「"Oxygen Radical"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This solvent composition contains a substance being oxidatively easily deteriorated by oxygen radical and a heat-resistant superoxide dismutase having an oxygen radical-removing ability.例文帳に追加

酸素ラジカルによる酸化的変質を受けうる物質と、酸素ラジカル除去能を有する耐熱性スーパーオキシドディスムターゼを含んでいる。 - 特許庁

To inexpensively provide C_12A_7 containing oxygen radical in a high concentration.例文帳に追加

高濃度に酸素ラジカルを含有するＣ_１２Ａ_７を安価に提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the oxygen radical-containing calcium aluminate film formed by thermally spraying oxygen radical-containing calcium aluminate powder, the content of the oxygen radical in the oxygen radical-containing calcium aluminate powder is ≥10^20 cm^-3.例文帳に追加

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法であり、好ましくは、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末の酸素ラジカル含有量が１０^２０ｃｍ^−３以上であることを特徴とする。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING OXYGEN RADICAL-CONTAINING CALCIUM ALUMINATE FILM AND LAMINATE例文帳に追加

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法と積層体 - 特許庁

OXYGEN RADICAL-CONTAINING CALCIUM ALUMINATE POWDER AND METHOD OF PREPARING THE SAME例文帳に追加

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末及びその製造方法 - 特許庁

PROCESS FOR MANUFACTURING OXYGEN RADICAL-CONTAINING CALCIUM ALUMINATE SINTERED COMPACT例文帳に追加

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート焼結体の製造方法 - 特許庁

Then, an oxygen radical is irradiated to the formed carbon nanowall.例文帳に追加

そして、形成後のカーボンナノウォールに酸素ラジカルを照射した。 - 特許庁

NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR例文帳に追加

負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置 - 特許庁

OXYGEN RADICAL-CONTAINING CALCIUM ALUMINATE SINTERED COMPACT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート焼結体及びその製造方法 - 特許庁

Preferably the solution is a biological fluid and the free radical is an active oxygen radical.例文帳に追加

好ましくは、その溶液は生体液であり、且つ、その遊離基は活性酸素ラジカルである。 - 特許庁

The oxygen radical makes it possible to oxidize the silicon of the surface of the substrate so that a silicon oxide film can be formed.例文帳に追加

酸素ラジカルにより、基板表面のシリコンを酸化させてシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

The laminate of an oxygen-radical-containing calcium aluminate film is prepared by thermally spraying an oxygen-radical-containing calcium aluminate powder over a substrate comprising a partially stabilized zirconium oxide sintered compact.例文帳に追加

部分安定化酸化ジルコニウム焼結体からなる基材上に、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の積層体。 - 特許庁

A MOS interface at a low interface order density is formed by an oxygen radical processing, and further a formation of an insulation film by a SiO deposition with lower damages is continued during an oxygen radical ambience.例文帳に追加

酸素ラジカル処理により低界面順位密度のＭＯＳ界面を形成し、更に低ダメージなＳｉＯ蒸着による絶縁膜形成を酸素ラジカル雰囲気中で連続しておこなう。 - 特許庁

In the filter for eliminating active oxygen, a filter substrate comprises a water-soluble chitosan-manganese complex as an oxygen radical remover.例文帳に追加

この発明の活性酸素除去用フイルターは、フィルター基材が酸素ラジカル除去剤として水溶性キトサンマンガン錯体を含む構成である。 - 特許庁

By irradiating the oxygen radical, a low crystalline part such as an amorphous carbon in the carbon nanowall is selectively etched.例文帳に追加

酸素ラジカルの照射により、カーボンナノウォール中のアモルファスカーボンなど結晶性の低い部分が選択的にエッチングされる。 - 特許庁

The resin coating of the capillary is changed to a gaseous substance by the oxidation reaction of the oxygen radical formed by decomposition of ozone, and removed.例文帳に追加

オゾンが分解してできる酸素ラジカルの酸化反応により、キャピラリの樹脂被覆をガス状物質に変えて除去する。 - 特許庁

To reproducibly and inexpensively provide a calcium aluminate sintered compact having a complex shape and containing a high concentration of oxygen radical.例文帳に追加

高濃度の酸素ラジカルを含有した、複雑形状のカルシウムアルミネート焼結体を再現性良く、安価に提供する。 - 特許庁

The oxygen gas contained in the circulating gas is activated by the plasma in the ASWP unit 2 to generate oxygen radical.例文帳に追加

この循環するガスに含まれる酸素ガスはＡＳＷＰユニット２のプラズマにより活性化され、酸素ラジカルが生成される。 - 特許庁

This surface layer 2 of the resin substrate 1 is removed by treating the surface layer 2 using at least one selected from among ozone, an oxygen ion and an oxygen radical.例文帳に追加

樹脂基板１の表面層２をオゾン、酸素イオン、酸素ラジカルの少なくとも一つで処理することによって除去する。 - 特許庁

Since the required quantity of oxygen radical can be produced in the vicinity of the substrate 70, an organic substance can be efficiently removed from the substrate surface 70a.例文帳に追加

基板７０近傍で必要量の酸素ラジカルを生成できることから、効率よく基板表面７０ａから有機物除去することができる。 - 特許庁

Next, an oxidation step of oxidizing silicofluoride which is deposited inside the apparatus is performed by supplying oxygen radical in the reaction tube 2.例文帳に追加

次に、反応管２に酸素ラジカルを供給して装置内部に付着した珪フッ化物を酸化する酸化工程を実行する。 - 特許庁

Subsequently, the metal film 12 is oxidized with an oxygen radical 13 to form a metal oxide film 2 which acts as a gate insulation film.例文帳に追加

続いて、酸素ラジカル１３を用いて金属膜１２を酸化させることにより、ゲート絶縁膜となる金属酸化膜２を形成する。 - 特許庁

SURFACTANT HAVING ACTIVE OXYGEN RADICAL SCAVENGING ABILITY AND FOOD, BEVERAGE, COSMETIC, DETERGENT AND EMULSIFYING AGENT USING THE SAME例文帳に追加

活性酸素ラジカル消去能を持つ界面活性剤およびそれを用いた食品、飲料、化粧料、洗浄剤、乳化剤 - 特許庁

The absorbed Si is then oxidized by supplying an oxygen radical in the reactive tube 2 to form a silicon dioxide film on the semiconductor wafer W.例文帳に追加

続いて、反応管２内に酸素ラジカルを供給して、吸着したＳｉを酸化させ、半導体ウエハＷにシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

Next, an oxygen radical is supplied into the reaction tube 2 to oxidize the adsorbed DCS and form a silicon oxide film on the semiconductor wafer W thereafter.例文帳に追加

次に、反応管２内に酸素ラジカルを供給して、吸着したＤＣＳを酸化させ、半導体ウエハＷにシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for removing an oxidative stress substance such as an oxygen radical species from a liquid (e.g., water) reliably when the liquid is used by a user.例文帳に追加

使用者が使用するとき、液体（例えば、水）から確実に酸素系ラジカル種等の酸化ストレス物質を除去するための方法を提供する。 - 特許庁

The respiration rate of the eukaryotic microorganism is measured by detecting or determining hydroperoxide or oxygen radical by chemiluminescence preferably in the presence of a catalyst, which hydroperoxide or oxygen radical is generated when the eukaryotic microorganisms metabolize organic materials in the presence of oxide type quinones dissolved in dimethylsulfoxide.例文帳に追加

ジメチルスルホキシドに溶解した酸化型のキノン類の存在下で、真核微生物が有機物質を代謝する際に生成する過酸化水素または酸素ラジカルを、好ましくは触媒の存在下で化学発光により検出または定量することにより、真核微生物の呼吸量を測定する。 - 特許庁

A high dielectric film such as a hafnium oxide film is formed on a semiconductor substrate (step S1); then ozone treatment or oxygen radical treatment is performed to the high dielectric film, in which the film is exposed to an ozone atmosphere or an oxygen radical atmosphere at a low temperature of about 100 to 250°C (step S2).例文帳に追加

半導体基板に、酸化ハフニウム膜などの高誘電体膜を形成した後（ステップＳ１）、この高誘電体膜に対し、温度１００℃から２５０℃程度の低温下でオゾン雰囲気または酸素ラジカル雰囲気に晒すオゾン処理または酸素ラジカル処理を行う（ステップＳ２）。 - 特許庁

A MOS interface of low interface state density is formed through an oxygen radical treatment, and an insulating film is consecutively formed through the deposition of SiO in an oxygen radical atmosphere, causing less damage in a series of processes, and the above processes are applied to a substrate of large area by the use of a substrate scanning-type device.例文帳に追加

酸素ラジカル処理により低界面順位密度のＭＯＳ界面を形成し、更に低ダメージなＳｉＯ蒸着による絶縁膜形成を酸素ラジカル雰囲気中で連続しておこなう一連のプロセスを、基板走査型の装置により大面積基板に適用可能ならしめる。 - 特許庁

To purify an ITO surface with oxygen radical, to form, as a protective film, a silicon nitride film and a silicon oxide film by a remote plasma CVD method, and to form an MgO film, acting as a protecting film, by oxidizing metal Mg with oxygen radical.例文帳に追加

ＩＴＯ表面を酸素ラジカルで清浄化すること、および保護膜としてシリコン窒化膜およびシリコン酸化膜をリモートプラズマＣＶＤ法で形成すること、および金属Ｍｇを酸素ラジカルで酸化し、保護膜としてのＭｇＯ膜を形成することを目的とする。 - 特許庁

The laminate of the oxygen-radical-containing calcium aluminate film is prepared by thermally spraying an oxygen-radical-containing calcium aluminate powder over a substrate comprising a sintered compact of either of zirconium oxide stabilized with scandium oxide or cerium oxide with added samarium oxide or gadolinium oxide.例文帳に追加

酸化スカンジウムで安定化した酸化ジルコニウム又は酸化サマリウム若しくは酸化ガドリニウムを添加した酸化セリウムの何れかの焼結体からなる基材上に、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の積層体。 - 特許庁

An apparatus and method for detecting directly the antioxidant activity of both lipophilic and lipophobic antioxidants include those using an oxygen radical sensitive sensor in fluid communication with a sample in a solvent/water/surfactant mixture; wherein the oxygen radical sensitive sensor concurrently detects both lipophilic and lipophobic antioxidants in the solvent/water/surfactant mixture.例文帳に追加

親油性抗酸化物質および疎油性抗酸化物質双方の抗酸化活性を直接検出する装置および方法であって、溶媒／水／界面活性剤混合液中の試料と液体流通自在な酸素ラジカル高感度センサを使用する装置および方法を含み、前記酸素ラジカル高感度センサは、前記溶媒／水／界面活性剤混合液中の親油性抗酸化物質および疎油性抗酸化物質双方を同時に検出する。 - 特許庁

In the surface reforming process, oxygen plasma is generated in the vacuum chamber 101 of this plasma treatment device 100 by using a gas containing oxygen, an oxygen ion irradiating process applied to an oxygen ion (o^-) to the pixel electrode 4, and an oxygen radical irradiating process to irradiate an oxygen radical (o^*) to the pixel electrode 4 are performed.例文帳に追加

表面改質工程では、酸素を含むガスを用いてプラズマ処理装置１００の真空チャンバ１０１内に酸素プラズマを発生させ、画素電極４に酸素イオン（Ｏ^-）を照射する酸素イオン照射工程と、画素電極４に酸素ラジカル（Ｏ^*）を照射する酸素ラジカル照射工程とを行う。 - 特許庁

The composition for removing the active oxygen radical comprises at least one kind of the active oxygen radical scavenger selected from γ-keratose, eucalyptus essence and rosemary essence, and the specific α-material, and is suitably usable as the pretreatment agent/intermediate treatment agent/posttreatment agent for the hair dyeing and the pretreatment agent/intermediate treatment agent/posttreatment agent for the permanent waving.例文帳に追加

活性酸素ラジカル除去用組成物は、γ−ケラトース、ユーカリエキス、ローズマリーエキスからなる群より選ばれる少なくとも１種の活性酸素ラジカルスカベンジャーと、特定のα物質とを含んでなり、毛髪用活性酸素ラジカル除去剤、染毛前処理剤・中間処理剤・後処理剤、パーマネントウェーブ前処理剤・中間処理剤・後処理剤として、好適に使用できる。 - 特許庁

To provide a cathode material restrained from generation of oxygen-radical on a surface of lithium-nickel oxide, elution of manganese from lithium-manganese oxide, and dissociation of primary particles from each other.例文帳に追加

リチウムニッケル酸化物表面での酸素ラジカルの発生、リチウムマンガン酸化物からのＭｎの溶出、および一次粒子同士の解離が抑制された正極材料を提供する - 特許庁

A required quantity of oxygen radical can be produced in the vicinity of a substrate 70 by a nitrogen radical produced by a nitrogen gas of a capacity ratio larger than that of nitrogen in the atmosphere.例文帳に追加

大気に占める窒素の容量比率より大きい容量比率の窒素ガスで生成される窒素ラジカルによって、基板７０近傍で必要量の酸素ラジカルを生成することができる。 - 特許庁

To provide oxygen radical-containing calcium aluminate powder having a large specific surface area and suitably used as an oxidation catalyst, an antibacterial agent or the like with ease and high reproducibility.例文帳に追加

酸化触媒、抗菌剤などとして好適に用いられる高比表面積値の酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を容易に再現性高く提供する。 - 特許庁

The plastic lens is manufactured by forming the antireflection film by a vapor deposition method after performing oxygen radical treatment to the surface of the base material of the plastic lens which has the hardening coating film containing the titanium oxide particulates.例文帳に追加

酸化チタン微粒子を含む硬化被膜を有するプラスチックレンズ基材表面に酸素ラジカル処理を施したのち、蒸着法により反射防止膜を形成させてプラスチックレンズを製造する。 - 特許庁

A tantalum oxide film 13B composed of excessive oxygen is formed by processing heat treatment to the tantalum oxide film 13A in an oxygen radical.例文帳に追加

次に、タンタル酸化膜１３Ａに対して、酸素ラジカル中で熱処理を行なうことにより、酸素の組成が過剰なタンタル酸化膜１３Ｂを形成する。 - 特許庁

After the deposition of the amorphous hafnium oxide by ALD method, the amorphous hafnium oxide is re-oxidized by an oxygen radical generated by low temperature remote plasma, etc., to obtain an amorphous hafnium oxide film having little dopant.例文帳に追加

ＡＬＤ法により堆積させた後、低温リモートプラズマなどで生成される酸素ラジカルにより再酸化させることにより、非晶質で、不純物の少ない酸化ハフニウム膜を実現することが可能である。 - 特許庁

The corona discharge is generated in the discharge part 6 by supplying voltage to an electrode 61, and an oxygen radical having the high oxidation function is generated thereby.例文帳に追加

放電部６内では電極６１に電圧が供給されることでコロナ放電が生じ、それにより高い酸化機能を有する酸素ラジカルが生成される。 - 特許庁

The ozone oxide film is heats the substrate up to 200 to 500°C, radiates light to a space where the substrate is arranged, and generates oxygen radical on the substrate.例文帳に追加

オゾン酸化膜は基板を２００〜５００℃に加熱するとともに、基板が配置される空間に光を照射し、酸素ラジカルを基板上に発生させる。 - 特許庁

The solvent composition includes a substance subject to oxidative alteration by oxygen radicals and a compound having superoxide dismutase-mimetic activity including oxygen radical removing ability.例文帳に追加

酸素ラジカルによる酸化的変質を受けうる物質と、酸素ラジカル除去能を有するスーパーオキシドディスムターゼ様活性を有する化合物とを含んでいる。 - 特許庁

The resist processing apparatus and a resist processing method are constituted in such a way that processing is implemented by a first process of ashing chiefly taking oxygen ion and a second process of ashing chiefly taking oxygen radical.例文帳に追加

酸素イオンを主体としたアッシングの第一の工程と酸素ラジカルを主体としたアッシングの第二の工程によって処理を行うレジスト処理装置およびレジスト処理方法。 - 特許庁

Then, oxygen radical is supplied into the reaction tube 2 under room temperature to oxidize adsorbed Si, hereby forming a silicon oxide film on the semiconductor wafer W.例文帳に追加

続いて、室温下の反応管２内に酸素ラジカルを供給して、吸着したＳｉを酸化させ、半導体ウエハＷにシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁