reagent gasとは 意味・読み方・使い方

To provide a gas-specifying device capable of specifying a gas, on the basis of color of a medium changing by the chemical reaction between the gas and a reagent.例文帳に追加

ガスと試薬との化学反応によって変化した媒体の色に基づいて、ガスを特定することが可能なガス特定装置を提供する。 - 特許庁

A method of reducing the emission of the nitrogen oxide from the combustion process using a temperature sensitive liquid reagent injected into a stream of exhaust gas from the combustion process and passing the exhaust gas and the reagent through a catalytic reactor which reduces the nitrogen oxide in the presence of the reagent is provided.例文帳に追加

燃焼プロセスからの排気ガス流内へ注入される温度感受性液体試薬を用い、前記試薬の存在下で窒素酸化物を低減する触媒リアクタに前記排気ガスおよび前記試薬を通過させて、燃焼プロセスからの窒素酸化物の排出を低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing carbonyl difluoride which is useful as a reagent for organic syntheses and as a cleaning gas and an etching gas for semi-conductor production equipment.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gas detection material for measuring a tested gas of a wide concentration range with high accuracy while keeping constant the concentration of a reaction reagent.例文帳に追加

反応試薬の濃度を一定としつつ、広い濃度範囲の被検ガスを高い精度で測定することができるガス検知材を提供すること。 - 特許庁

By this constitution, at the time of injection operation of the liquid reagent 3, the gas present in the reaction chamber 5 can be allowed to escape to the outside by the volume of the injected liquid reagent 3.例文帳に追加

これにて、液状試薬３の注入操作時に、注入された液状試薬３の容量ぶんだけ反応室５内に存する内部気体を外部に逃がすことができる。 - 特許庁

A reagent in a reagent container 137 is sucked by a syringe 151 and injected into a main passage 113 and a lightweight passage 115, and in a state of the reagent, with only it being left in a measuring passage 115, gas is sucked into the syringe 151 from a bellows 153b and injected into the main passage 113, to inject the reagent in the measuring passage 115 into a reaction container 105.例文帳に追加

シリンジ１５１で試薬容器１３７内の試薬を吸引して主流路１１３及び軽量流路１１５内へ注入し、計量流路１１５内にのみ試薬を残存させた状態で、シリンジ１５１内にベローズ１５３ｂから気体を吸引して主流路１１３内へ注入して計量流路１１５内の試薬を反応容器１０５に注入する。 - 特許庁

The provided CVD method comprises providing a basic material in a vacuum chamber, introducing a gaseous reagent containing a fluorine-providing gas, an oxygen-providing gas and at least one precursor gas selected from the group consisting of organosilanes and organosiloxanes into the vacuum chamber, and energizing the gaseous reagent in the chamber to cause a reaction of the gaseous reagent and forming a film on the basic material.例文帳に追加

提供されるＣＶＤ法は、真空チャンバーの内部に基材を提供すること、フッ素提供ガスと、酸素提供ガスと、オルガノシラン及びオルガノシロキサンから選択された少なくとも１つの前駆体ガスとを含むガス状試薬を真空チャンバーに導入すること、並びに該チャンバー中のガス状試薬にエネルギーを加えて、ガス状試薬の反応を引き起こし、基材上に膜を形成させることを含む。 - 特許庁

In this method, residue is eliminated from the interior of the semiconductor process chamber, using molecular fluorine (F2) gas as the principal precursor reagent.例文帳に追加

主たる前駆物質試薬としてのフッ素分子（Ｆ_2）ガスを用いて、半導体プロセスチャンバの内面から残留物を除去する方法である。 - 特許庁