過酸化水素電極を有する基体６の上に、過酸化水素選択透過膜２、キトサン膜３、酵素膜１をこの順に形成するようにした。例文帳に追加

A hydrogen peroxide permselective membrane 2, a chitosan membrane 3, and the enzyme membrane 1 are formed in this order on a substrate 6 having a hydrogen peroxide electrode. - 特許庁

これを行うには、クエン酸・過酸化水素溶液に基板を浸漬させる。例文帳に追加

To conduct this method, the substrate is dipped in citric acid or a hydrogen peroxide solution. - 特許庁

ガラス基板の表面に硫酸及び過酸化水素水を作用させる。例文帳に追加

Sulfuric acid and a hydrogen peroxide solution are allowed to act on the surface of a glass substrate. - 特許庁

次いで、計測された溶存オゾン濃度に基づいて、フィードバック制御装置２４１により過酸化水素の注入量を決定し、過酸化水素注入装置２５１により過酸化水素注入管２６１を介して、被処理水に過酸化水素を注入する。例文帳に追加

Then, on the basis of the measured concentration of the dissolved ozone, a feedback controller 241 determines the amount of hydrogen peroxide to be injected, which is injected into the water to be treated by a hydrogen peroxide injection device 251 via a hydrogen peroxide injection pipe 261. - 特許庁

雰囲気中の過酸化水素に対する試験サンプルの露呈量を測定する方法は、基質を雰囲気中に入れ、基質を過酸化水素と接触させ、過酸化水素を染料中間体と反応させて雰囲気中の過酸化水素の総和露呈量を示す発色団を生成し、そして発色団を雰囲気中の過酸化水素の総和露呈量と相関させることを含んでなる。例文帳に追加

This method for determining exposure of a test sample to hydrogen peroxide in an atmosphere includes placing a substrate into the atmosphere, contacting the substrate with the hydrogen peroxide, reacting the hydrogen peroxide with a dye intermediate to produce a chromosphore indicative of the integrated exposure of hydrogen peroxide in the atmosphere; and correlating the chromophore to the integrated exposure of hydrogen peroxide in the atmosphere. - 特許庁

エステル置換基を有する多糖類誘導体を主成分とする過酸化水素選択透過膜と過酸化水素電極を含む基体との間に膜を設け、過酸化水素選択透過膜を過酸化水素電極から離すことで、連続通電による過酸化水素選択透過膜への電圧印加の影響を防ぎ、連続通電使用に耐える長寿命のバイオセンサを実現する。例文帳に追加

A membrane is provided between the hydrogen peroxide permselective membrane comprising a polysaccharide derivative having an ester substituent as a main component and the hydrogen peroxide electrode, the hydrogen peroxide permselective membrane is thereby separated from the hydrogen peroxide electrode to prevent an influence of voltage impression to the hydrogen peroxide permselective membrane by the continuous electrification, and the biosensor of the long life is realized to endure the usage under the continuous electrification. - 特許庁

酸化ケイ素系不純物を含む過酸化水素水に、凝集化剤を添加し、過酸化水素水に含まれる固形分不純物を精密フィルターで濾過したのち、得られた過酸化水素水を、強酸性カチオン交換繊維および／または弱塩基性アニオン交換繊維と接触させることにより、過酸化水素水に含まれる酸化ケイ素系不純物を除去することを特徴とする精製過酸化水素水の製造方法。例文帳に追加

Or, after a flocculant is added to the aqueous solution of hydrogen peroxide containing siliceous impurities and solid impurities are filtered by a fine filter, the above process is applied to the obtained filtrate. - 特許庁

過酸化水素計測用電極およびそれを用いたオキシダーゼ基質計測用装置例文帳に追加

ELECTRODE FOR MEASURING HYDROGEN PEROXIDE AND APPARATUS FOR MEASURING OXIDASE SUBSTRATE USING THE SAME - 特許庁

塩基性過酸化水素溶液の組成を最適値に維持することで、高い反応効率を維持できる。例文帳に追加

The composition of the basic hydrogen peroxide solution is maintained at an optimum value, so as to maintain high reaction efficiency. - 特許庁

過酸化水素／硫酸系エッチング液による銅張回路基板のエッチング方法例文帳に追加

ETCHING METHOD FOR COPPER-CLAD CIRCUIT BOARD WITH HYDROGEN PEROXIDE/SULFURIC ACID BASED ETCHING LIQUID - 特許庁

強塩基性陰イオン交換樹脂のアルカリ性により過酸化水素の分解を行う。例文帳に追加

Hydrogen peroxide is decomposed by alkalescence of the strongly basic anion-exchange resin. - 特許庁

その後、基板１は、３３％の過酸化水素水３に、６０秒間、浸漬される（工程（ｂ）参照）。例文帳に追加

Then, the substrate 1 is immersed in 33% hydrogen peroxide water 3 for 60 seconds (refer to a process (b)). - 特許庁

このとき、半導体基板の裏面に、塩酸と過酸化水素水とをそれぞれ所定時間吐出させる。例文帳に追加

In doing so, hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution are discharged onto a backside of a semiconductor substrate, respectively, for a predetermined time. - 特許庁

基材をオゾン水又は過酸化水素水で洗浄する工程を含む、有機薄膜の製造方法例文帳に追加

ORGANIC THIN FILM FORMING METHOD INCLUDING STEP OF WASHING BASE MATERIAL WITH OZONIZED WATER OR OXYGENATED WATER - 特許庁

酸化ケイ素系不純物を含む過酸化水素水を、強酸性カチオン交換繊維および／または弱塩基性アニオン交換繊維と接触させることにより、過酸化水素水に含まれる酸化ケイ素系不純物を除去することを特徴とする精製過酸化水素水の製造方法。例文帳に追加

The aqueous solution of hydrogen peroxide containing siliceous impurities is contacted to strongly acidic cation-exchange fiber and/or weakly basic anion-exchange fiber to remove siliceous impurities. - 特許庁

さらに、除染制御装置６０を、過酸化水素ガス発生装置２を駆動して過酸化水素ガスを除染室３内に投入しつつ、超音波の音速を測定し、測定した音速に基づいて、過酸化水素ガスを所定量追加投入する又は過酸化水素ガスの追加投入を中止する制御内容を具備するものとした。例文帳に追加

A decontamination controller 60 is designed to measure the ultrasound velocity with activating a hydrogen peroxide gas generator 2 to charge the hydrogen peroxide gas in the decontamination chamber 3, and determine whether it should additionally charge the predetermined amount of the hydrogen peroxide gas or not based on the measured ultrasound velocity. - 特許庁

過酸化水素を含むＳＣ−１溶液中の過酸化水素濃度を異なるタイミングで複数回測定することにより、当該ＳＣ−１溶液に含まれる前記過酸化水素の単位時間当たりの減少量から算出される当該ＳＣ−１溶液に含まれる過酸化水素の分解速度の値に基づいて、前記ＳＣ−１溶液中の疲労度を評価する。例文帳に追加

The fatigue degree in an SC-1 solution containing hydrogen peroxide is evaluated on the basis of the value of the decomposition speed of hydrogen peroxide contained in the SC-1 solution calculated from the reduction quantity per a unit time of hydrogen peroxide contained in the SC-1 solution by measuring the concentration of hydrogen peroxide in the SC-1 solution containing hydrogen peroxide a plurality of times in different timings. - 特許庁

過酸化水素および無機酸からなるエッチング液に過酸化水素の安定剤として、イミダゾール環にアリール基またはアラルキル基が置換しているイミダゾール化合物を用いる。例文帳に追加

As an etchant composed of hydrogen peroxide and inorganic acid, as a stabilizer for hydrogen peroxide, an imidazole compound in which an aryl group or an aralkyl group is substituted for an imidazole ring is used. - 特許庁

処理液に含まれる過酸化水素及びアンモニアは、過酸化水素水（試薬特級）及びアンモニア水（試薬特級）を基準として、１倍〜２００倍に希釈されている。例文帳に追加

The hydrogen peroxide and the ammonia contained in the processing liquid are diluted by 1-200 times with respect to aqueous hydrogen peroxide (a special grade reagent) and aqueous ammonia (a special grade reagent). - 特許庁

オレフィン類と過酸化水素を反応させて二塩基カルボン酸を製造する方法において、リンタングステン酸の存在下、２５．０〜３２．０重量％の過酸化水素を使用して該反応を行う。例文帳に追加

In a method for producing a dibasic carboxylic acid by reacting olefins with hydrogen peroxide, the reaction is carried out by using 25.0-32.0 wt.% hydrogen peroxide in the presence of phosphotungstic acid. - 特許庁

基板処理装置１は、硫酸１０３を貯留する硫酸槽１０２と、過酸化水素水１４３を貯留する過酸化水素水槽１４２とを備える。例文帳に追加

This substrate processing device 1 is provided with a sulfuric acid tank 102 for storing sulfuric acid 103 therein, and a hydrogen peroxide water solution tank 142 for storing a hydrogen peroxide water solution 143 therein. - 特許庁

多量の過酸化水素を配合したもとで優れた毛髪明度向上効果が得られ、過酸化水素やアルカリ剤の過剰配合に基づく不具合を伴わない酸化剤組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an oxidant composition obtaining an excellent hair clarity-improving effect even on blending a large amount of hydrogen peroxide, and without accompanying inconvenience based on the excessive blending of the hydrogen peroxide or an alkali agent. - 特許庁

液相にて本発明のTS-1触媒の存在下で種々の有機基質を過酸化水素又は過酸化水素を生成しうるような化合物を反応させて行うと、酸化物への高い転化率を与える。例文帳に追加

At the time when various organic matrixes are brought into reaction with hydrogen peroxide or a compound so as to produce hydrogen peroxide in a liquid phase in the presence of the TS-1 catalyst, a high converting ratio to an oxide can be given. - 特許庁

基材フィルム１の片面に、耐水耐油剤を含む過酸化水素保護膜２を設け、他の面にバリア性薄膜層３を設けたことを特徴とする過酸化水素バリア性フィルムを提供する。例文帳に追加

In the hydrogen peroxide-barrier film, a hydrogen peroxide protection film 2 containing a water and oil proofing agent is formed on one side of a substrate film 1 and a barrier-membrane layer 3 is formed on the other side. - 特許庁

過酸化水素濃度を低くした場合には、過酸化水素の分解による気泡の発生を抑制できるので、微細組織構造を有する基材の表面処理に特に有効である。例文帳に追加

If the concentration of hydrogen peroxide is lowered, bubble generation caused by decomposition of hydrogen peroxide is suppressed, which is very effective for the surface treatment of the base material having a microstructure. - 特許庁

過酸化水素水の補充動作Ｂ１を基板の洗浄処理Ｃ１の直前に行うので、過酸化水素水の自然劣化による影響を最小限にとどめることができる。例文帳に追加

As a supplement operation B1 of the hydrogen peroxide solution is conducted immediately before the cleaning process C1 of the substrate, it is possible to restrict influences due to a natural deterioration of the hydrogen peroxide solution to be minimum. - 特許庁

滅菌検証運転後の通常運転では、調節手段（50b）が、記憶手段（50a）が記憶した過酸化水素蒸気の供給量の時系列変化に基づいて処理室（2）への過酸化水素蒸気の供給量を調節する。例文帳に追加

During the normal operation after the sterilization examining operation, an adjusting means (50b) adjusts the amount of the hydrogen peroxide vapor supplied to the treatment room (2) from the time series variations of the supplied amount of the hydrogen peroxide vapor stored in the storage means (50a). - 特許庁

蒸留あるいは中和処理なしに、酸または塩基と過酸化水素とを含む廃液に含まれる過酸化水素を除去する、当該廃液の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a treatment method for waste liquid which removes hydrogen peroxide contained in waste liquid containing acids or bases and hydrogen peroxide without distillation or neutralization treatment. - 特許庁

フェノール類と過酸化水素を反応させて芳香族ジヒドロキシ化合物を製造する際、過酸化水素基準のハイドロキノン類及びカテコール類等の芳香族ジヒドロキシ化合物の過酸化水素基準における総選択率を高くすることができる芳香族ジヒドロキシ化合物の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing aromatic dihydroxy compounds, comprising a phenol compound with hydrogen peroxide, by which the total selectivity of the aromatic dihydroxy compounds such as a hydroquinone compound and a catechol compound on the basis of the hydrogen peroxide can be enhanced. - 特許庁

そして、基板Ｗに過酸化水素水吐出機構２０から過酸化水素水（噴霧状）を吐出して基板Ｗの上面で過酸化水素水を薄膜化させるステップと、その後、オゾンガス供給ノズル３０と純水吐出機構５０からオゾンガスと純水（噴霧状）が同時に供給されるステップと、を繰り返す。例文帳に追加

In the apparatus, a step of discharging a hydrogen peroxide water (in a spray state) from a hydrogen peroxide discharging mechanism 20 to the substrate W and thinning the water on the upper surface of the substrate W, and a step of thereafter simultaneously supplying ozone gas and pure water (spray state) from an ozone gas supply nozzle 30 and a pure water discharge mechanism 50 are repeated. - 特許庁

有機化合物系不純物を含む過酸化水素水を、(i)シリカゲル担体表面に炭素数４〜２０のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有するシリカゲル充填剤、または(ii)グラフト変性イオン交換繊維あるいはその布状物と接触させることにより過酸化水素水に含まれる有機化合物系不純物を除去することを特徴とする精製過酸化水素水の製造方法。例文帳に追加

This method for manufacturing purified hydrogen peroxide water comprises a step to remove the organic compound-based impurities contained in the hydrogen peroxide water by being brought into contact with a silica gel filled having at least one group selected from 4-20C alkyl groups on the surface of a silica gel carrier or a graft-modified ion exchange fiber or its fabric-like material. - 特許庁

安定剤を含む工業用過酸化水素水を、膜表面に親水基が導入された逆浸透膜と、接触させて、安定剤の７０重量％以上を除去したのち、ついで、カチオンイオン交換樹脂および／またはアニオンイオン交換樹脂により、過酸化水素水に含まれる不純物を除去することを特徴とする精製過酸化水素水の製造方法。例文帳に追加

In a method for producing a purified hydrogen peroxide solution, 70 wt.% or more of the stabilizer is removed by bringing the industrial hydrogen peroxide solution including the stabilizer into contact with a reverse osmosis membrane with a hydrophilic group introduced on a membrane surface thereof, and subsequently impurities included in the hydrogen peroxide solution are removed by using a cation exchange resin and/or an anion exchange resin. - 特許庁

基板処理装置１では、過酸化水素水１４３に半導体ウエハＷを浸漬することにより半導体ウエハＷの表面に過酸化水素水の液膜を形成し、表面に過酸化水素水の液膜が形成された半導体ウエハＷを高温の硫酸１０３に浸漬することにより、混合直後の高温ＳＰＭを半導体ウエハＷに接触させる。例文帳に追加

In the substrate processing device 1, a liquid film of the hydrogen peroxide water solution is formed on a surface of a semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W in the hydrogen peroxide water solution 143, and a high-temperature SPM immediately after mixing is brought into contact with the semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W with the liquid film of the hydrogen peroxide solution formed on the surface in high-temperature sulfuric acid 103. - 特許庁

有機不純物を含む過酸化水素水溶液と、イオン交換容量０．６〜１．６ｍｅｑ／ｇの三級アミン基を含有し且つ比表面積が少なくとも８００ｍ^2 ／ｇである親水性の多孔性樹脂とを接触させて、過酸化水素水溶液の有機不純物を除去することを特徴とする精製過酸化水素水溶液の製造方法。例文帳に追加

The method includes a step of removing organic impurities in a hydrogen peroxide aqueous solution by bringing a hydrogen peroxide aqueous solution containing organic impurities and a hydrophilic porous resin containing tertiary amine groups with an ion-exchange capacity of 0.6 to 1.6 meq/g and having specific surface areas of at least 800 m^2/g into contact with each other. - 特許庁

(i)天然及び／又は合成高分子からなる架橋性高分子組成物、(ii)基質を消費して過酸化水素を生成する酵素Ａ、及び、(iii)（a）過酸化水素を消費して架橋性高分子を架橋させる架橋形成酵素Ｂ、及び／又は(b)ペルオキシダーゼ様の活性を有する成分である過酸化水素分解剤、を含有することを特徴とするハイドロゲル用組成物。例文帳に追加

The composition for the hydrogel contains (i) a crosslinking polymer composition that consists of a natural and/or synthetic polymer, (ii) an enzyme A that consumes a substrate to generate a hydrogen peroxide, and (iii) (a) a crosslinking enzyme B that consumes the hydrogen peroxide to crosslink a crosslinkable polymer and/or (b) a hydrogen peroxide decomposition agent that is a component having peroxidase-like activity. - 特許庁

過酸化水素と、燐酸と、アミノ基含有アゾールとを含む水溶液からなる銅及び銅合金のプリント回路基板用表面処理液。例文帳に追加

The surface treatment solution of copper and a copper alloy for a printed circuit board is an aqueous solution containing hydrogen peroxide, phosphoric acid and an amino group-containing azole. - 特許庁

アンモニア過水処理以降に、硫酸過酸化水素水のミストが基板に付着することを防止できる、基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate-treating device capable of preventing mist of sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture from adhering onto a substrate after ammonia hydrogen peroxide water treatment. - 特許庁

過酸化水素および分子内に５以上のホスホン酸基を有するキレート化合物を含有する半導体基板の洗浄液。例文帳に追加

This cleaning liquid for a semiconductor wafer contains hydrogen peroxide and a chelate compound having at least five or more of a phosphonic-acid group in the molecule. - 特許庁

ガラス基板の表面改質方法は、ガラス基板を、電解処理した過酸化水素水で表面処理する工程を含む。例文帳に追加

The method for modifying the surface of the glass substrate contains a process comprising cleaning the surface with an electrolyzed hydrogen peroxide solution. - 特許庁

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate. - 特許庁

過酸化水素水を含んだ水酸化カリウム溶液２中にＳｉＣ基板８を配置し、ＳｉＣ基板８の表面に紫外光を照射する。例文帳に追加

An SiC substrate 8 is arranged in potassium hydroxide solution 2 containing hydrogen peroxide, and ultraviolet light is irradiated on the surface of the SiC substrate 8. - 特許庁

カーボンナノチューブに対して酸処理又は過酸化水素処理を施すことにより、前記カーボンナノチューブの表面にカルボキシル基を形成する。例文帳に追加

A carboxyl group is formed on the surface of a carbon nanotube by treating the nanotube with an acid or hydrogen peroxide. - 特許庁

少なくとも１つのオルトジフェノール、１つの金属塩、過酸化水素、（重）炭酸塩及び塩基性化剤を含む組成物から出発する染髪方法例文帳に追加

HAIR DYEING METHOD STARTING FROM COMPOSITION COMPRISING AT LEAST ONE ORTHO-DIPHENOL, ONE METAL SALT, HYDROGEN PEROXIDE, (BI)CARBONATE AND BASIFYING AGENT - 特許庁

シラン３５と過酸化水素３６とを基板１上で反応させて流動性を有する液相のシラノール３７を生成させる。例文帳に追加

Silane 35 and hydrogen peroxide 36 are made to react on a substrate 1 so that liquid phase silanol 37 having mobility can be generated. - 特許庁