「"second development"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Then, by dropping a second development solution 6 for substitution on the resist film 2, substitution for the already developed first development liquid 5 is made.例文帳に追加

次に、置換用の第２の現像液６をレジスト膜２に滴下して、現像済みの第１の現像液５との置換を行う。 - 特許庁

Then, rinsing liquid 9 is dropped on the resist film 2, substitution is made between the second development solution 6 and the rinsing solution 9, and the resist film 2 is rinsed.例文帳に追加

次に、リンス液９をレジスト膜２に滴下して、第２の現像液６とリンス液９とを置換し、レジスト膜２を洗浄する。 - 特許庁

Since development processing can be performed after the damaged layer has been removed by the pretreatment, second development can be performed with uniformity in a smooth manner.例文帳に追加

前処理によりダメージ層を除去した後で現像処理を行うので、２回目の現像処理をスムーズに均一性良く行うことができる。 - 特許庁

The obtaining section 22 obtains arrangement rule information indicating an arrangement rule of an image for an arrangement area which is a area in a second development elevation in which an image is arranged.例文帳に追加

取得部２２は、画像が配置される第二の展開図内の領域である配置領域への画像の配置規則を示す配置規則情報を取得する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing method which enables conducting of smooth perform processing, for forming an organic film pattern into another pattern in second development.例文帳に追加

２回目の現像処理により有機膜パターンを新たなパターン形状に加工する処理をスムーズに行うことを可能とする基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treating method capable of smoothly performing second development treatment and thereon to an organic film pattern and so on, and a chemical used therefor.例文帳に追加

有機膜パターンへの２回目以降の現像処理をスムーズに行うことなどを可能とする基板処理方法及びそれに用いる薬液を提供する。 - 特許庁

A substrate development processing machine 10 is provided with a first development tank 12, a second development tank (patterning tank) 13, a residual dross removal tank 14 and a substrate feeding part 21.例文帳に追加

基板現像処理機１０は、第１現像槽１２と、第２現像槽（パターニング槽）１３と、残渣除去槽１４と、基板搬送部２１とを備える。 - 特許庁

Then, the development capability of the first development areas R1a and R1b and that of the second development area R2 are equally formed.例文帳に追加

そして、第１現像領域Ｒ１ａ、Ｒ１ｂにおける現像能力と、第２現像領域Ｒ２における現像能力とを同等に形成する。 - 特許庁

Then, a second development is applied to the heated first resist pattern 102a, to obtain a second resist pattern 102b which is a reduced pattern of the first resist pattern 102a.例文帳に追加

その後、加熱された第１のレジストパターン１０２ａに第２の現像を行って、第１のレジストパターン１０２ａが縮小された第２のレジストパターン１０２ｂを得る。 - 特許庁

In the latent image in an area developed at a higher developing speed, a pattern is formed up to the middle layer in first development and the pattern is formed up to the substrate in second development.例文帳に追加

現像速度が速い部分の潜像は、第１の現像においてパターンが中間層まで形成され、第２の現像において基板までパターンが形成される。 - 特許庁

In a file holding part 8, a file is stored every group unit such as a folder 12 of "#DB01", a folder 13 of "the first development", a folder 14 of "#DB02", and a folder 15 of "the second development".例文帳に追加

ファイル保持部８では、ファイルを「＃ＤＢ０１」のフォルダ１２、「第１開発」のフォルダ１３、「＃ＤＢ０２」のフォルダ１４、「第２開発」のフォルダ１５といったグループ単位で保存している。 - 特許庁

Also, the respective developing units for yellow (Y), magenta (M) and cyan (C) of a second development apparatus 6 for performing the development with a colored developer can be individually replenished with the developer.例文帳に追加

また、有色現像剤で現像する第２の現像装置６の、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）用の各現像器を個別に現像剤の補給ができるようにする。 - 特許庁

Finally, the block-shaped resist 102A is developed so as to form a resist 102B with a shape of three orthogonally-crossed nanowires (corresponding to a second structure) as shown in Fig. 1(f) (second development step).例文帳に追加

最後に、図１（ｆ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａを現像して、３本の直交ナノワイヤ状（第２の構造に対応）のレジスト１０２Ｂを形成する（第２の現像ステップ）。 - 特許庁

An air bag 22 with a bag form is folded into about a T-shape having a first development part 101 connected to an opening through which a gas flows in, and a second development parts 102 and 102 extending from the upper end of the first development part 101 in the longitudinal direction.例文帳に追加

袋状のエアバッグ22は、ガスが流入する開口部につながる第１展開部101 と、この第１展開部101 の上端部から前後に延びる第２展開部102 ，102 を有した略Ｔ字状に折り畳む。 - 特許庁

To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

Thus, a normal form of the manual feed tray 40 for feeding the paper sheet P into the main body 2 can be achieved by the first development posture, and a trapezoid form wherein the paper sheet placed on an upper surface is not fed into the main body 2 can be achieved by the second development posture.例文帳に追加

これにより、第１の展開姿勢で用紙Ｐを手差しで本体２内に送り込む通常の手差しトレイ４０の形態にすることができ、第２の展開姿勢で上面に置いたものが本体２内に送り込まれることがない台状の形態にすることができる。 - 特許庁

The development area of the image carrier 2 consists of first development areas R1a and R1b where the latent image is independently developed by either one of the development agent carriers 51A and 51B and a second development area R2 where the latent image is duplicately developed by two development agent carriers 51A and 51B.例文帳に追加

像担持体２における現像領域は、いずれか１つの現像剤担持体５１Ａ、５１Ｂによって潜像が独立して現像される第１現像領域Ｒ１ａ、Ｒ１ｂと、２つの現像剤担持体５１Ａ、５１Ｂによって潜像が重複して現像される第２現像領域Ｒ２とからなる。 - 特許庁

The development processor includes a primary development processing unit which generates primarily developed image data from the undeveloped image data, a first development processing unit for analysis which generates first image data for analysis of predetermined resolution, and a second development processing unit for analysis which generates second image data for analysis of predetermined resolution from the attached image data.例文帳に追加

この現像処理装置は、未現像画像データから本現像済画像データを生成する本現像処理部と、所定の解像度の第１の解析用画像データを生成する第１の解析用画像生成部と、付随画像データから所定の解像度の第２の解析用画像データを生成する第２の解析用画像生成部を備えている。 - 特許庁

By making the deviation and roundness of the second development sleeve 12 situated on the downstream side in the direction of the rotation of the photoreceptor drum 1 smaller than the deviation and roundness of the first development sleeve 11 situated on the upstream side, increase in production cost is suppressed and an output image of high quality can be ensured for a long period of time.例文帳に追加

感光ドラム１の回転方向に対して上流側に位置する第１現像スリーブ１１の振れと真円度の値に対して、下流側の第２現像スリーブ１２の振れと真円度の値の方が小さくなるようにしたことにより、製造コストの上昇を抑えると共に、高品位な出力画像を長期にわたって得ることができる。 - 特許庁

In a second exposure step following a first exposure and development step, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that a region d' with saturation exposure in the area irradiated with the irradiation light R2 in a second photoresist film 3' to be dissolved and removed in the succeeding second development step has a trapezoidal converged profile in the cross section as shown in the figure.例文帳に追加

第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁

The image forming apparatus includes: a first development unit which forms a developer image with a first developer-absorbing light having a prescribed wavelength; a second development unit which forms a developer image with a second developer-transmitting light having a prescribed wavelength; and a control unit which controls printing of a background design image in the first development unit and printing of a print image in the second developing unit.例文帳に追加

所定の波長の光を吸収する第１の現像剤を用いて現像剤像を形成する第１の現像部と、所定の波長の光を透過する第２の現像剤を用いて現像剤像を形成する第２の現像部と、第１の現像部による地紋画像の印刷を制御し、第２の現像部による印刷画像の印刷を制御する制御部と、を備えることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第１の現像液がレジスト膜に接する第１現像工程と、第２の現像液がレジスト膜に接する第２現像工程と、を備え、前記第２の現像液は、前記第１の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁