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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ジエチル鉛に関連した英語例文

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ジエチル鉛の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 24



例文

ジエチル組成物、ジエチルの熱安定化方法、ジエチルの熱安定性を向上させる化合物例文帳に追加

DIETHYL ZINC COMPOSITION, METHOD OF HEAT STABILIZING DIETHYL ZINC, AND COMPOUND THAT IMPROVES HEAT STABILITY OF DIETHYL ZINC - 特許庁

ジエチルに添加物としてアズレン構造を有する化合物が添加されたジエチル組成物を用いる。例文帳に追加

The diethyl zinc composition comprises diethyl zinc and a compound having an azulene structure added therein as an additive. - 特許庁

ジエチルに添加物としてイソプロペニル基を側鎖に有する芳香族化合物が添加されたジエチル組成物を用いる。例文帳に追加

The heat-stable diethylzinc composition comprises, as an additive to the diethylzinc, an aromatic compound having an isopropenyl group as a side chain. - 特許庁

GaAsウェハーにジエチルを拡散する縦型熱拡散装置で、ジエチルとAsH_3の化合物の生成を防ぐ。例文帳に追加

To prevent generation of a compound of diethyl zinc and AsH_3 in a vertical thermal diffusion device for diffusing diethyl zinc on a GaAs wafer. - 特許庁

例文

ジエチルに添加物として特定の炭素−炭素2重結合を有する化合物が添加されたジエチル組成物を用いる。例文帳に追加

The diethyl zinc composition obtained by adding a compound having a specific carbon-carbon double bond as an additive to diethyl zinc is used. - 特許庁


例文

ジエチル組成物、熱安定化方法および熱安定化用化合物例文帳に追加

DIETHYL ZINC COMPOSITION, METHOD FOR THERMAL STABILIZATION AND COMPOUND FOR THERMAL STABILIZATION - 特許庁

そのため、純度96.0〜99.8%の低純度ジエチルを用いても、高純度ジエチルの使用時と変わりなく、低コストで酸化亜系の薄膜を製造することができる。例文帳に追加

Thus, even if low purity diethylzinc having a purity of 96.0 to 99.8% is used, a zinc oxide based thin film can be produced at a low cost similarly to the use of high purity diethylzinc. - 特許庁

ジエチルガスは、ヘリウムキャリアガスと混合して、反応室1内に導入する。例文帳に追加

The diethyl zinc gas is brought into a reactive chamber 1 by mixing with helium carrier gas. - 特許庁

重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜薄膜製造原料や等に使用されるジエチルの熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜粒子が析出しない熱安定性に優れ、またジエチルの使用時の残存の問題を軽減するジエチル組成物及びジエチルの熱安定化の方法を提供する。例文帳に追加

To enhance thermal stabilization of diethylzinc used for a polymerization catalyst, a reagent for organic syntheses, a raw material for the formation of a zinc oxide film by an MOCVD method or the like, or the like, and to provide a diethylzinc composition that exhibits excellent thermal stability causing no deposition of a zinc metal particle after longtime handling and improves a problem of remaining of diethylzinc when used and a method for thermally stabilizing diethylzinc. - 特許庁

例文

ヒータ22a,22bにより液体原料気化容器21a,21b内のジエチルを減圧下で加熱することができ、ジエチルが減圧蒸留に供される形となる。例文帳に追加

The diethylzinc in the liquid raw material vaporization vessels 21a, 21b can be heated under the reduced pressured by the heaters 22a, 22b, and a form that the diethylzinc is fed to vacuum distillation is made. - 特許庁

例文

または、ジメチル亜またはジエチルの気化ガスと、酸化剤ガスを含むガスを、交互にCVD装置に供給して、基板の表面に酸化亜膜を形成させる。例文帳に追加

Alternatively, the method for forming the zinc oxide film on the surface of the substrate comprises alternately supplying a vaporized gas of dimethylzinc or diethylzinc, and the gas containing the oxidizing gas, to the CVD apparatus. - 特許庁

重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜薄膜製造原料や等に使用されるジエチルの熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜粒子が析出しない熱安定性に優れたジエチル組成物を提供する。例文帳に追加

To improve heat-stability of diethylzinc that is used as a polymerization catalyst, a reagent for organic synthesis, a raw material for the production of a zinc oxide thin film by MOCVD, or the like; and to provide a heat-stable diethylzinc composition having no metallic zinc particles precipitated even after long-term handling. - 特許庁

重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜薄膜製造原料や等に使用されるジエチルの熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜粒子が析出しない熱安定性に優れたジエチル組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a diethylzinc composition improving heat stability of diethylzinc used for a polymerization catalyst, an organic synthesis reagent, a raw material for producing zinc oxide thin film by MOCVD method or the like, etc., and excellent in heat stability not precipitating metallic zinc particles even handled for a long period. - 特許庁

重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜薄膜製造原料や等に使用されるジエチルの熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜粒子が析出しない熱安定性に優れたジエチル組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a diethyl zinc composition of excellent heat stability that improves the heat stability of diethyl zinc used in applications such as a polymerization catalyst, an organic synthesis reagent, and a raw material for producing a thin film of zinc oxide according to a MOCVD method or the like, and does not allow metallic zinc particles to precipitate subsequent to a long handling period. - 特許庁

重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜薄膜製造原料や等に使用されるジエチルの熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜粒子が析出しない熱安定性に優れたジエチル組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a diethyl zinc composition that improves the heat stability of diethyl zinc used for a polymerization catalyst, a reagent in organic synthesis, a starting material for producing a zinc oxide thin film by an MOCVD method and the like, and that is excellent in heat stability so that metallic zinc particles are not deposited even over long-term handling. - 特許庁

ヒータ5により加熱される反応管4内には、この反応管4内にジエチルを供給するジエチル供給インジェクター11の供給口11aと、AsH_3を供給するAsH_3供給インジェクター12の供給口12aが設けられる。例文帳に追加

There are provided in a reaction tube 4 to be heated by a heater 5, a supply port 11a of a diethyl zinc supply injector 11 for supplying diethyl zinc to the reaction tube 4 and a supply port 12a of a AsH_3 supply injector 12 for supplying AsH_3. - 特許庁

また、前記透明導電層が、少なくとも亜源としてジエチル、又はジメチル亜、及び、酸素源として水、又は炭素数1〜5のいずれかのアルコールを用いて減圧CVD法により作製された酸化亜(以下、ZnO)を含む膜である事を特徴とする。例文帳に追加

The transparent conductive layer is a film containing at least diethyl zinc or dimethylzinc as a source of zinc, and zinc oxide (ZnO) produced by a low-pressure CVD method using water or alcohol of a carbon number of 1 to 5 as a source of oxygen. - 特許庁

ジメチル亜またはジエチルを有機溶媒に溶解させた原料を、気化させてCVD装置に供給するとともに、酸化剤ガスを含むガスをCVD装置に供給して、基板の表面に酸化亜膜を形成させる。例文帳に追加

The method for forming the zinc oxide film on the surface of the substrate comprises the steps of: evaporating a raw material containing dimethylzinc or diethylzinc dissolved in an organic solvent; supplying the gas to a CVD apparatus; and simultaneously supplying a gas containing an oxidizing gas to the CVD apparatus. - 特許庁

ジエチル等の有機亜化合物の部分加水分解物をベースとした組成物から、可視光線に対して80%以上の平均透過率と低体積抵抗率を有する酸化亜薄膜を調製できる塗布用の組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a composition to be applied which is based on a partial hydrolysate of an organic zinc compound such as diethyl zinc and from which a zinc oxide thin film having average transmittance to visible light of80% and low volume resistivity is prepared. - 特許庁

ジエチル等の有機亜化合物の部分加水分解物をベースとした組成物から、可視光線に対して80%以上の平均透過率と低体積抵抗率を有する酸化亜薄膜を調製方法、この方法を用いて帯電防止薄膜等を提供する。例文帳に追加

To provide a method of preparing a zinc oxide thin film, which has an average transmittance of 80% or more for visible light and a low volume resistivity, from a composition based on a partial hydrolyzate of an organic zinc compound such as diethyl zinc, and also to provide an antistatic thin film or the like using this method. - 特許庁

第一原料ガス精製装置3は、成膜チャンバーに導入される亜原料ガスをジエチルから生成させるものであり、減圧可能な液体原料気化容器21a,21bとヒータ22a,22bを主要構成としている。例文帳に追加

A first raw material gas refining device 3 generates a zinc raw material gas introduced into a film deposition chamber from diethylzinc, and is mainly composed of liquid raw material vaporization vessels 21a, 21b in which pressure can be reduced and heaters 22a, 22b. - 特許庁

をドープするp型化合物半導体膜のエピタキシャル成長時に、亜含有原料(例えば、ジエチル;DEZn)と共に所定範囲の供給量のSb含有原料(例えば、トリスジメチルアミノアンチモン;TDMASb)を供給することにより、化合物半導体膜(例えば、InGaAs膜)中への亜の取り込み量を増やす。例文帳に追加

In epitaxial growth of a p-type compound semiconductor film to which zinc is doped, an Sb-containing raw material (for example, trisdimethylaminoantimony; TDMASb) in a supply amount within a predetermined range is supplied together with a zinc-containing raw material (for example, diethyl zinc; DEZn) so as to increase an amount of incorporation of zinc into the compound semiconductor film (for example, InGaAs film). - 特許庁

この供給口11aと供給口12aは、ジエチルとAsH_3が加熱分解され得る温度領域内で、かつ、上下方向に並べてセットされるGaAsウェハー1の最下端のセット位置より下側に設けられる。例文帳に追加

The supply port 11a and the supply port 12a are provided within a temperature areas where diethyl zinc and AsH_3 are thermally decomposed, and are set on the lower side of a set position at the lowermost end of a GaAs wafer 1 arranged above and and below. - 特許庁

例文

カソード2にプラスチック部品を取り付け、反応室1内に酸素ガスとジエチルガスを導入するとともに、カソード2と反応室間1に高周波電力を供給することによって、プラスチック部品表面にZnOを主成分とする保護膜を蒸着する。例文帳に追加

By installing the plastic parts at the cathode 2, bringing O_2 gas and diethyl zinc gas into the reactive chamber land supplying HF power between the cathode 2 and the reactive chamber 1, the protection film mainly constituent of ZnO is evaporated. - 特許庁




  
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