「フッ化ケイ素」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

主鎖にフッ素およびケイ素を含有するセグメント化ポリウレタン、該ポリウレタンを含む医療用器具、および、該ポリウレタンを含む生体適合性要素例文帳に追加

SEGMENTED POLYURETHANE CONTAINING FLUORINE AND SILICON IN MAIN CHAIN, MEDICAL DEVICE CONTAINING THE POLYURETHANE AND BIOCOMPATIBLE ELEMENT CONTAINING THE POLYURETHANE - 特許庁

含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法例文帳に追加

SILICON COMPOUND HAVING CYCLIC STRUCTURE CONTAINING FLUORINE AND SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

有機フッ素基と反応性官能基を有する多面体有機ケイ素化合物とその製造方法、およびその成膜材料と形成された膜例文帳に追加

POLYGONAL ORGANIC SILICON COMPOUND HAVING ORGANIC FLUORINE GROUP AND REACTIVE FUNCTIONAL GROUP, ITS PRODUCTION, AND ITS FILM FORMING MATERIAL AND FORMED FILM - 特許庁

フッ素およびケイ素を含む排水をｐＨ調整槽１に供給し水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してケイ酸ナトリウムを析出させる。例文帳に追加

The waste water containing fluorine and silicon is supplied into a pH adjusting vessel 1 and sodium hydroxide (NaOH) is added, so that sodium silicate is precipitated. - 特許庁

下記一般式（１）で示される含フッ素有機ケイ素化合物を防汚性付与成分として含有する防汚性付与剤。例文帳に追加

The antifouling property giving agent includes a fluorine-containing organosilicon compound shown by general formula (1) as an antifouling property giving component. - 特許庁

含フッ素有機ケイ素化合物、それを含む撥水性組成物、ならびに表面処理基材およびその製造方法例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND, WATER- REPELLING COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND SURFACE- TREATED BASE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

有機ケイ素化合物エマルション、フッ素樹脂エマルションおよび成膜助剤からなる水性吸水防止材。例文帳に追加

This water-absorption-preventive agent comprises an organosilicon compound emulsion, a fluororesin emulsion, and a film-forming assistant. - 特許庁

炭化ケイ素基板上に、開口部を有するタングステンシリサイドからなるドライエッチング用マスクを形成した後、エッチングガスとしてフッ素含有ガス単独又はフッ素含有ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて、反応性イオンエッチング法によって炭化ケイ素基板をドライエッチングすることを特徴とする炭化ケイ素製モールドの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing a silicon carbide mold includes forming a dry etching mask having an opening and comprising tungsten silicide on a silicon carbide substrate, and then dry-etching the silicon carbide substrate by a reactive ion etching method using a single fluorine-containing gas or a mixture gas of the fluorine-containing gas and oxygen gas as an etching gas. - 特許庁

分子内にフッ素含有基を有するフッ素含有ポリシラン化合物であって、該フッ素含有基の少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、フッ素含有ポリシラン化合物。例文帳に追加

The fluorine-containing polysilane compound includes fluorine-containing groups in a molecule of which at least one is bonded to a silicon atom of the main chain via an oxygen atom. - 特許庁

低屈折率層が、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムもしくは酸化ケイ素の超微粒子の金属化合物、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂のいずれか１種または２種以上を含有する上記反射防止体である。例文帳に追加

The low refractive index layer contains one or more types of ultrafine particles of metal compound of any selected from the group consisting of a magnesium fluoride, lithium fluoride, and a silicon oxide or fluororesin or a silicone resin. - 特許庁

（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）キノンジアジド基含有化合物及び（ｃ）フッ素含有量が１０〜２５重量％であり、かつケイ素含有量が３〜１０重量％の非イオン性フッ素・ケイ素系界面活性剤を（ｄ）有機溶媒に溶解してなる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液。例文帳に追加

(a) An alkali-soluble resin, (b) a quinonediazido group-containing compound and (c) a nonionic fluorine-and silicon-base surfactant having 10-25 wt.% fluorine content and 3-10 wt.% silicon content are dissolved in (d) an organic solvent to obtain the objective positive type photoresist coating solution for the production of a liquid crystal element. - 特許庁

ガラス基板１の表面に酸化スズ膜２が形成され、該酸化スズ膜２の表面に酸化ケイ素膜３を形成し、該酸化ケイ素膜３の表面にはフッ素が添加された酸化スズ膜４、すなわち低放射層が形成されている。例文帳に追加

In this glass, a tin oxide film 2 is formed on a surface of a glass substrate 1, a silicon oxide film 3 is formed on the surface of the tin oxide film 2, and a fluorine-added tin oxide film 4, i.e., a low-radiation layer, is formed on the surface of the silicon oxide film 3. - 特許庁

従ってスート１をフッ化水素雰囲気に保持すると、スート１の表面から内部に拡散したフッ化水素がスートのガラスと反応して四フッ化ケイ素が生じる。例文帳に追加

Then, if soot 1 is held in a hydrogen fluoride atmosphere, the hydrogen fluoride diffused from the surface into the inside of the soot 1 reacts with the glass of the soot and produces the silicon tetrafluoride. - 特許庁

主成分が二酸化ケイ素である第１基板１１と、主成分がシリコンあるいは化合物半導体あるいは二酸化ケイ素あるいはフッ化物のいずれかである第２基板１２と、第１基板１１と第２基板１２との間に配置される接合機能中間層２８とを備えている。例文帳に追加

The device includes a first substrate 11 employing silicon dioxide as a main constituent, a second substrate 12 employing silicon, a compound semiconductor, silicon dioxide or fluoride as a main constituent, and a bonding intermediate layer 28 arranged between the first substrate 11 and the second substrate 12. - 特許庁

フッ化水素化合物と界面活性剤とを含有する水溶液に、基材上に有機ケイ素系被覆層、酸化物被覆層、又は有機ケイ素系被覆層及び酸化物被覆層を有する物品を浸漬して、前記被覆層の少なくとも一部または全部を除去することを含む基材の再生方法。例文帳に追加

The regenerating method for the base material comprises dipping article having the organic silicon-based coating layer, the oxide coating layer, or the organic silicon-based coating layer and the oxide coating layer on the base material in an aqueous solution containing the hydrogen fluoride compound and the surfactant and removing at least a part or the whole of the coating layer. - 特許庁

第二電極上に形成する無機封止層が、酸化ケイ素、又は窒化ケイ素、酸窒化ケイ素のいずれか一つからなる無機封止膜を形成する工程と、該無機封止膜の表面にフッ素含有ガスを用いたプラズマ処理をおこなう工程とにより形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method of an organic electroluminescent element comprises a process of forming the inorganic sealing layer having an inorganic sealing film composed of either a silicon oxide, a silicon nitride, or a silicon oxynitride on the second electrode, and a process of applying a plasma treatment on a surface of the inorganic sealing film by using fluorine-containing gas. - 特許庁

本発明の硬化性組成物は、所定構造を有する２種の有機ケイ素化合物を含む有機ケイ素化合物を加水分解して縮合物として得られる、ポリオルガノシロキサンと、含フッ素カチオン重合性モノマーと、カチオン重合開始剤とを含有する。例文帳に追加

The curable composition comprises a polyorganosiloxane obtained as a condensate by hydrolyzing organic silicon compounds including two kinds of organic silicon compounds having a specified structure, a fluorine-containing cationically polymerizable monomer and a cationic polymerization initiator. - 特許庁

基材表面に、（Ａ）加水分解性有機ケイ素化合物、（Ｂ）分子中にフッ素原子を有する加水分解性有機ケイ素化合物、及び（Ｃ）多孔質微粒子を含む組成物からの硬化被膜が形成されている透明基材が提供される。例文帳に追加

This transparent base material is obtained by forming a cured coating film from a composition comprising a hydrolyzable organosilicon compound (A), a hydrolyzable organosilicon compound (B) having fluorine atoms in the molecule, and porous particles (C) on the surface of a base material. - 特許庁

本発明は、フッ素含有物からフッ素をフッ化カルシウムとして回収する際、ケイ素化合物の混入をできるだけ低くした状態で回収するフッ素含有物からのフッ素回収方法及びフッ素回収装置を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a recovery method and apparatus of fluorine from fluorine-containing material which recover fluorine in a state of a reduction in the contamination of silicon compounds as low as possible when recovering fluorine from the fluorine-containing material as calcium fluoride. - 特許庁

吸湿剤Ｓが酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化バリウム、フッ化物樹脂、フッ素樹脂を含む群から選択された少なくとも一つの高い水分保持性能を有する物質の外表面に二酸化ケイ素を付着させたもの。例文帳に追加

This hygroscopic agent S comprises silicon dioxide deposited on the outer surface of at least one material having a high water retention capacity selected from a group consisting of calcium oxide, calcium carbonate, barium oxide, fluoride resins, and fluororesins. - 特許庁

本発明の可視光線応答型光触媒１は、基材２上に、酸化チタン層３、金属フッ化物層４、及び酸化ケイ素層５とが順に積層されたものであり、特に好ましい金属フッ化物としてＣａＦ_２などが挙げられる。例文帳に追加

CaF_2, or the like, is cited as an especially preferable metal fluoride. - 特許庁

本発明の繊維構造物は、チタンとケイ素を含む複合酸化物と吸着型消臭剤とが、ケイ素系樹脂およびフッ素系樹脂から選ばれた少なくとも１種のバインダーを介して、繊維上に固着されていることを特徴とするものである。例文帳に追加

This fiber structure is characterized by fixing an adsorption type deodorant and a compound oxide containing titanium and silicon to a fiber through at least one binder selected from silicon resins and fluorine-based resins. - 特許庁

また、本発明の製造方法とは、水溶性化合物の存在下で、金属フッ化物錯体水溶液またはケイ素のフッ化物錯体水溶液から液相析出法によりナノ粒子を析出させるものである。例文帳に追加

The method for producing the nanoparticles comprises depositing nanoparticles from a metal fluoride complex aqueous solution or a silicon fluoride complex aqueous solution in the presence of a water-soluble compound by a liquid phase deposition method. - 特許庁

アルコキシシラン、フッ化水素酸、ヘキサフルオロリン酸およびテトラフルオロホウ酸からなる群より選ばれる１種以上のフッ素原子を含む酸、および水を必須成分とする窒化ケイ素用エッチング液を用いる。例文帳に追加

In the process, an etchant for silicon nitride including an acid and water as essential components is used, the acid containing at least one fluorine atom selected from the group consisting of alkoxysilane, hydrofluoric acid, hexafluorophosphoric acid, and tetrafluoroboric acid. - 特許庁

有機ケイ素化合物（Ａ）、及び、下記式（Ｌ）：［化１］で示される構造単位を有する含フッ素ポリマー（Ｂ）、からなることを特徴とする塗布型絶縁膜形成用含フッ素組成物。例文帳に追加

A fluorine-containing composition for coating type insulating film formation comprises an organosilicon compound (A) and a fluorine-containing polymer (B) having a structural unit shown in the following formula (L). - 特許庁

次いで、管路９のバルブ８を開いて、ガス充填容器３から反応容器２の内部にフッ化水素ガス７を送給し、気相の四フッ化ケイ素２５を生成する。例文帳に追加

A valve 8 on a line 9 is opened, and hydrogen fluoride gas 7 is fed from a gas filled vessel 3 into the reaction vessel 2, and silicon tetrafluoride 25 in gas phase is produced. - 特許庁

所定体積のエッチング剤溶液を含む試験溶液に所定濃度のフッ化物イオンを添加し、試験溶液中のフッ化物イオン濃度を測定することによって、エッチング剤溶液中の低濃度ケイ素を分析する。例文帳に追加

Low concentrations of silicon in an etchant solution are analyzed by adding a predetermined concentration of fluoride ions to a test solution comprising a predetermined volume of the etchant solution, and measuring the concentration of fluoride ions in the test solution. - 特許庁

式CxFy（式中x, yは２以上の整数）で表される不飽和フッ化炭素ガスと式SiaFb（式中a, bは１以上の整数）で表されるフッ化ケイ素ガスを原料ガスとして用いる。例文帳に追加

An unsaturated carbon fluoride gas expressed by formula CxFy (wherein, x, y are each 2 or more integer) and a silicon fluoride gas expressed by SiaFb (wherein, a, b are each 1 or more integer), are used as raw material gases of the fluorinated amorphous carbon film. - 特許庁

フッ素樹脂と、フルオロシリコーン化合物（ケイ素原子に１価含フッ素有機基が結合したオルガノシロキサン単位を含む化合物）を含む塗料組成物。例文帳に追加

This coating composition comprises (A) a fluororesin and (B) a fluorosilicon compound containing (B1) an organosiloxane unit comprising a monovalent fluorine-containing organic group of the formula: X-Rf (Rf is a monovalent polyfluorohydrocarbon group or a monovalent polyfluorohydrocarbon group containing an etheric oxygen atom; X is a divalent organic group). - 特許庁

フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性、硬化性に優れた含フッ素（メタ）アクリル変性有機ケイ素化合物、これを含む硬化性組成物、及び紫外線又は電子線硬化型ハードコート組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a fluorine-containing (meth)acrylic-modified organosilicon compound having excellent characteristics of a fluorine compound, excellent compatibility with a non-fluorine-based organic compound and excellent curability, to provide a curable composition containing the same and to provide a UV-curable type or electron beam-curable type hard coat composition. - 特許庁

ケイ素含有ガスとフッ素含有ガスと窒素含有ガスのガス混合気から生成された高密度プラズマが基板上にニトロフッ化ケイ酸塩ガラスの層を堆積させる。例文帳に追加

A high-density plasma, generated from a gaseous mixture of silicon-, fluorine- oxygen-, and nitrogen-containing gases, deposits a layer of nitrofluorinated silicate glass onto the substrate. - 特許庁

本発明の内視鏡用ゴム部材１５は、フッ素化ポリエーテル骨格とその末端を修飾し且つケイ素を含む架橋反応基とを有する高分子材料を架橋反応させてなるフッ素エラストマを含有したことを特徴とする。例文帳に追加

This rubber member for endoscope 15 comprises a fluorine elastomer obtained by cross-linking reacting a polymer material having a fluorinated polyether frame and a cross-linking reactive group modifying its terminal and containing silicon. - 特許庁

該組成物において、水膨潤性無機層状珪酸塩が、ケイ素原子数を１とするフッ素原子数の割合が０．２５以上の水膨潤性合成フッ素雲母である活性エネルギー線硬化型水性エマルション組成物。例文帳に追加

An active energy beam-curable aqueous emulsion composition in which the water-swellable inorganic layered silicate is a water-swellable synthetic fluorine mica having the ratio of numbers of the fluorine atoms to the silicon atoms being 0.25 or more is also provided. - 特許庁

この方法では、ケイ素含有ガス、酸素含有ガス、及びフッ素含有ガスから生成された高密度プラズマにより、フッ化ケイ酸塩ガラス（ＦＳＧ）の層を基板上に堆積させる。例文帳に追加

In the method, a layer of fluorinated silicate glass(FSG) is deposited on a substrate by a high-density plasma, which is generated from silicon containing, oxygen containing and fluorine containing gases. - 特許庁

つまり、フッ素元素はフッ化物として、リン元素はリン酸及び／又はその塩として、そしてケイ素はケイ酸及び／又はその塩として含有させることが好ましい。例文帳に追加

Namely, the fluorine element is preferably incorporated into the composition in the form of fluoride, the phosphorus element in the form of phosphoric acid and/or its salt and the silicon in the form of silicic acid and/or its salt. - 特許庁

その供与分子は正に荷電した銅を金属銅に還元し、バリア層表面でフッ素と反応して揮発性フッ化ケイ素を生成し、それにより拡散バリア層と銅膜間の付着力を促進する、きれいな界面層を形成する。例文帳に追加

Thereby, the adhesion between the diffusion barrier layer and the copper film is accelerated and a clean interface layer can be formed. - 特許庁

フッ素およびケイ素を含む排水を処理してフッ化カルシウムを回収するにあたり、従来よりも薬品コストを低く抑えることができる排水処理技術（特に前処理技術）を提供すること。例文帳に追加

To provide a technique (particularly a pretreatment technique) for treating wastewater capable of reducing a cost for chemicals lower than a conventional technique in recovering calcium fluoride in treating wastewater containing fluorine and silicon. - 特許庁

高い表面張力低下能を有し、かつ種々の溶剤に対し優れた溶解性を有する含フッ素有機ケイ素化合物及び含フッ素界面活性剤を提供する。例文帳に追加

To provide a fluorine-containing organosilicon compound that exhibits high surface tension-reducing performances and excellent dissolvability in various solvents, and a fluorine-containing surfactant. - 特許庁

フッ化水素酸、多価カルボン酸及び過酸化水素水を含んでなるエッチング剤では、酸化ケイ素、シリコン等の半導体材料を侵すことなく、酸化ジルコニウム及び／又は酸化ハフニウムを溶解することができる。例文帳に追加

An etchant containing a hydrofluoric acid, a polyhydric carboxylic acid, and a hydrogen peroxide solution dissolves the zirconium oxide and/or hafnium oxide without damaging other semiconductor materials, such as the silicon oxide, silicon, etc. - 特許庁

ケイ素化合物の水熱合成反応により得られた結晶を焼成した後、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム及びフッ化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種とアンモニアとを含む水溶液で接触処理することにより、ゼオライトを製造する。例文帳に追加

Crystals obtained by hydrothermal synthesis reaction of a silicon compound are fired and are subjected to contact-treatment with an aqueous solution containing at least one selected from the group composed of potassium fluoride, sodium fluoride and ammonium fluoride and ammonia to thereby produce a zeolite. - 特許庁

フッ素およびケイ素を含む排水にカルシウム化合物を添加して当該排水を凝集沈殿処理する際、前処理として、排水に水酸化ナトリウムを添加（第１反応槽１）してケイフッ化ナトリウムを析出させ、析出したケイフッ化ナトリウムを固液分離して除去する（第１沈殿槽２）。例文帳に追加

As pretreatment before adding a calcium compound to the wastewater containing fluorine and silicon and subjecting the wastewater to flocculation-sedimentation treatment, sodium hydroxide is added to the wastewater (a first reaction tank 1) to precipitate sodium silicofluoride, and the precipitated sodium silicofluoride is removed by solid-liquid separation (a first sedimentation tank 2). - 特許庁

本発明は、光学積層体に用いられるハードコート層であって、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含んでなり、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上であるものである。例文帳に追加

The hard coat layer used for an optical laminate comprises a silicon type compound, a fluorine type compound or a mixture of them as an antifouling agent and/or a lubricant, wherein, according to XPS analysis of the uppermost surface of the hard coat layer, the abundance ratio of silicon atom is at least 10% and/or the abundance ratio of fluorine atom is at least 20%. - 特許庁

撥水性薄膜の蒸着は、フッ素含有有機ケイ素化合物を、プラスチック製光学部材の温度が前記反射防止膜蒸着の際のプラスチック製光学部材の最大温度を超えない条件下で加熱して蒸発させ、蒸発したフッ素含有有機ケイ素化合物を前記反射防止膜を有するプラスチック光学部材上に付着させることにより行われる。例文帳に追加

The vapor deposition of the water-repellent thin film is carried out by heating and vaporizing a fluorine-containing organic silicon compound under the condition that the temperature of the plastic optical member does not exceed the maximum temperature of the plastic optical member in the preceding vapor deposition for the antireflection film, and then by depositing the vaporized fluorine-containing organic silicon compound on the plastic optical member having the antireflection film. - 特許庁

フッ素ゴムと、このフッ素ゴム１００重量部に対して１〜１００重量部のガラス充填剤および／または真球状無孔質シリカ（非晶質二酸化ケイ素）充填剤を含んでなるフッ素ゴム組成物、およびこのフッ素ゴム組成物を加硫成形してなるシール材を、課題の解決手段とした。例文帳に追加

This fluororubber composition is characterized by comprising 100 pts.wt. of a fluororubber and 1 to 100 pts.wt. of a glass filler and/or a spherical non-porous silica (amorphous silicon dioxide) filler, and a sealant prepared by vulcanizing and molding the fluororubber composition. - 特許庁

処理容器１内のサセプタ２にＳｉウエハＷを載置してプラズマエッチングを行なうに際して、処理ガス供給系２３よりフッ化硫黄またはフッ化炭素たとえばＳＦ_６／Ｏ_２ガス系にフッ化ケイ素たとえばＳｉＦ_４を添加した混合ガスをエッチングガスとして処理容器１に導入する。例文帳に追加

For the plasma etching to an Si wafer W placed on a susceptor 2 within a processing vessel 1, a mixed gas obtained by adding silicon fluoride, for example, SiF4 to phosphorus fluoride or carbon fluoride, for example, SF_6/O_2 gas system is introduced as the etching gas to the processing vessel 1 from a processing gas supplying system 23. - 特許庁