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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "p-type semiconductor"に関連した英語例文

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"p-type semiconductor"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 1360



例文

The P-type semiconductor region and the N-type semiconductor regions of the PN junction (106) of the gate electrode are electrically insulated from each other.例文帳に追加

この際、ゲート電極のPN接合部(106)のP型半導体領域とN型半導体領域とが電気的に絶縁されている。 - 特許庁

An n-type semiconductor 76d is disposed on one flexible beam 10b and a p-type semiconductor 76a is disposed on the other flexible beam 10a.例文帳に追加

一方の可撓ビーム10bにn型の半導体76dを配置し、他方の可撓ビーム10aにp型の半導体76aを配置する。 - 特許庁

The N-type and P-type semiconductor devices of Peltier element have a small area on the side of cooling surface plate while a large area on the side of heating surface plate.例文帳に追加

ペルチェ素子のN型及びP型半導体素子は、冷却面板側の面積が小さく且つ発熱面板側の面積が大きい形状である。 - 特許庁

When an electric current flows between the n-type semiconductor 76d and the p-type semiconductor 76a, heat is transferred between the flat plate part 8 and a substrate 4.例文帳に追加

n型の半導体76dとp型の半導体76aの間で通電すると、平板部8と基板4の間で熱が移送される。 - 特許庁

例文

In the semiconductor multilayer structure 22, an N-type semiconductor layer 27, a light-emitting layer 28 and a P-type semiconductor layer 29 are laminated successively from the substrate 21 side.例文帳に追加

半導体積層構造22は、n型半導体層27と、発光層28と、p型半導体層29とが、基板21側から順に積層されている。 - 特許庁


例文

A PN junction is implemented at the contact portion between the P-type semiconductor film and the interconnector (N-type semiconductor).例文帳に追加

P型半導体膜とインターコネクタ(N型半導体)との接合部において、「PN接合」が実現される。 - 特許庁

An n-type drift layer 13 and a p-type base layer 15 are formed adjacent on the surface of a p-type semiconductor active layer 11.例文帳に追加

p型の半導体活性層11の表面にn型のドリフト層13とp型のベース層15とが互いに隣接するように形成される。 - 特許庁

The n-type semiconductor thin film (11) is in contact with the p-type semiconductor substrate (3) in p-n manner, thus forming a protective diode.例文帳に追加

n型半導体薄膜(11)はp型半導体基板(3)にpn接触して保護ダイオードを形成している。 - 特許庁

A first n type conductive area 2 and a second n type conductive area 3 are formed on a p type semiconductor substrate 100.例文帳に追加

P型の半導体基板100に第1N型導電領域2、第2N型導電領域3を形成する。 - 特許庁

例文

An element separation layer 2 and n+diffusion layer 5 are formed on a surface of p-type semiconductor substrate 1, and an interlayer insulation film 7 is deposited on the same.例文帳に追加

p型の半導体基板1表面に素子分離層2及びn^+拡散層5を形成し、その上に層間絶縁膜7を堆積する。 - 特許庁

例文

A base electrode 54c is electrically connected to a p^+-type semiconductor region 41 formed in the p-type well 28 via a plug 53c.例文帳に追加

p型ウエル28に形成されたp^+型半導体領域41は、プラグ53cを介してベース電極54cが電気的に接続されている。 - 特許庁

To provide a group III nitride-based semiconductor light emitting element capable of reducing the leakage of electrons, from an active layer to a p-type semiconductor region.例文帳に追加

活性層からのp型半導体領域への電子リークを低減可能なIII族窒化物系半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The p-type semiconductor region is formed with an Al_xIn_yGa_zN (x+y+z=1, x≥0, y≥0, and z≥0) layer 26.例文帳に追加

p型半導体領域は、Al_xIn_yGa_zN(x+y+z=1,x≧0,y≧0,z≧0)層26から形成されている。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion device in which film-peeling hardly occurs at an interface between a transparent electrode and a p-type semiconductor layer.例文帳に追加

透明電極/p型半導体層の界面での膜剥離が生じ難い光電変換装置を提供する。 - 特許庁

In an element region, p-type semiconductor pillar layers 13 and n-type semiconductor pillar layers 14 are alternately formed to form a pillar layer 15.例文帳に追加

素子領域には、p型半導体ピラー層13とn型半導体ピラー層14とを交互に形成してなるピラー層15が形成される。 - 特許庁

The p-type semiconductor layer 17 and the drain layer 15 are arranged in parallel with each other in a direction intersecting with a direction of an operating current.例文帳に追加

p型半導体層17とドレイン層15とは、動作電流の方向とは交差する方向に並ぶように配列される。 - 特許庁

ZnO-BASED p-TYPE SEMICONDUCTOR CRYSTAL, SEMICONDUCTOR COMPOSITE BODY OBTAINED BY USING THE SAME, LIGHT EMITTING ELEMENT OBTAINED BY USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ZnO系p型半導体結晶、それを用いた半導体複合体、それを用いた発光素子およびその製造方法 - 特許庁

On the upper surface of a sapphire substrate 1, an N-type semiconductor layer 2, an active layer 4, and a P-type semiconductor layer 5 are laminated in this order.例文帳に追加

サファイア基板1の上面には、N型半導体層2、活性層4、P型半導体層5がこの順に積層してある。 - 特許庁

A buffer layer 11, a p-type semiconductor layer 12 and a p-type contact layer 13 are laminated on one side of a substrate 10 in this order.例文帳に追加

基板10の一面側に、バッファ層11、p型半導体層12およびp型コンタクト層13がこの順に積層されている。 - 特許庁

An N-type impurity region (source/drain region) 13 is formed on a P-type semiconductor substrate 11 separated by a channel region 12.例文帳に追加

P型の半導体基板11上にチャネル領域12を隔ててN型の不純物領域(ソース・ドレイン領域)13が形成されている。 - 特許庁

An N-type semiconductor 2 and a P-type semiconductor 3 are laminated on a substrate 1 made of a compound semiconductor to form a P-N junction 4.例文帳に追加

化合物半導体から成る基板1にN形半導体2、P形半導体3を積層してPN接合部4を形成する。 - 特許庁

In an n-type extension drain region 102 formed in a p-type semiconductor substrate 110, p-type buried regions 104a and 104b are formed.例文帳に追加

P型半導体基板110の内部に形成されたN型の延長ドレイン領域102に、P型埋め込み領域104a、104bを形成する。 - 特許庁

In a trench formation process by a manufacturing method of a semiconductor device, a trench 102 is formed on a front surface of a p-type semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体装置の製造方法のトレンチ形成工程は、p型半導体基板101の表面部分にトレンチ102を形成する。 - 特許庁

A heavily doped region 22 is formed at the center between p-type semiconductor layers 4 sandwiching the n-type semiconductor layers 21, 2.例文帳に追加

このn型半導体層21,2を挟むp型半導体層4間の中央には、高濃度領域22が設けられている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, whose durability can be increased during the operation of an inductance load by setting the concentration of a P-type semiconductor region low.例文帳に追加

P型半導体領域の濃度を薄くすることによりインダクタンス負荷時の耐久性を向上する半導体装置を提供する。 - 特許庁

Here is disclosed a light-emitting diode including an n-type semiconductor layer, an active layer, a p-type semiconductor layer, and a transparent electrode layer.例文帳に追加

n型半導体層、活性層、p型半導体層、及び透明電極層を備える発光ダイオードが開示される。 - 特許庁

To provide a branched type compound usable as an organic p-type semiconductor excellent in charge transport property and stability.例文帳に追加

電荷輸送性及び安定性に優れる有機p型半導体として利用可能な分岐型化合物を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, an external connection region 2 of same conductivity type as the semiconductor substrate is provided at the end of the P type semiconductor substrate 8.例文帳に追加

また、P型半導体基板8の端縁部に半導体基板と同一導電型の外部接続領域2を設ける。 - 特許庁

In particular, the N-type semiconductor 11, the P-type semiconductor 12 and the insulating layer 13 are integrated and formed.例文帳に追加

特に、N型半導体11とP型半導体12、及び絶縁層13とが一体化されて形成されている点に特徴を有する。 - 特許庁

At the upper part of the p-type semiconductor layer 14 at the resonator forming part, the ridge part, whose central part is protruded in the stripe shape, is formed.例文帳に追加

共振器形成部におけるp型半導体層14の上部には中央部がストライプ状に突出したリッジ部14aが形成されている。 - 特許庁

An insulator 103 made of a resin material is formed to the side face of a bipolar semiconductor 210 comprising a p-type semiconductor 205 and an n-type semiconductor 206.例文帳に追加

P型半導体部205とN型半導体部206とでなる2極半導体部210の側面に樹脂材料で絶縁部103を形成する。 - 特許庁

The p-type thermoelectric element layer 5 is a thin film layer and turned to a p-type semiconductor by adding Sb to Bi-Te.例文帳に追加

p型熱電素子層5は薄膜層であり、Bi−TeにSbを添加することによりp型半導体としたものである。 - 特許庁

The i-type semiconductor layer 16 has at least one corner 16e which does not come into contact with the p-type semiconductor layer 14.例文帳に追加

i型半導体層16は、p型半導体層14に非接触な角部16eを少なくとも1つ有する。 - 特許庁

In a semiconductor device, metal or metal nitride layers 18 and 19 which differ from each other are respectively provided on an N-type semiconductor layer and a P-type semiconductor layer.例文帳に追加

半導体装置に於いて、N型半導体層上とP型半導体層上とに異なる金属ないしは金属珪化物の層を設ける。 - 特許庁

A p-type buried layer 3' is provided in an n-type buried layer 2 provided on a p-type semiconductor substrate 1.例文帳に追加

p型の半導体基板1に設けられたn型埋め込み層2には、p型埋め込み層3´が設けられている。 - 特許庁

The thermoelectric device 1 is provided in which the N-type semiconductor 11, the P-type semiconductor 12 and the insulating layer 13 between them are integrated.例文帳に追加

この熱電素子1においては、N型半導体11、P型半導体12とこれらの間の絶縁層13が一体化されている。 - 特許庁

The p-type semiconductor consists of CdO which is such that a univalent cation is doped into part of a Cd site.例文帳に追加

本発明に係るp型半導体は、Cdサイトの一部に1価の陽イオンをドープしたCdOからなる。 - 特許庁

The n-type epitaxial layer 2 and the p-type semiconductor region 3 are divided into a plurality of insular regions 11 by the fault stop region 10.例文帳に追加

この欠陥停止領域10によって、n型エピタキシャル層2およびp型半導体領域3を、複数の島状領域11に分離する。 - 特許庁

A base B and a subemitter S of p-type semiconductor are joined to a collector C of n-type semiconductor, so as not to contact each other.例文帳に追加

p型半導体からなるベースBとサブエミッタSは、互いに接しないようにして、n型半導体からなるコレクタCに接合されている。 - 特許庁

Near the corner of the light-emitting element 50, a bonding electrode, i.e. a P electrode 8, is formed in contact with the P-type semiconductor layer 5.例文帳に追加

発光素子50の角部付近には、P型半導体層5に接触してボンディング電極であるP電極8を形成してある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a p-type semiconductor crystal, which has high activation factor in a wide-gap semiconductor.例文帳に追加

ワイドギャップ半導体において高い活性化率を有するp型半導体結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

In particular, it is preferable that the p-type semiconductor material has a Ta_2O_5 structure in which the amount of addition of nitrogen is set to 7.1-49.9 atom.%.例文帳に追加

特に、窒素の添加量が7.1原子%以上49.9原子%以下とされたTa_2O_5構造を有するものとすることが好適である。 - 特許庁

The P-type semiconductor region 12 is so formed that the carrier concentration is reduced and thereby the entire region becomes a depletion layer 30.例文帳に追加

P型半導体領域12は、キャリア濃度が低減され全体が空乏層30となるように形成されている。 - 特許庁

In this semiconductor laser, n-type semiconductor layers 22-24, an active layer 25, and p-type semiconductor layers 26-28 are successively laminated upon a substrate 11.例文帳に追加

基板11にn型半導体層22〜24、活性層25およびp型半導体層26〜28が順次積層されている。 - 特許庁

Then, an N-type semiconductor region 7 and a P-type semiconductor region 8 are formed on the N-type flush region 5 and the P-type embedded regions 6.例文帳に追加

そして、N型埋め込み領域5およびP型埋め込み領域6上にN型半導体領域7とP型半導体領域8を形成する。 - 特許庁

An electrothermal conversion element and a switching element for supplying power thereto are integrated in a p-type semiconductor substrate 1.例文帳に追加

電気熱変換素子とそれに通電するためのスイッチング素子とがp型半導体基体1に集積化されている。 - 特許庁

An n-type semiconductor is bonded to a part of the surface of a second well 29_b made of a p-type semiconductor, so as to make a second pn joint diode 32_b.例文帳に追加

p型半導体である第2のウェル29_bの表面の一部にn型半導体を接合させて、第2PN接合ダイオード32_bを形成する。 - 特許庁

At first, an N-type embedded region 5 and P-type embedded regions 6 are formed on a P-type semiconductor base board 4.例文帳に追加

まず、P型半導体基板4上にN型埋め込み領域5およびP型埋め込み領域6を形成する。 - 特許庁

Thereby, a p-type semiconductor having lower contact resistance and low-drive voltage can be formed, and the light transmission efficiency thereof can also be improved.例文帳に追加

これにより、接触抵抗が低減され駆動電圧の低いp型半導体が形成できると共に、光透過効率も向上する。 - 特許庁

例文

At this time, the upper part of the second trench is not completely filled with the p-type semiconductor 28, but remains, and a recess is formed on the surface of the parallel p-n structure.例文帳に追加

このとき、第2のトレンチの上部はp型半導体28で埋まらずに残り、並列pn構造の表面に窪みが形成される。 - 特許庁

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