metal film 220; a graphene film 230; a contact plug 240; and an adjustment film 250.例文帳に追加

半導体装置は、触媒金属膜２２０と、グラフェン膜２３０と、コンタクトプラグ２４０と、調整膜２５０と、を備える。 - 特許庁

The oxide semiconductor carrier 3 is disposed in an exhaust gas channel 15 upstream of the noble metal catalyst carrier.例文帳に追加

酸化物半導体担持体３は、貴金属触媒担持体よりも排ガス流路１５における上流側に配置されている。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a semiconductor substrate or a conductive layer (first conductive layer) 101, a second conductive layer 107, a catalyst layer 106 and a conductor 104.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板または導電層（第１の導電層）１０１と、第２の導電層１０７と、触媒層１０６と、導電体１０４とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of sufficiently decreasing a catalyst element of a crystalline silicon film, and raising performance and reliability of the semiconductor device.例文帳に追加

結晶性ケイ素膜の触媒元素を十分に低減して、半導体装置の性能および信頼性を高めることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Immediately ahead of the muffler 5, there is arranged a semiconductor ozone sensor 18 for detecting an amount of ozone contained in the exhaust gas which has passed the SCR catalyst 3 and the oxidation catalyst 4.例文帳に追加

マフラ５の直前には、ＳＣＲ触媒３及び酸化触媒４を通過した排ガスに含まれるオゾンの量を検出するための半導体オゾンセンサ１８が設けられている。 - 特許庁

Or, the raw material of the optical, catalyst layer including the liquid silicone rubber and the optical catalytic semiconductor compound is heated for burning at a lower temperature to form the optical catalyst layer 103.例文帳に追加

また、液状シリコーンゴムおよび光触媒性半導体化合物を含んでなる光触媒層の原料を、低温で加熱硬化することにより、光触媒層１０３を形成する。 - 特許庁

In a method for manufacture, when catalyst elements are introduced into an amorphous semiconductor film 103, or after introduction, a first heat treatment for crystallization of a part of the amorphous semiconductor film 103 is performed to obtain a semiconductor film 105.例文帳に追加

非晶質半導体膜１０３内に触媒元素を導入する際、または導入した後、非晶質半導体膜１０３の一部を結晶化させる第１加熱処理を行い、半導体膜１０５を得る。 - 特許庁

A polycrystalline semiconductor thin film is formed by a method, where an amorphous or fine crystal carbon thin film 100A is formed on a substrate 1 by a catalyst CVD method or the like.例文帳に追加

基体１上に触媒ＣＶＤ法等によりアモルファス又は微結晶カーボン薄膜１００Ａを形成する。 - 特許庁

The cleaning treatment material 847 is a mixture of the optical semiconductor catalyst 846 and apatite 845 having photocatalyst function.例文帳に追加

清浄処理材料８４７は、光半導体触媒８４６および光触媒機能を有するアパタイト８４５の混合物である。 - 特許庁

Then, the stage supports the semiconductor substrate so as to be oblique to the diffusing direction of the active species from the heat catalyst body.例文帳に追加

そして、ステージは、熱触媒体からの活性種の拡散方向に対して斜めになるように半導体基板を支持する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a CGS film which does not contain impurities of catalyst metal elements is formed.例文帳に追加

触媒金属元素による不純物を含まないＣＧＳ膜が形成された半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain in high purity and yield the subject compounds useful as an organic semiconductor without using any strongly alkaline substance by reaction between trihalotriphenylamines and aromatic secondary amines using a specific catalyst.例文帳に追加

4,4',4" −トリス（ジ置換アミノ）トリフェニルアミン類を高純度高収率にて得ることができる方法を提供することにある。 - 特許庁