「ドウェル」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

低耐圧なｎＭＯＳに、素子分離絶縁膜よりも深くまで形成されたレトログレードウェル３が備えられている場合に、チャネル領域１２よりも深く、かつレトログレードウェル３よりも浅くに、レトログレードウェル３と同じ導電型で構成されたパンチスルーストップ層１０を備える。例文帳に追加

When the retrograde well 3 is formed in an nMOS with a low dielectric strength deeper than an element separation insulating film, this semiconductor device has a punch-through top layer which is formed deeper than a channel region 12 and shallower than the retrograde well 3 into the same conduction type with the retrogade well 3. - 特許庁

ｐ型シリコンカーバイドウェル領域が、ｎシリコンカーバイド層上に設けられる。例文帳に追加

A p-type silicon carbide well region is provided on the n^- silicon carbide layer. - 特許庁

ｐ^＋シリコンカーバイドの埋込み領域が、ｐ型シリコンカーバイドウェル領域に設けられる。例文帳に追加

A buried region of p^+ silicon carbide is provided on the p-type silicon carbide well region. - 特許庁

切り換えは、いくつかのドウェル及び／またはチャネル推定境界上で行われる。例文帳に追加

Switching is performed on some dwell and/or channel estimation boundaries. - 特許庁

フィードウェルの上部開口１０Ａと浮上槽水面Ｌとの間に遮蔽板１５を設ける。例文帳に追加

A shield plate 15 is disposed between the upper opening 10A of the feed well and the water level L of a floating tank. - 特許庁

又、カム（２）は時計、反時計方向に回転させるので中間ドウェル部を設けている。例文帳に追加

The cam 2 is provided with an intermediate dowel part for rotation in a direction clockwise and counterclockwise. - 特許庁

ペンの動きに関連するパラメータを検討することによるドウェルジェスチャの検出例文帳に追加

DETECTION OF DWELL GESTURE BY EXAMINING PARAMETER ASSOCIATED WITH PEN MOTION - 特許庁

フィードウェル３Ａは、全体が上方ほど拡径するテーパ形状となっている。例文帳に追加

The feed well 3A has a tapered shape wherein the diameter increases toward the upper part as a whole. - 特許庁

この槽体１の中央にフィードウェル３Ａが立設されており、このフィードウェル３Ａに原水流入管４が接続され、この原水流入管４に加圧水流入管５が接続されている。例文帳に追加

The feed well 3A is elected at the center of the tank body 1, a raw water inflow pipe 4 is connected to the feed well 3A, and a pressurized water inflow pipe 5 is connected to the raw water inflow pipe 4. - 特許庁

予測ドウェル時間算出部１０４は，利用可能ＲＡＮ／ＡＰ情報と端末情報とをもとに，利用可能な各ＡＰに対応する無線端末の予測ドウェル時間を算出する。例文帳に追加

A prediction dwell time calculation section 104 calculates the prediction dwell time of a wireless terminal corresponding to each available AP based on the available RAN/AP information and terminal information. - 特許庁

中央部にフィードウェルを配設した円形の処理槽においても、簡単な装置で、フィードウェル内に水面に浮遊するスカムをも確実に吸い込み、排出することができるスカムスキマを提供すること。例文帳に追加

To provide a scum skimmer capable of certainly sucking scum floating on the surface of the water in a feed well by a simple device to discharge the same even in a circular treatment tank having the feed well arranged to the central part thereof. - 特許庁

コンデンサ素子の陽極箔およびセパレータには貫通孔を形成し、この貫通孔の部分で陰極箔同士をコールドウェルドにて接合する。例文帳に追加

Through holes are formed at the anode foil of the capacitor element and the separator, and the cathode foil is bonded to the through hole by cold welding. - 特許庁

コンデンサ素子の陰極箔およびセパレータに貫通孔を形成し、この貫通孔の部分で陽極箔同士をコールドウェルドにて接合する。例文帳に追加

Through holes are formed at the cathode foil of the capacitor element and the separator, and the anode foil is bonded to the through holes by cold welding. - 特許庁

この混合水は、フィードウェル１０の上端から槽体１の上部に流出し、該槽体１内で浮上分離が行われる。例文帳に追加

This mixture water overflows from the upper end of the field well 10 upward in a tank body 1 and the floatation separation is carried out in the tank body 1. - 特許庁

原水と加圧水は流入管４，５よりフィードウェル３Ａを通って浮上槽内に流入し、固液分離が行われる。例文帳に追加

The raw water and pressurized water are flown in the floatation tank from the inflow pipes 4, 5 through the feed well 3A to perform solid/liquid separation. - 特許庁

原水と加圧水は原水供給管３内で混合され、フィードウェル１０内の下部へ好ましくは接線方向に導入される。例文帳に追加

Raw water and pressure water are mixed in a raw water supply pipe 3 and introduced downward, preferably, in a tangential direction in a field well 10. - 特許庁

切り換え決定は、所定の情報、ドウェル情報及び／またはチャネル状態フィードバック情報に基づく。例文帳に追加

Switching decisions are based on predetermined information, dwell information, and/or channel condition feedback information. - 特許庁

原水はフィードウェル１２内に供給され、その下端とプレート１３との間から放射方向に流出する。例文帳に追加

Raw water is supplied into a feed well 12 to flow out in a radial direction from a gap between the lower end of the feed well and a plate 13. - 特許庁

原水はフィードウェル１２内に供給され、その下端とプレート１３との間から放射方向に流出する。例文帳に追加

Raw water is supplied into a feed well 12 to flow out in a radial direction from the gap between the lower end of the feed well 12 and a plate 13. - 特許庁

フィードウェル１０の上部開口１０Ａと浮上槽水面Ｌとの間に遮蔽板１５を設ける。例文帳に追加

A shield plate 15 is installed between the upper opening 10A of the feed well 10 and the water surface L of a floatation vessel. - 特許庁

このように、レトログレードウェル３とチャネル領域１２との間にパンチスルーストップ層１０を備えることにより、レトログレードウェル３を用いることによる低耐圧素子におけるショートチャネル効果を抑制することができる。例文帳に追加

Thus, a punch-through stop layer 10 is formed between the retrograde well 3 and channel region 12 to suppress the short channel effect of a low-dielectric strength element by the use of the retrograde well 3. - 特許庁

処理槽１とこの処理槽１内に配設したフィードウェル２間に掛け渡し、浮遊するスカムを吸い込み排出するよう傾動可能に配設したスカムスキマ３において、フィードウェル２内に浮遊するスカムと、処理槽１内に浮遊するスカムとを個別的に吸い込み、排出するように構成する。例文帳に追加

In the scum skimmer 3 stretched across the treatment tank 1 and the feed well 2 arranged in the treatment tank 1 and arranged in a tiltable manner so as to suck floating scum to discharge the same, the scum floating in the feed well 2 and the scum floating in the treatment tank 1 are sucked individually to be discharged. - 特許庁

そのチームは，詐(さ)欺(ぎ)師(し)のラスティー・ライアン(ブラッド・ピット)，スリのライナス・コールドウェル(マット・デイモン)，金庫破りのフランク・カットン(バーニー・マック)，爆弾スペシャリストのバシャー・ター(ドン・チードル)を含んでいた。例文帳に追加

The crew included hustler Rusty Ryan (Brad Pitt), pickpocket Linus Caldwell (Matt Damon), safecracker Frank Catton (Bernie Mac) and bomb specialist Basher Tarr (Don Cheadle).  - 浜島書店 Catch a Wave

リンク機構により、スライドを上死点Ａ近傍で、プレスを停止させることなく連続的にドウェルさせて駆動させるリンク式トランスファプレスとする。例文帳に追加

This link-type transfer press continuously makes the slide dwell by a link mechanism in the vicinity of a top dead center A without stopping the press. - 特許庁

より高速で稼動して効率を高めることができるが、個々の一片の封鎖に悪影響を及ぼさないようにドウェル時間を短くしないチェーンカッターを提供する。例文帳に追加

To provide a chain cutter which can increase efficiency by operating at higher speeds but does not decrease the dwell time to prevent adverse affect to the sealing of the individual pieces. - 特許庁

フィードウェルを有する浮上槽にＳＳを含んだ原水を供給してＳＳを加圧浮上処理するに当り、マイクロエアへのＳＳの吸着効率を高めて良好な水質の処理水を安定かつ確実に得る。例文帳に追加

To stably and surely provide excellent quality of water to be treated by improving adsorption efficiency of SS (suspended solids) with respect to micro-air when raw water containing SS is supplied to a floatation tank having a feed well to apply air floatation treatment to SS. - 特許庁

原水はフィードウェル１２内に供給され、主として放射方向に流れた後、槽体内周壁面１１ｂに沿って上昇し、溢流堰１５を溢流し、清澄水排出管１６より排出される。例文帳に追加

The raw water is supplied in a field well 12, mainly flows in a radial direction, then rises along the inside perimeter wall face 11b of a tank body, overflows an overflow dam 15 and is discharged from a clarified water discharge pipe 16. - 特許庁

原水はフィードウェル１２内に供給され、主として槽体底面１１ａから槽体内周壁面１１ｂに沿って流れ、溢流堰１５を溢流し、清澄水排出管１６より排出される。例文帳に追加

Raw water is fed into a feed well 12, mainly flows along the inner peripheral wall surface 11b of the vessel body from the bottom surface 11a of the vessel body, overflows an overflow weir 15 and is discharged from a clear water discharge pipe 16. - 特許庁

ＡＰ選択部１０６は，少なくとも算出された予測ドウェル時間を用いたロジックを含むアルゴリズムにより，利用可能なＡＰの中からＡＰを選択する。例文帳に追加

An AP selecting section 106 selects an AP among available APs according to an algorithm using at least a calculated prediction dwell time. - 特許庁

オープンタイプのフィードウェルを設けた加圧浮上装置において、簡易かつ小型な装置設備で高速処理が可能な加圧浮上装置を提供する。例文帳に追加

To provide a simple and small-sized floatation apparatus by pressure capable of achieving floatation at a high speed in the apparatus provided with an open-type feed well. - 特許庁

オープンタイプのフィードウェルを設けた加圧浮上装置において、簡易かつ小型な装置設備で高速処理が可能な加圧浮上装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pressure floatation device capable of high speed treatment by a simple and small-sized device in the pressure floatation device provided with an open type feed well. - 特許庁

複数の可溶部を固定具上に積層し、固定具に固定されたピンを介して可溶部を位置合わせし、拡散炉の反応チャンバ内に前記位置合わせされた可溶部を有する固定具を配置し、所定のドウェル時間にわたり所定のドウェル温度で第一レベルの合金化を実施し、所定のろう付け時間にわたり所定のろう付け温度で第二レベルの合金化を実施する、ことを含む、拡散炉を利用する一体化された金属合金化方法。例文帳に追加

The method for unified metal alloying using a diffusion furnace comprises: stacking a plurality of fusible parts on a fixture; aligning the fusible parts via pins affixed to the fixture; placing the fixture with the aligned fusible parts into a reaction chamber of the diffusion furnace; performing a first level alloying at a predefined dwell temperature for a predefined dwell time; and performing a second level alloying at a predefined brazing temperature for a predefined brazing time. - 特許庁

高耐圧トランジスタの注入分離領域とレトログレードウェルの作成の為のイオン注入を同時に行う製造プロセスを提供することによってマスク枚数の削減とそれに伴う製造工程の縮減さらには低コストの半導体装置を提供する。例文帳に追加

A manufacturing process in which the ion implantation for the implantation separation area of the high-withstand voltage transistor and the ion implantation for the retrograde well formation are performed at the same time is provided to decrease the number of masks, reduce manufacturing processes accompanying them, and further provide a low-cost semiconductor device. - 特許庁

原水はフィードウェル１２内に供給され、主として槽体底面１１ａから槽体内周壁面１１ｂに向って流れ、この槽体内周壁面１１ｂに沿って上昇し、溢流堰１５を溢流して、清澄水排出管１６より排出される。例文帳に追加

Raw water is supplied into a feed well 12 and flows mostly from a bottom face 11a of the precipitator toward an inside wall 11b of the precipitator, rises along the inside wall 11b of the precipitator, flows over a weir 15 and goes out through a supernatant outlet pipe 16. - 特許庁