構造形成過程の英語

絶縁層表面に形成された不完全な表面シード層を持つ凹み内部に導電材料が埋込まれても、平坦化の過程における脱落を防止することができる配線の形成方法および配線構造を提供する。例文帳に追加

To provide a wiring forming method and a wiring structure capable of preventing a conductive material buried in a recess from dropping in a planarization process even if the conductive material buried in the recess having an incomplete surface seed layer formed on the surface of an insulating layer. - 特許庁

固定領域と遊離領域が形成されているシリコン構造体の製造過程で、電極の保護膜の形成範囲を規制するためにマスクを必要とせず、保護膜の除去時にエッチングされるシリコンの厚みを低減する。例文帳に追加

To reduce the thickness of silicon to be etched at protective film removal without using a mask for regulating the formation range of the protective film for an electrode, in the manufacturing step of a silicon structure wherein a fixed area and an isolated area are formed. - 特許庁

高電圧が印加される接合構造を形成する過程で格子欠陥が発生することを最小化し、ブレークダウン電圧（Ｂｒｅａｋｄｏｗｎ ｖｏｌｔａｇｅ）及び面抵抗の低い接合構造を浅く形成することが可能な半導体素子の高電圧接合領域方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of forming a high-voltage junction for a semiconductor device, capable of forming a junction structure of a high breakdown voltage and low surface resistance in a shallow position by minimizing the occurrence of lattice defects in a process of forming a junction to which a high voltage is applied. - 特許庁

トレンチを用いた金属構造物の製造工程は、トレンチを形成するために半導体基板の上部から下方向にパターニング過程を経て希望する深さおよび幅に食刻を行う。例文帳に追加

A process for manufacturing the metal structure using the trenches carries out the etching of a semiconductor substrate in a desired depth and width through patterning from the top of the semiconductor substrate in the lower direction to form trenches. - 特許庁

遠心ファンが、外部の周囲空気をプレナム式冷却区画内に引き入れ、その過程でコンパートメントの構造により空気から大きな飛散物を除去して清浄な空気を形成する。例文帳に追加

A centrifugal fan pulls external surrounding air in the plenum type cooling division, and forms clean air by removing a large scattering object from air by a compartment structure in its process. - 特許庁

そして微細ひび割れ構造体として適用している吸水性セメント硬化体１は、セメントが硬化する過程で形成される微細ひび割れｃｒを有してなることを特徴とする。例文帳に追加

The water absorptive cement hardened body 1 applied as the fine crack structure is characterized by having the fine crack (cr) formed in a process of hardening cement. - 特許庁

多層構造を構成する半導体素子の製造過程において、計測を行ないたい製造途中の半導体素子の表面に、厚さが一様で計測光を透過させない薄膜を形成する。例文帳に追加

In a method of manufacturing a semiconductor element composing a multilayer structure, a thin film with uniform thickness which does not transmit measuring light is formed on a surface of a semiconductor element which is desired to be measured in the middle of manufacturing. - 特許庁

角倍率が２００倍以上のレンズの表面に直接に唾液等の検視物を付着させて乾燥する過程で、結晶構造が形成されるので、その、文様の違いで排卵日を判定する。例文帳に追加

A crystal structure is formed in a process of directly sticking an inspection object such as saliva to the surface of the lens with an angular magnification of 200 or more and drying them, so that the ovulation date is determined based on difference in pattern. - 特許庁