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liquid-phase epitaxyとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 液相エピタキシー


JST科学技術用語日英対訳辞書での「liquid-phase epitaxy」の意味

liquid phase epitaxy


「liquid-phase epitaxy」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 21



例文

METHOD FOR LIQUID PHASE EPITAXY例文帳に追加

液相エピタキシャル成長方法 - 特許庁

To improve difficult epitaxial growth in a desired region by a liquid phase epitaxy method.例文帳に追加

液相成長法で所望の領域にエピタキシャル成長を行うのが難しい。 - 特許庁

To securely solve a desired element component in a quantum dot by changing a gas flow sequence by a liquid drop epitaxy method using metal organic vapor phase epitaxy.例文帳に追加

有機金属気相成長法を用いた液滴エピタキシー法によるガスフローシーケンスの変更により、量子ドット中に所望の元素成分を確実に固溶させる。 - 特許庁

To inexpensively and stably produce a high-quality bulk AlN single crystal used as a substrate by an LPE (Liquid Phase Epitaxy) method of a temperature gradient system.例文帳に追加

温度勾配方式の液相LPE法により、基板として使用可能な、高品質のバルクAlN単結晶を安価に安定して製造する。 - 特許庁

The garnet single crystal is used as a substrate for forming a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal film by liquid phase epitaxy.例文帳に追加

前記ガーネット単結晶は、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜を液層エピタキシャル法で形成するための基板として用いられる。 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR LIQUID PHASE EPITAXY OF SILICON CRYSTAL AND SOLAR BATTERY MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

シリコン結晶の液相成長方法、太陽電池の製造方法及びシリコン結晶の液相成長装置 - 特許庁

例文

A Yba2Cu3O7-x film 11 (0≤x≤0.6) is formed on a substrate 10 by a liquid-phase epitaxy method as a first superconductor film.例文帳に追加

液相エピタキシ法により、基板10の上に第1の超電導体膜として、YBa_2 Cu_3 O_7-x 膜11(0≦x≦0.6)を形成する。 - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「liquid-phase epitaxy」の意味

Liquid Phase Epitaxy

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Weblio英和対訳辞書での「liquid-phase epitaxy」の意味

liquid-phase epitaxy


liquid phase epitaxy

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Weblio例文辞書での「liquid-phase epitaxy」に類似した例文

liquid phase epitaxy

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「liquid-phase epitaxy」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 21



例文

A structure allows the distance between reactive gas and a liquid material stored in the material vessel of the vapor phase epitaxy equipment to keep almost constant.例文帳に追加

気相成長装置の原料容器に収容された液体原料と反応性ガスとの距離を概ね一定に保つことが可能となる構造とする。 - 特許庁

The single crystal film is produced by combining the liquid phase epitaxy action by a single crystal substrate 5, the action caused by control of crystal growth orientation by temperature gradient of a liquid phase-solid phase interface 10 and the action caused by movement of the liquid phase-solid phase interface 10 and control of wettability of the single crystal substrate 5 and the liquid phase.例文帳に追加

単結晶基板5による液相エピタキシー作用と、液相固相界面10の温度勾配による結晶成長方位の制御による作用と、液相固相界面10の移動と、単結晶基板5と液相のぬれ性の制御による作用とを組み合わせて作製する。 - 特許庁

A manufacturing method of a group III nitride crystal comprises a step for growing a first group III nitride crystal 2 on a base substrate 1 by liquid-phase epitaxy and a step for growing a second group III nitride crystal 3 on the first group III nitride crystal 2 by vapor-phase epitaxy.例文帳に追加

液相法により、下地基板1上に第1のIII族窒化物結晶2を成長させる工程と、気相法により、第1のIII族窒化物結晶2上に第2のIII族窒化物結晶3を成長させる工程とを含むIII族窒化物結晶の製造方法。 - 特許庁

To provide an inexpensive high-quality epitaxial wafer having good crystallinity by setting the maximum value of the in-plane dislocation density of a substrate used in a liquid-phase epitaxy method within an appropriate range.例文帳に追加

液相エピタキシー法において使用する基板の面内の転位密度の最大値を適正範囲に設定することで、安価で且つ結晶性が良い高品質なエピタキシャルウェハを提供することにある。 - 特許庁

At this time, the amorphous silicon is altered into single-crystal silicon through liquid-phase epitaxy to easily form the region differing in crystal plane on the surface of the wafer for the active layer of the laminated substrate.例文帳に追加

このとき、アモルファスシリコンを単結晶シリコンに液相エピタキシーにより変質させれば、貼り合わせ基板の活性層用ウェーハの表面に、結晶面が異なる領域を簡単に形成できる。 - 特許庁

Then, a thin film 13 having a photoelectric effect, for example, comprising a material same to the substrate 11 is formed on the substrate 11 by a liquid phase epitaxy or the like.例文帳に追加

次いで、この導波路パターン12を覆うようにして、基板11上に、例えば、基板11と同じ材料からなる電気光学効果を有する薄膜13を、液相エピタキシャル法などによって形成する。 - 特許庁

To enable control of the composition gradient in the thickness direction of an epitaxial growth layer, which control is considered as a fundamental problem in a liquid phase epitaxy(LPE) and also to enable control of the melt composition, in a liquid phase epitaxial growth method and a device for performing the method.例文帳に追加

液相エピタキシャル成長方法及びそれを実施する装置に関し、LPE法に於ける基本的な問題とされているエピタキシャル成長層の厚さ方向に於ける組成勾配を制御可能とし、且つ、メルト組成を制御可能にしようとする。 - 特許庁

例文

Moreover, an uneven structure high in aspect ratio or a trench structure is buried with an epitaxial layer 5 by the selective epitaxial growth utilizing the rectilinear propagation property of the molecular beam by molecular beam epitaxy or the anisotropic growth effect by a vapor phase growth (CVD) method or a liquid phase growth (LPE) method.例文帳に追加

また、分子線エピタキシーによる分子線の直進性または、気相成長(CVD)法および液相成長(LPE)法による異方性成長効果を利用した選択エピタキシャル成長により、アスペクト比の高い凹凸構造またはトレンチ構造をエピタキシャル層5で埋め込む。 - 特許庁

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