「プラズマ周波数」に関連した英語例文の一覧と使い方

３以上の周波数５２，５４，５６でプラズマを励起し、それによって、その前記３以上の周波数によるプラズマの励起がプラズマ中でいくつかの異なる現象を同時に発生させることにより、加工物１８が真空プラズマ処理チャンバ１０内のプラズマで処理される。例文帳に追加

A workpiece 18 is processed with a plasma in a vacuum plasma processing chamber 10 by exciting the plasma at three or more frequencies 52, 54, and 56 such that the excitation of the plasma by the three or more frequencies simultaneously causes several different phenomena to occur in the plasma. - 特許庁

プラズマ処理システム２００は、入力ガスが供給されてプラズマを発生するプラズマ反応器３００と、無線周波数を供給するための周波数発生器４００を備える。例文帳に追加

The plasma processing system 200 comprises the plasma reactor 300 for generating plasma as receiving an input gas and a frequency generator 400 for supplying radio frequency. - 特許庁

セラミックス基体にプラズマ発生電極を埋設させたプラズマ処理部材において、使用する高周波電力の周波数を高めた場合であっても、上部電極とプラズマ処理部材との間でプラズマを発生させる。例文帳に追加

To make plasma to be generated between an upper part electrode and a plasma treatment member even in the case when the frequency of high frequency electric power that is used is elevated in the plasma treatment member in which the plasma generating electrode is embedded in a ceramics base body. - 特許庁

プラズマ形状は線状が良く、プラズマの長さの２倍が電磁波の波長に設定して必要な周波数を得る。例文帳に追加

A plasma form is desired to be linear, and a required frequency is obtained by setting twice of plasma length to be the wavelength of the electromagnetic waves. - 特許庁

高い周波数の容量結合プラズマを用いたイオン分布均一性の高いプラズマリアクタを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor with high ion distribution uniformity, which employs capacitive-coupled plasma of high frequency. - 特許庁

可変垂直同期周波数を有するプラズマディスプレイパネルの駆動方法例文帳に追加

DRIVING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL HAVING VARIABLE VERTICAL SYNCHRONIZATION FREQUENCY - 特許庁

大気圧プラズマを用いた水晶振動子の周波数調整方法及びそれに用いる装置例文帳に追加

METHOD OF ADJUSTING FREQUENCY OF CRYSTAL VIBRATOR USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA AND APPARATUS USED THEREFOR - 特許庁

複数の周波数に同時に応答する電極を備えたプラズマ処理装置の動作方法例文帳に追加

OPERATION METHOD OF PLASMA TREATMENT DEVICE EQUIPPED WITH ELECTRODE SIMULTANEOUSLY RESPONSIVE TO A PLURALITY OF FREQUENCIES - 特許庁

裏面光学センサ及びエッチング分布の多周波数制御を備えたマスクエッチングプラズマリアクタ例文帳に追加

MASK ETCH PLASMA REACTOR WITH BACKSIDE OPTICAL SENSOR AND MULTIPLE FREQUENCY CONTROL OF ETCH DISTRIBUTION - 特許庁

エッチングパラメータの複数の周波数制御を有するプラズマリアクタを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor having multiple frequency control of etch parameters. - 特許庁

プラズマリアクタ用多周波数インピーダンス整合回路網を試験する為の方法および多周波数ダイナミックダミー負荷例文帳に追加

METHOD OF TESTING PLASMA REACTOR MULTI-FREQUENCY IMPEDENCE MATCHING NETWORK NETWORK AND MULTI-FREQUENCY DYNAMIC DUMMY LOAD - 特許庁

プラズマソース周波数に重畳されると共にカソードに印加される切替可能なバイアス周波数を有するプラズマ処理チェンバーを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma treatment chamber having a switchable bias frequency superposed on a plasma source frequency and also applied to a cathode. - 特許庁

プラズマチャンバ内の第１の電極および第２の電極がそれぞれ低周波数ＲＦ電源および高周波数ＲＦ電源に接続されても、プラズマ処理能力が低下しない装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus whose plasma processing performance is not decremented when first and second electrodes within a plasma chamber are connected respectively to a low-frequency RF power source and a high-frequency RF power source. - 特許庁

周波数発生器４００はプラズマ反応器３００にプラズマ発生のための無線周波数電力を提供し、プラズマ反応器３００の動作中に発生する所定の時間内の電源遮断に対して、電源復帰後にプラズマ反応器が動作を中断することなく無線周波数電力を再び供給する。例文帳に追加

The radio frequency generator 400 supplies radio frequency power for plasma generation to the plasma reactor 300, wherein upon power interruption within a predetermined time while the plasma reactor 300 is in operation, the radio frequency generator 400 re-supplies the radio frequency power, without discontinuing the operation of the plasma reactor, after power returns. - 特許庁

周波数の異なる（波長が異なる）高周波電力をプラズマＣＶＤ装置の電極に重畳印加することで、プラズマの高密度化と、プラズマの表面定在波効果が生じないように均一化を図る。例文帳に追加

By overlappingly applying high-frequency power with different frequencies (different wavelength) to an electrode of a plasma cvd apparatus, high density of plasma and plasma uniformity without plasma surface standing wave effect are achieved. - 特許庁

プラズマ源はＲＦプラズマエネルギーを印加することによりフルオロカーボンガスをイオン化し、第２のプラズマ源はＲＦ周波数で基板にセルフバイアスを印加する。例文帳に追加

The plasma source ionizes the fluorocarbon gas by applying RF plasma energy thereto, and the second plasma source applies a self-bias to the substrate in an RF frequency. - 特許庁

別の実施形態において、本方法は周波数の関数としてのプラズマのプラズマインピーダンスモデルを提供し、モデルを用いて少なくとも１つのプラズマ特性を求めることを含む。例文帳に追加

In another embodiment, the method includes a step in which a plasma impedance model of the plasma as a frequency function is provided so as to calculate at least one plasma characteristic by using the model. - 特許庁

平行平板型プラズマ処理装置において、プラズマの点火より前に、被処理基板を保持する電極に、プラズマが点火しないような周波数のバイアスを印加する。例文帳に追加

In a parallel flat plate plasma processing apparatus, before ignition of a plasma, such a bias at a frequency at which the plasma is not ignited is applied to an electrode which holds a substrate to be processed. - 特許庁

プラズマを用いた処理を行うプラズマ処理装置であって、処理室内に発生するプラズマの状態あるいは排気配管に付着した反応性生成物の付着量を、周波数測定装置を用いて検出する。例文帳に追加

The plasma processing device conducts processing using plasma and detects the condition of plasma generating in a processing chamber or the adhesive quantity of a reactive product adhered to exhaust piping by using a frequency-measuring device. - 特許庁

高周波プラズマ処理方法は、プラズマ処理装置（１）に高周波電力を供給し、かつ、プラズマ処理装置（１）側のインピーダンスの変動に応じて発振周波数を整合させる。例文帳に追加

In a high-frequency plasma treatment method, high-frequency power is supplied to a plasma treatment apparatus 1, and an oscillation frequency is conformed according to a variation in impedance of the plasma treatment apparatus 1. - 特許庁

また、プラズマ吸収周波数といったプラズマ密度情報に基づいて、生成用電力操作部１１や処理用電力操作部１３等を操作してプラズマ処理を行うことができる。例文帳に追加

Plasma treatment can be performed, by conducting a generation electric power operation part 11 and a treatment electric power operation part 13, based on plasma density information such as plasma absorption frequency. - 特許庁

プラズマ生成用高周波電力に重畳する高周波電力とバイアス用高周波電力の位相，周波数，パワーを容易に変更可能なプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma treating device and a plasma treating method which can easily change the phase, the frequency, and the power of the high frequency power to be superposed on high frequency for plasma generation and the high frequency power for bias. - 特許庁

電子密度に基づいたプラズマの周波数を電磁波の送受信構造として分析し、プラズマの当該電子密度を測定およびモニタリングするアンテナ構造の周波数探針器を有する構造のプラズマ電子密度測定およびモニタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma electron density measuring and monitoring device having a frequency probe in an antenna structure for analyzing plasma frequency based on an electron density as a transceiving structure of an electromagnetic wave to measure and monitor the electron density of the plasma. - 特許庁

一実施形態において、プラズマ特性を求めるための方法は、プラズマに異なる周波数で結合された第１及び第２波形の電流及び電圧情報のメトリックを得て、周波数の異なる波形のそれぞれから得たメトリックを用いて少なくとも１つのプラズマ特性を求めることを含む。例文帳に追加

In one embodiment, the method for calculating plasma characteristics includes a step in which each metric of current and voltage information of first/second waveforms connected to plasma at different frequencies are obtained so as to calculate at least one plasma characteristic while using the metrics obtained from each of the waveforms that have different frequencies. - 特許庁

ここで、プラズマ密度を増加するため、プラズマ発生用の印加周波数に工業用周波数として幅広く用いられているＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）を用いず、より周波数の高いマイクロ波を用いて真空成膜を行う。例文帳に追加

Here, in order to increase the plasma density, the method of forming the films in a vacuum includes using a microwave having higher frequency than an RF (13.56 MHz) as a frequency to be applied for generating plasma, instead of using the RF which is widely used as an industrial frequency. - 特許庁

同時にアクティブな全ての動作周波数に対して試験可能なプラズマリアクタ多周波数整合回路網を試験する為の方法および多周波数ダイナミックダミー負荷を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of testing a plasma reactor multi-frequency matching network capable of testing all active operation frequencies simultaneously, and provide a multi-frequency dynamic dummy load. - 特許庁

システムはさらにＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ与える。例文帳に追加

The system, further, gives a first RF power to an electrode in the plasma chamber by a frequency respectively within the one frequency interval which is allocated the M pieces of predetermined frequency intervals. - 特許庁

更に別の実施形態において、本方法は周波数の関数としてのプラズマのプラズマインピーダンスモデルを提供し、プラズマに結合され、少なくとも２つの異なる周波数を有する波形について電流と電圧を測定し、モデルと測定した波形の電流と電圧とからプラズマのイオン質量を求めることを含む。例文帳に追加

In other embodiment, the method includes a step in which the plasma impedance model of the plasma as a frequency function is provided and a current and voltage of a waveform that is connected to the plasma and has at least two different frequencies are measured so as to calculate ion mass of the plasma from the model and the measured current and voltage of the waveform. - 特許庁

プラズマ３は、パルス状電流のパルス繰り返し周期が、プラズマ３の寿命より短く調整され、パルス状電流の高周波数シーケンスによって、プラズマ３が、放出圧縮プラズマ３１の高エネルギ状態と緩和プラズマ３２の低エネルギ状態との間で周期的に交替しながら維持される。例文帳に追加

The plasma 3 is preserved by means of a high-frequency sequence of pulse-shaped currents the pulse repetition period of which is adjusted so as to be shorter than a lifetime of the plasma 3 so that the plasma 3 is kept periodically alternating between a high-energy state of an emitting compressed plasma 31 and a low-energy state of a relaxing plasma 32. - 特許庁