on the blobとは 意味・読み方・使い方

After blob processing is performed on data binarized by a blob processing means 14c to count the number of pixels of each blob, it is determined by an area filter 14d whether the number of pixels of each blob exceeds a predetermined number or not.例文帳に追加

ブロブ処理手段１４ｃで２値化処理したデータに対してブロブ処理を行い各ブロブの画素数をカウントした後、面積フィルタ１４ｄで各ブロブの画素数が所定数以上であるか否かを判断する。 - 特許庁

When the discriminated result is positive, on the basis of the corresponding figure area, plural figure blob models are prepared and when the discriminated result is negative, on the basis of the corresponding figure area, a single figure blob model is prepared.例文帳に追加

判定結果が可を示すとき、該当人物領域を基に複数の人物ブロブモデルを作成し、判定結果が否を示すとき、該当人物領域を基に単数の人物ブロブモデルを作成する。 - 特許庁

The image processing system 100 further calculates a scale value, of which a change rate of the number of blob images is within a predetermined threshold value, as a unique scale value based on a relation between the number of the blob images and the scale values.例文帳に追加

そして、画像処理装置１００は、ブロブ画像の数とスケール値との関係に基づいて、ブロブ画像の数の変化の割合が所定の閾値に収まるスケール値を固有スケール値として計算する。 - 特許庁

The image processing system 100 furthermore outputs a region on a document image or a binary image of the document image corresponding to a circumscribing rectangle of whole connected components of the binary image of the document image, of which each blob of the blob images corresponding to the unique scale value includes a centroid, as an image element region in the unique scale value.例文帳に追加

画像処理装置１００は、固有スケール値に対応したブロブ画像の各ブロブに重心が含まれる文書画像の２値画像の連結成分全体の外接矩形に対応した、文書画像、または文書画像の２値画像上の領域を、前記固有スケールにおける画像要素領域として出力する。 - 特許庁

A dynamic threshold module generates, for example, continuity data and enhanced data, which are suitable for blob identification, based on the dependent minimum value and the dependent maximum value.例文帳に追加

従属最小値及び従属最大値に基づき、動的閾値モジュールが例えばブロブ識別に適した連続性データ及び強調化データを発生する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁