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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > フッ化ケイ素に関連した英語例文

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フッ化ケイ素の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 193



例文

フッ素有機ケイ素合物例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING ORGANIC SILICON COMPOUND - 特許庁

フッ化ケイ素の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SILICON TETRAFLUORIDE - 特許庁

フッ素有機ケイ素合物例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND - 特許庁

フッ素有機ケイ素合物及び含フッ素界面活性剤例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND AND FLUORINE-CONTAINING SURFACTANT - 特許庁

例文

光照射によるフッ素添加酸ケイ素膜の形成法例文帳に追加

METHOD OF FORMING FLUORINE-ADDED SILICON OXIDE FILM BY LIGHT IRRADIATION - 特許庁


例文

フッ素有機ケイ素合物及びその製造方法例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING ORGANIC SILICON COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

フッ素有機ケイ素合物の製造法例文帳に追加

PRODUCTION OF FLUORINE-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND - 特許庁

フッ水素酸あるいはフッ水素は、ガラスと反応して四フッ化ケイ素と水になる。例文帳に追加

Hydrofluoric acid or hydrogen fluoride reacts with glass to form silicon tetrafluoride and water. - 特許庁

本発明のフッアルキルケイ素高分子合物は、主鎖がケイ素で形成され、少なくとも炭素及びフッ素を含む側鎖を含んでなる。例文帳に追加

This fluorinated alkyl silicon polymer compound has a backbone composed of silicon and a side chain containing at least carbon and fluorine. - 特許庁

例文

ダイヤモンド微粒子をケイ素処理及び/又はフッ処理してなることを特徴とするケイ素及び/又はフッ素を有するダイヤモンド微粒子。例文帳に追加

There is provided a diamond fine particle having silicon and/or fluorine, wherein silicification treatment and/or fluorination treatment is applied to a diamond fine particle. - 特許庁

例文

フッ化ケイ素としては四フッ化ケイ素、ヘキサフルオロケイ酸が好ましく、リン酸としてはオルトリン酸、メタリン酸、ポリリン酸が好ましい。例文帳に追加

The silicon fluoride is preferably silicon tetrafluoride and hexafluorosilicic acid, and phosphoric acid is preferably orthophosphoric acid, metaphosphoric acid and polyphosphoric acid. - 特許庁

フッ素多官能ケイ素合物を含有する表面処理剤組成物例文帳に追加

SURFACE TREATMENT AGENT COMPOSITION CONTAINING FLUORINE-CONTAINING POLYFUNCTIONAL SILICON COMPOUND - 特許庁

フッ化ケイ素の製造方法、及びそれに用いる製造装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING SILICON TETRAFLUORIDE AND MANUFACTURING APPARATUS USING THE SAME - 特許庁

フッ化ケイ素及びリン酸を含んでなるエッチング用組成物を用いる。例文帳に追加

The etching composition contains silicon fluoride and phosphoric acid. - 特許庁

フッ素ドープ二酸ケイ素が、好ましいコーティング材料である。例文帳に追加

Fluorine-doped silicon dioxide is the preferable coating material. - 特許庁

リン酸、可溶性ケイ素合物、硝酸及び/又は硝酸塩、水を含んでなり、しかもフッ酸を含有しない窒ケイ素のエッチング用組成物では、酸ケイ素に対する窒ケイ素のエッチング選択比が高く、なおかつバッチ処理を繰り返した場合における酸ケイ素の再析出の問題がない。例文帳に追加

The composition for etching silicon nitride which contains phosphoric acid, a soluble silicon compound, nitric acid and/or nitrate, and water and contains no hydrofluoric acid has a high etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide and is free of a problem of redeposition of silicon oxide when a batch process is repeated. - 特許庁

フッ金属類を使用した四フッ化ケイ素の除去方法および回収方法例文帳に追加

REMOVAL AND RECOVERY OF SILICON TETRAFLUORIDE BY USE OF METAL FLUORIDES - 特許庁

硫酸、フッ物及び水を含有するエッチング液で窒ケイ素及び/又は窒ケイ素をエッチングした後、このエッチング液を加熱及び/又は減圧して、エッチングにより生じたケイ素合物を除去する。例文帳に追加

Silicon nitride and/or silicon nitride oxide is etched by an etchant containing sulfuric acid, fluoride and water, and thereafter the etchant is heated and/or depressurized to remove a silicon compound produced by the etching. - 特許庁

それにより、低圧相窒ケイ素フッ水素酸と反応し、立方晶スピネル型窒ケイ素中における未反応の低圧相窒ケイ素が分離、精製される。例文帳に追加

Thereby, the low pressure phase silicon nitride reacts with the hydrofluoric acid and the unreacted low pressure phase silicon nitride in the cubic spinel-type silicon nitride is isolated and the cubic spinel-type silicon nitride is refined. - 特許庁

ケイ素被覆部材について、三フッ塩素ガスを用いたエッチング処理により、前記炭ケイ素被覆層の表層部に存在する不純物を、該表層部の炭ケイ素とともに除去する。例文帳に追加

In the silicon carbide-coated member, impurities present on the surface layer of the silicon carbide coating layer are removed together with silicon carbide in the surface layer by etching treatment using gaseous chlorine trifluoride. - 特許庁

フッ化ケイ素、リン酸を含んでなるエッチング用組成物には、錯剤、過酸水素を含んでも良い。例文帳に追加

The composition for etching constituted, containing silicon fluoride and phosphoric acid may, contain complexing agents and hydrogen peroxide. - 特許庁

フッアルキルケイ素高分子合物を用いたハロゲンイオン検出素子材料例文帳に追加

HALOGEN ION DETECTING ELEMENT MATERIAL PRODUCED USING FLUORINATED ALKYL SILICON MACROMOLECULAR COMPOUND - 特許庁

フッアルキルケイ素高分子合物及びそれを用いたハロゲンイオン検出素子材料例文帳に追加

FLUORINATED ALKYL SILICON POLYMER COMPOUND AND HALOGEN ION SENSOR UNIT MATERIAL USING IT - 特許庁

フッ化ケイ素及び水を含んでなる酸タンタルのエッチング用組成物を用いる。例文帳に追加

An etching compound of tantalum oxide, containing hydrogen fluoride and water, is employed. - 特許庁

正極としては、リチウム金属、リチウム合金、ケイ素フッ炭素等を用いることができる。例文帳に追加

Metallic lithium, lithium alloy, silicon, or carbon fluoride or the like can be used as a positive electrode. - 特許庁

フッケイ素合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法例文帳に追加

FLUORINE CONTAINING SILICONE COMPOUND, SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

フッ素含有有機ケイ素合物による防汚層を成膜する条件を提供する。例文帳に追加

To provide a condition of depositing an anti-fouling layer by using an organosilicon compound containing fluorine. - 特許庁

主鎖がケイ素で形成され、少なくとも炭素及びフッ素を含む側鎖を含んでなるフッアルキルケイ素高分子合物を用いれば、ニトロ合物を検出するニトロ合物検出素子材料として利用することができる。例文帳に追加

The alkyl fluoride silicon polymeric compound, which comprises a backbone formed of silicon atoms and side chains containing at least carbon atoms and fluorine atoms, is used for the material for a nitro compound detection element which detects a nitro compound. - 特許庁

フッ物、塩物、及び錯剤を含んでなるエッチング用組成物、或いはフッ化ケイ素、リン酸を含んでなるエッチング用組成物を用いる。例文帳に追加

A composition for etching constituted, containing fluoride, chloride, and complexing agent, or the a composition for etching constituted, containing silicon fluoride and phosphoric acid is used. - 特許庁

立方晶スピネル型窒ケイ素の分離、精製は、反応容器1内に立方晶スピネル型窒ケイ素と低圧相窒ケイ素の混合粉末12と、フッ水素酸及び硝酸又は硫酸の混酸溶液13とを収容し、加熱状態で反応させることにより行われる。例文帳に追加

The isolation and refining of the cubic spinel-type silicon nitride comprises accommodating a mixed power 12 comprising the cubic spinel-type silicon nitride and the low pressure phase silicon nitride and a mixed acid solution 13 comprising hydrofluoric acid and nitric acid or sulfuric acid in a reaction vessel 1 and reacting them while heating. - 特許庁

すると、六フッイオウガスのフッ素がシリコン系接着剤7中のケイ素と合体して、このケイ素は真空通路6を介して装置外部へ排出される。例文帳に追加

Accordingly, fluorine from the sulfur hexafluoride gas is combined with silicon in a silicone-based adhesive 7, so that the silicon is discharged outside the apparatus through a vacuum passage 6. - 特許庁

リン合物、ホウ素合物及び/又はそれらのフッ物を含んでなる窒ケイ素のエッチング用組成物では、長時間の使用においても酸ケイ素の析出がない。例文帳に追加

By the etching composition comprising a phosphorus compound, a boron compound, a silicon compound and/or their fluorides thereof, there will be no precipitation of silicon oxide even when the composition is used for a long period of time. - 特許庁

前記フッ合物をフッ化ケイ素フッ炭素、フッ窒素の中から選ばれるものとし、該フッ合物と反応してフッ素ガスを遊離する物質が酸素とする。例文帳に追加

The fluorine compound is selected from silicon fluoride, carbon fluoride, and nitrogen fluoride and the substance which reacts with the fluorine compound and liberates fluorine gas is oxygen. - 特許庁

固体高分子型燃料電池を構成するリブ付セパレータ1の表面5、6が、ケイ素原子にイソシアネート基又は加水分解性基と含フッ素有機基とが結合しているケイ素合物により、当該ケイ素合物の反応生成物により被覆してセパレータの撥水性を付与する。例文帳に追加

Surfaces 5 and 6 of a ribbed separator 1 comprising the solid polymer type fuel cell is covered with a reaction product of silicon compound formed by bonding isocyanate group or hydrolysable group and fluorine inclusion organic group to a silicon atom so as to have water repellency. - 特許庁

本発明は、珪素または一種以上の金属を含む酸物微粒子とフッ素含有有機ケイ素合物、有機ケイ素合物からなる撥水性低屈折率コーティング用組成物およびその組成物である。例文帳に追加

There is disclosed the composition for the water-repellent low refractive index coating consisting of oxide particulates containing silicon or one or more kinds of metals, a fluorine-containing organic silicon compound and an organic silicon compound, and its composition. - 特許庁

フッアルキルケイ素高分子合物を用いてなるニトロ合物検出素子材料及びニトロ合物の検出方法を提供する。例文帳に追加

To provide a material for a nitro compound detection element and a method of detecting a nitro compound which uses an alkyl fluoride silicon polymeric compound. - 特許庁

試験溶液中のケイ素イオンとの反応により、フッ物イオン濃度を低下させ、このフッ物イオンは、試験溶液中のフッ物イオンの所定濃度と測定濃度との差からエッチング剤溶液のケイ素濃度を計算できるように学量論的に過剰で存在する。例文帳に追加

Reaction with silicon ions in the test solution reduces the concentration of fluoride ions, which are present in stoichiometric excess, so that the silicon concentration of the etchant solution can be calculated from the difference between the predetermined and measured concentrations of fluoride ions in the test solution. - 特許庁

これにより、有機ポリシロキサン10とポリテトラフルオロエチレン11の露光部分から気体が放出され、この気体を利用して前記光の照射を受けるケイ素基板20上にフッ素添加酸ケイ素膜を学蒸着する。例文帳に追加

Thus, gas is released from the exposed parts of the organic polysiloxane 10 and polytetrafluoroethylene 11, and, utilizing the gas, a fluorine-added silicon oxide film is chemically vapor-deposited on the silicon substrate 20 irradiated with the light. - 特許庁

このフッアルキルケイ素高分子合物は、直線状の軸を中心として、この軸の周囲を、主鎖のケイ素連鎖が渦巻状に取り囲むコンホメーションを有している。例文帳に追加

The compound has a conformation in which a silicon linkage as the backbone chain is disposed surrounding a linear axis as the central axis of the macromolecule, in the form of a whirlpool. - 特許庁

このフッアルキルケイ素高分子合物は、直線状の軸を中心として、この軸の周囲を、主鎖のケイ素連鎖が渦巻状に取り囲むコンホメーションを有している。例文帳に追加

The polymer has such a conformation that the backbone silicon chain surrounds a linear axis as a center in spiral. - 特許庁

フッ素およびケイ素を含む排水を希釈処理することなく、すなわち、フッ素およびケイ素を含む排水を高濃度のままで処理しても、高純度のフッカルシウムとしてフッ素を高回収率で回収することができる技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a technology capable of recovering fluorine as high-purity calcium fluoride at a high recovery rate without diluting waste water containing fluorine and silicon, that is, even when waste water containing fluorine and silicon is treated while keeping a high concentration. - 特許庁

フッ水素酸、フッアンモニウム、四フッ化ケイ素、ヘキサフルオロケイ酸等のフッ物、及び塩水素酸、塩アンモニウム等の塩物を含んでなるエッチング用組成物を用いる。例文帳に追加

A composition for etching containing a fluoride such as hydrofluoric acid, ammonium fluoride, silicon tetrafluoride, or hexafluorosilicic acid, and a chloride such as hydrochloric acid or ammonium chloride, is used. - 特許庁

フッ水素合物と界面活性剤とを含有することを特徴とする有機ケイ素系被覆層及び/又は酸物被覆層の除去剤。例文帳に追加

The removing agent for the organic silicon-based coating layer and/or the oxide coating layer comprises a hydrogen fluoride compound and a surfactant. - 特許庁

金属合物にケイ素合物を含有させてなる多孔性金属フッ物合成用原料組成物。例文帳に追加

The raw material composition for synthesizing the porous metal fluoride is obtained by incorporating a silicon compound into a metal compound. - 特許庁

また、反応性合物および非反応性合物は、フッ素含有有機ケイ素合物であることが好ましい。例文帳に追加

The reactive compound and the non-reactive compound are preferably fluorine-containing organic silicon compounds. - 特許庁

この課題を解決する手段として、本発明の構成の一つはケイ素膜上に形成された酸ケイ素膜を除去する際に、フッ素と界面活性を示す物質を含む液よりなるエッチャントを用いることを特徴とする。例文帳に追加

For removing a silicon oxide film formed on a silicon film, an etchant is used which is a liquid containing fluoride and a substance revealing a surface activity. - 特許庁

ペレット59は、フッ素含有有機ケイ素合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。例文帳に追加

A catalyst is added to an contamination-preventing solution containing a fluorine-containing organic silicon compound, and the pellet 59 is impregnated with the contamination-preventing solution containing the fluorine-containing organic silicon compound in an activated state; and then the pellet 59 is subjected to heating treatment in a temperature range above the evaporation temperature of the catalyst and below evaporation temperature of the fluorine-containing organic silicon compound. - 特許庁

本発明のフッアルキルケイ素高分子合物は、ハロゲンイオンを検出するハロゲンイオン検出素子材料として用いることができる。例文帳に追加

The compound according to the present invention can be used as a halogen ion detecting element material which can detect a halogen ion. - 特許庁

フッアルキルケイ素高分子合物及びそれを用いたハロゲンイオン検出素子材料を提供する。例文帳に追加

To provide a fluorinated alkyl silicon macromolecular compound and a halogen ion detecting element material produced using the same. - 特許庁

例文

負極および正極としては、カルシウム金属、カルシウム合金、カルシウム酸物、黒鉛等の炭素材料、フッ炭素、ケイ素等を用いる。例文帳に追加

For a negative electrode and a positive electrode, calcium, a calcium alloy, a calcium oxide, a carbon material such as graphite, fluorocarbon, silicon and the like are used. - 特許庁

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