defect textureとは 意味・読み方・使い方

An image of a weld zone 4 welded with a laser welding is picked up with an image pick up means 1 and a texture analysis is performed for the obtained image with a defect decision device 2.例文帳に追加

レーザ溶接による溶接部４の画像を撮像手段１により撮像し、不良判定装置２において、得られた画像についてテクスチャ解析を行う。 - 特許庁

The light receiving surface of the front surface of the semiconductor substrate 11 has a specific texture structure having a top portion formed in flat, and its surface area is reduced compared to a conventional general texture structure having a pointed top portion, and thus, as the amount of defect on the surface front surface of the semiconductor substrate 11 decreases, the more amount of incident lights increases.例文帳に追加

半導体基板１１の表面の受光面は、頂部が平坦に形成された特定のテクスチャ構造とされており、従来一般の頂部が尖ったテクスチャ構造に較べて表面積が減少しているため、その分、半導体基板１１の表面欠陥量が減少する。 - 特許庁

To provide an amorphous-crystalline junction thin film solar cell in which defect density is reduced in the crystalline semiconductor layer, and sufficient light confinement effect can be attained by a texture structure of protrusions and recesses.例文帳に追加

結晶質半導体層中の欠陥密度が低減され、かつ凹凸テクスチャー構造による光閉込効果が十分に得られるアモルファス−結晶質接合型薄膜太陽電池を提供する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion element capable of reducing the amount of defect on the front surface of a semiconductor substrate of a texture structure, and increasing an incident light amount as much as possible by suppressing an increase in reflection rate of an incident light.例文帳に追加

テクスチャ構造による半導体基板の表面欠陥量を減少でき、しかも、入射光の反射率の増加を抑制して入射光量を極力増大できる光電変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyolefin resin composition as a molding compound capable of efficiently producing a molded form of woody texture with no molding defect without aggravating the productivity of the finally available molded form.例文帳に追加

最終的に得られる成形体の生産性を悪化させることなく、成形不良のない木質感のある成形体を効率良く製造することができる成形用材料としてのポリオレフィン系樹脂組成物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

Since the angle between the orientation direction (M) of the material of the barrier ribs and the extension direction (F) of the barrier ribs is easily controlled, it is highly possible to optimize requirements for alignment and to obtain a uniformly oriented texture with no defect with respect to an arbitrary kind of the smectic liquid crystal.例文帳に追加

隔壁材料の配向方向（Ｍ）と隔壁の延長方向（Ｆ）との間の角度を容易に制御できることは、アライメント条件を最適化し、そして任意の種類のスメクティック液晶に関して均一に配向された欠陥のない組織を得るという高い可能性を与えるものである。 - 特許庁

To provide polishing cloth processing a base board for a recording disk with excellent productivity, by checking sticking of a titanium compound represented by titanium dioxide to a disk surface, by realizing uniform processing by restraining a scratch being a defect of the disk, in texture processing of a magnetic disk requiring highly accurate finishing.例文帳に追加

高精度の仕上げを要求される磁気ディスクのテクスチャー加工において、ディスクの欠点となるスクラッチを抑制して均一な加工を実現するとともに、ディスク表面への二酸化チタンに代表されるチタン化合物の付着を阻止することで、記録ディスク用基板を生産性よく加工できる研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth which performs texture machining to the finish of super-high precision with extremely small surface roughness of a substrate, suppresses a defect caused by micro chips from polishing and abrasive grains biting into the substrate surface, has a high cleaning effect, and minimizes scratch defects caused by the local cohesion of abrasive grains.例文帳に追加

基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。 - 特許庁