「third layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

This test board 1 formed by laminating three substrates comprises a mounting face (first layer) GND solid 8 layer (second layer), an insulating layer (third layer), and a solder face (fourth layer) where a ball grid 7 is formed.例文帳に追加

三枚の基板を積層形成したテストボード１は、実装面（第１層）ＧＮＤベタ８層（第２層）、絶縁層（第３層）、ボールグリッド７が形成されたハンダ面（第４層）からなる。 - 特許庁

A lower electrode 39a and a wire 39b of the capacitance element 44 are formed in a wiring layer (a third wiring layer) 39 which is located one layer lower than a wiring layer (a fourth wiring layer) 43 as the outermost layer.例文帳に追加

最上層の配線層（第４配線層）４３よりも一つ下の配線層（第３配線層）３９に容量素子４４の下部電極３９ａと配線３９ｂを形成する。 - 特許庁

This semiconductor integrated circuit is provided with a wiring layer in the second layer and a wiring layer in the fourth layer, and a wiring layer in the third layer arranged between those wiring layers.例文帳に追加

半導体集積回路は、２層目の配線層と４層目の配線層と、これらの配線層の間に設けられる３層目の配線層とを備える多層配線構造を有している。 - 特許庁

A base sacrifice layer 14, a first metal layer 16, a first sacrifice layer 20, a second metal layer 22, a second sacrifice layer 26 and a third metal layer 28 are sequentially laminated on a silicon substrate 12.例文帳に追加

シリコン基板１２の上に、ベース犠牲層１４，第１金属層１６、第１犠牲層２０、第２金属層２２、第２犠牲層２６、第３金属層２８を順に積層する。 - 特許庁

The fixed layer 23 includes a first layer 311, a second layer 312, a third layer 313, a non-magnetism interlayer 32 and an inner layer 33, which are arranged sequentially in order of distance near to the anti-ferromagnetic layer 22.例文帳に追加

固定層２３は、反強磁性層２２に近い順に配置された第１層３１１、第２層３１２、第３層３１３、非磁性中間層３２およびインナー層３３を含んでいる。 - 特許庁

In the reflection preventing layer 13, the third layer 133 and the fifth layer 135 are formed to be thicker than in a reflection preventing layer disclosed in conventional examples.例文帳に追加

反射防止層１３が従来例で示される反射防止層に比べて、第３層１３３及び第５層１３５が厚く形成される。 - 特許庁

A DFB laser element 45 comprises a 3-layer low reflection film that comprises a first layer of alumina, a second layer of amorphous silicon, and a third layer of alumina.例文帳に追加

ＤＦＢレーザ素子４５は、第１層の材質はアルミナ、第２層はアモルファスシリコン、第３層はアルミナからなる３層低反射膜を有する。 - 特許庁

The laminate material comprises a polyethylene terephthalate outer layer 50, an optional second layer of a nylon 52, a third layer of metallic foil 54 and a polypropylene inner layer 56.例文帳に追加

ラミネート材料は、ポリエチレンテレフタレート外層５０、随意のナイロン第二層５２、金属ホイル第三層５４、及びポリプロピレン内層５６を含む。 - 特許庁

The third terminal communicates with the first plane-like metal layer 110.例文帳に追加

第３端子は第１平面状金属層１１０に連絡している。 - 特許庁

A partial region in the surface of the third layer is covered with a mask pattern.例文帳に追加

第３の層の表面のうち一部の領域をマスクパターンで覆う。 - 特許庁

An electrode layer 58 is covered with a third insulating film 60 such that the electrode layer 58 is fixed by the third insulating film 60.例文帳に追加

電極層５８を第３絶縁膜６０にて覆うようにすることで、第３絶縁膜６０にて電極層５８が固定されるようにする。 - 特許庁

The third metal layer may be wired in the second metal wiring region.例文帳に追加

第２のメタル配線領域には第３メタル層が配線可能である。 - 特許庁

The electron barrier layer 16 is made from a third gallium nitride-based semiconductor.例文帳に追加

電子障壁層１６は、第３の窒化ガリウム系半導体からなる。 - 特許庁

Thus, unevenness of the third conductive layer can be reduced.例文帳に追加

このため、第３の導電層の凹凸を低減することが可能である。 - 特許庁

This can reduce the unevenness of the third conductive layer.例文帳に追加

このため、第３の導電層の凹凸を低減することが可能である。 - 特許庁

In the insulation film I3, a third layer wiring W3 is formed.例文帳に追加

絶縁膜Ｉ３内には、第３層配線Ｗ３が形成されている。 - 特許庁

The third layer consisting of the third semiconductor material having etching resistance different from the second semiconductor material is grown on the second layer.例文帳に追加

第２の層の上に、第２の半導体材料とはエッチング耐性の異なる第３の半導体材料からなる第３の層を成長させる。 - 特許庁

The third electrode is formed extending to the second semiconductor layer from the upper surface of the third semiconductor layer between the adjacent first insulating layers.例文帳に追加

第３の電極は、隣接する第１の絶縁層間の第３の半導体層上面から第２の半導体層にかけて形成される。 - 特許庁

The Co content in the third magnetic layer 6 is made 15-17 atom %.例文帳に追加

第３の磁性層６におけるＣｏの含有率を15〜17atom％とする。 - 特許庁

The antireflection layer 12A is formed by alternately stacking the first layer which is the low refractive index layer and the second layer which is the high refractive index layer and a first layer 121, a second layer 122, a third layer 123, a fourth layer 124 and a fifth layer 125 are stacked in order from a side of the hard coat layer 11.例文帳に追加

反射防止層１２Ａは、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層され、ハードコート層１１の側から、第１層１２１、第２層１２２、第３層１２３、第４層１２４および第５層１２５が順に積層されている。 - 特許庁

The method also includes a process for coupling a third insulating layer to the first insulating layer, which is a process wherein the third insulating layer is disposed at least partially below the first insulating layer.例文帳に追加

この方法はまた、第３の絶縁層を第１の絶縁層に連結する工程であって、第３の絶縁層は、第１の絶縁層の下に少なくとも部分的に配置される工程を含む。 - 特許庁

A nitride semiconductor device 110 comprises: a first semiconductor layer 3; a second semiconductor layer 4; a third semiconductor layer 5; a fourth semiconductor layer 6; a first electrode 10; a second electrode 8; and a third electrode 9.例文帳に追加

窒化物半導体装置１１０は、第１半導体層３、第２半導体層４、第３半導体層５、第４半導体層６、第１電極１０、第２電極８及び第３電極９を備える。 - 特許庁

Then, a third resist pattern is formed by exposure from the back with the first conductive layer and the metal layer of the second conductive layer as a mask, a third insulating layer is etched, and protective insulating layers 123a-123d are formed.例文帳に追加

その後、第１の導電層と第２の導電層の金属層とをマスクとした裏面からの露光により、第３のレジストパターンを形成し、第３の絶縁層をエッチングし、保護絶縁層を形成する。 - 特許庁

The multilayered resin film consists of a first layer, a third layer and the second layer provided between them and at least the third layer contains at least one kind of a surfactant.例文帳に追加

下記第一層、第三層および第一層と第三層との間にある第二層からなり、少なくとも第三層に１種類以上の界面活性剤を含有してなることを特徴とする多層フィルム。 - 特許庁

First wiring 510 is located on a surface of the third insulating layer 400, and connected to the third plug 410.例文帳に追加

第１配線５１０は第３絶縁層４００の表面に位置しており、第３プラグ４１０に接続している。 - 特許庁

A third scintillator, the thickness of a third layer of which is 0.1 to 50 mm detects a gamma ray because the gamma ray has high penetrability.例文帳に追加

ガンマ線は透過力が高いので３層目の厚さ０．１〜５０ｍｍの第３のシンチレータで検出する。 - 特許庁

Further, the second layer 18, and the first layer 16 and third layer 20 forming the metallic layer 14 together with the second layer 18 are made of the steel the same as that of the base metal 12.例文帳に追加

なお、この第２層１８と、該第２層１８とともに金属層１４を形成する第１層１６及び第３層２０とは、母材１２と同一の鋼材からなる。 - 特許庁

Aperture parts of a third layer and a fourth layer in the lower layer side of a second layer provided with a grounded metal pattern 4 are made larger than an aperture part formed in the second layer.例文帳に追加

接地金属パタン４の設けられた第２層から下層側の第３層、及び第４層の開口部の大きさを第２層に形成された開口部よりも大きくする。 - 特許庁

Drawing data of one of the first layer 31, the second layer 32, and the layer areas 33a-33d of the third layer, and the fourth layer 34 are overlapped and are displayed on a display monitor.例文帳に追加

第１レイヤ３１、第２レイヤ３２、第３レイヤのレイヤ領域３３ａ〜３３ｄのいずれか一つおよび第４レイヤ３４の描画データを重ねて表示モニタに表示する。 - 特許庁

The memory circuit 100 includes a first conductive layer, a second conductive layer coupled to the first conductive layer, and a third conductive layer coupled to the second conductive layer.例文帳に追加

メモリ回路１００は、第一導電層、第一導電層に結合される第二導電層、及び、第二導電層に結合される第三導電層を備える。 - 特許庁

Any sand that falls on the upper surface of a third layer 7 passes through that layer and also through the second layer 3 to be retained between the first layer 2 and second layer 3.例文帳に追加

第３層の上部表面上に落ちるいかなる砂もその層を通過しそして第２層３も通過して第１層２と第２層３との間に保持される。 - 特許庁

The third layer 10c, the fifth layer 10e, and the seventh layer 10g form a coupling part 31 for magnetically coupling the lower magnetic pole layer 10 to the upper magnetic pole layer 27.例文帳に追加

第３の層１０ｃ、第５の層１０ｅおよび第７の層１０ｇは、下部磁極層１０と上部磁極層２７とを磁気的に連結する連結部３１を構成する。 - 特許庁

A reflection layer 25, a p-type first layer 24, an n-type second layer 23, a p-type third layer 22 and an n-type fourth layer 21 are successively formed on a p-type substrate 51.例文帳に追加

ｐ型基板５１上に、反射層２５、ｐ型の第１層２４、ｎ型の第２層２３、ｐ型の第３層２２、ｎ型の第４層２１が順次形成されている。 - 特許庁

The semiconductor light emitting element 1 includes a first semiconductor layer 3, an active layer 5, a second semiconductor layer 7, a third semiconductor layer 9, and a current blocking semiconductor layer 11.例文帳に追加

半導体発光素子１は、第１の半導体層３と、活性層５と、第２の半導体層７、第３の半導体層９と、電流ブロック半導体層１１とを備える。 - 特許庁

The external electrode 30 has a first electrode layer 40, a second electrode layer 42, a conductive resin layer 44, a third electrode layer 46, and a fourth electrode layer 48.例文帳に追加

外部電極３０は、第１の電極層４０と第２の電極層４２と導電性樹脂層４４と第３の電極層４６と第４の電極層４８とを有する。 - 特許庁

Further, the second layer 18, and the first layer 16 and the third layer 20 forming the metallic layer 14 together with the second layer 18 are made of the steel the same as that of the base metal 12.例文帳に追加

なお、この第２層１８と、該第２層１８とともに金属層１４を形成する第１層１６及び第３層２０とは、母材１２と同一の鋼材からなる。 - 特許庁

A first conductivity third semiconductor layer 8a is formed on the second semiconductor layer 7 and, in the third opening 5c, a first conductivity fourth semiconductor layer 9 is formed on the exposed surface of the first semiconductor layer 3 in contact with the third semiconductor layer 8a.例文帳に追加

第２半導体層７上に第１導電型の第３半導体層８ａを形成すると共に、第３開口５ｃの内部において、第１半導体層３の露出面に第１導電型の第４半導体層９を第３半導体層８ａに接触させて形成する。 - 特許庁

A high concentration impurity region is formed all over or partially in the Si 101 surface of a third layer, an oxide film SiO_2 102 of a second layer is formed on the whole surface of the third layer, which is joined to Si substrate of a first layer, and Si of the third layer is mirror-polished to obtain an SOI wafer.例文帳に追加

第３層のＳｉ１０１表面に全面あるいは部分的に高濃度不純物領域を形成し、第３層の全面に第２層の酸化膜ＳｉＯ_2１０２を形成し、これと第１層のＳｉ基板とを接合し、第３層のＳｉを鏡面研磨することでＳＯＩウエハを得る。 - 特許庁

The third magnetic layer is made to vertical magnetic film by forming multilayer films including the first, the second and the third magnetic layer in this order to lower curie temperature TC2 of the second magnetic layer than curie temperature TC1 of the first magnetic layer and curie temperature of TC3 of the third magnetic layer.例文帳に追加

第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層をこの順に含む多層膜を形成し、第２磁性層のキュリー温度Ｔ_C2を第１磁性層のキュリー温度Ｔ_C1および第３磁性層のキュリー温度Ｔ_C3よりも低くして第３磁性層を垂直磁化膜とする。 - 特許庁

The third layer 4 is separated, the first layer 2 is separated followed thereto, and the second layer is attached to the liquid crystal display panel or the like, when mounted.例文帳に追加

実装の際には、第３層４、続いて第１層２を剥離して、第２層を液晶表示パネル等に装着する。 - 特許庁

The core 4 has in the thickness direction thereof a first absorption layer 21, a second absorption layer 23, and a third absorption layer 22 in sequence.例文帳に追加

コア４には、その厚さ方向に第１吸収層２１、第２吸収層２３、第３吸収層２２が順に形成される。 - 特許庁

Furthermore, the width of the second conductive layer is made narrower than that of the first conductive layer and that of the third conductive layer.例文帳に追加

さらに、第２の導電層の幅は、第１の導電層及び第３の導電層の幅よりも狭いことを特徴とする。 - 特許庁

The main substrate 1 has a laminated structure constituted by laminating a first main substrate layer 1a, a second main substrate layer 1b, and a third main substrate layer 1c.例文帳に追加

主基板１は第１主基板層１ａ、第２主基板層１ｂ、第３主基板層１ｃの積層構造をもつ。 - 特許庁

The assignment of a second layer is given priority over a first layer, and the assignment of a third layer is given priority over the first and second layers.例文帳に追加

第１レイヤより第２レイヤの割り当てを優先させ、第１および第２レイヤより第３レイヤの割り当てを優先させる。 - 特許庁

The second optical compensation layer and the third optical compensation layer are preferably bonded with each other via an adhesive layer only.例文帳に追加

好ましくは、第２の光学補償層と第３の光学補償層とは、接着剤層のみを介して貼り合わされている。 - 特許庁