「マグネトロン放電」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

マイクロ波を発生するマグネトロンおよび導波管を介してマイクロ波に基づき、紫外線を発光することが可能な放電媒体が封入された無電極ランプ１２が収容されたランプハウス１１からモジュール化された紫外線照射部１００を構成する。例文帳に追加

An ultraviolet irradiation part 100 made in a module is constructed of a lamp house 11 in which a magnetron to generate microwave and an electrodeless lamp 12 filled with a discharge medium capable of emitting ultraviolet rays based on the microwave through a waveguide are housed. - 特許庁

磁石アレイ９により容器２内側に形成される磁場と、副陽極１０、副陰極１１間に印加される電圧により形成される電場とは略直交するため、マグネトロン放電が起きてプラズマが発生し容器２内に導入された重水素分子がイオン化される。例文帳に追加

Because a magnetic field formed inside of the container 2 by the array 9 and an electric field formed by a voltage impressed between the sub-anode 10 and the sub-cathode 11 intersect approximately perpendicularly with each other, magnetron discharge is caused to generate plasma so that deuterium molecules introduced into the container 2 are ionized. - 特許庁

成膜時のフィルム表面の温度をコントロールし、表面に膜を形成するための温調入りメインロール３４と、マグネトロンを備えホロカソード放電が可能な電極３６と、原料導入パイプ３８を備える真空成膜装置によりなる。例文帳に追加

The vacuum film deposition system comprises: a temperature controller-containing main roll 34 for controlling the temperature of a film surface upon film deposition and forming a film on the surface; an electrode 36 provided with a magnetron and capable of hollow cathode discharge; and a raw material introduction pipe 38. - 特許庁

プラズマをターゲット表面の広範囲に発生させることが可能な磁場形状を実現し、ターゲット材料の利用効率を向上させ、ダストや異常放電を抑制することを可能とするマグネトロンスパッタ装置、および当該装置を用いたスパッタリング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering apparatus which realizes such a magnetic field shape as to enable plasma to be generated in a wide region over the surface of a target, enhances a use efficiency of a target material, and can inhibit dust and abnormal electrical discharge, and to provide a sputtering method using the apparatus. - 特許庁

可動フレームは、ターゲットの表面に対して垂直方向へ延び且つ電動機１７により回転される螺桿１６に取り付けられ、該電動機を、該ターゲットの表面上に発生するマグネトロン放電の放電電圧の変動に応じて該電動機の正逆回転を制御するコントローラ２１に接続した。例文帳に追加

The movable frame is fitted to a screw 16 extending to the direction vertical to the surface of the target and rotating by an electric motor 17, and the electric motor is connected to a controller 21 controlling the forward and backward rotation of the electric motor in accordance with the fluctuation of the discharge voltage of magnetron discharge generated on the surface of the target. - 特許庁

熱エネルギーを与え、吸着脱離時間を短縮させ、電子の運動エネルギーを増加させることで放電開始時間を短縮することとし、また、複数種の定電流を切り換えてマグネトロン真空計の両端電圧、周波数及び振幅を測定してその各定電流による測定値データを比較して真空度を表示することとする。例文帳に追加

The magnetron vacuum gage gives thermal energy to shorten an adsorption desorption time and shortens a discharge start time by increasing motion energy of electrons, in addition, measures both end voltages, a frequency and amplitude of the magnetron vacuum gage by switching over a plurality of the constant currents to compare measured value data by each constant current so as to display a degree of vacuum. - 特許庁

マグネトロン１３を駆動させる高圧電源１２から構成する点灯装置１１が収納される筐体１４および放電媒体が封入されている無電極ランプ２７を収納し、下面から無電極ランプ２７から照射される紫外線が照射可能な構成としたランプハウス２０とを導波管１６を用いて電磁的、機械的に接合する。例文帳に追加

A casing 14 which houses a lighting device 11 including a high-voltage power source 12 for driving a magnetron 13 is electromagnetically and mechanically joined to a lamp house 20 which houses an electrodeless lamp 27 with a discharge medium sealed therein in such a manner that it can be irradiated with ultraviolet ray emitted from the electrodeless lamp 27 from the lower surface side by use of a waveguide 16. - 特許庁

さらに、ターゲット・シャッタ構成（８，８′）が、覆われた状態でシャッタ（８）とターゲット（１２）との間隔が３５ｍｍよりも小さく、こうして上記ターゲットの背後でマグネトロンまたは陰極のスパーク放電の点火および動作が可能となり、他方ではターゲット（８）をオフにした際に副プラズマの点火が防止されるように構成される。例文帳に追加

A target-shutter arrangement (8, 8') is designated so that when covered, the distance between the shutter (8) and the target (12) is less than 35 mm, thus allowing ignition and operation of a magnetron or cathode spark discharge behind the target, but preventing ignition of auxiliary plasma when the target (8) is turned off. - 特許庁

シリコンを主成分とするメインターゲット１ｍ上に該ターゲットと同様にシリコンを主成分とし、かつ面積が該メインターゲットより小さいサブターゲット１ｓを複数個配置したスパッタリングカソードをマグネトロン放電させ、かつ基板ホルダ７に載置した基板８に薄膜を形成することで解決できる。例文帳に追加

A sputtering cathode on which multiple sub-targets 1s, mainly composed of silicon similarly to a main target 1m mainly composed of silicon and having an area smaller than that of the main target, are arranged is subjected to magnetron discharge, and a thin film is formed on a substrate 8 mounted on a substrate holder 7. - 特許庁

プラスチック材料からなるフィルム基材の少なくとも一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層を少なくとも設けてなる蒸着フィルムを製造方するに際し、蒸着層形成後にその表面にマグネトロン放電を使用したプラズマ後処理を処理ユニット圧力８Ｐａ〜１００Ｐａにて施す。例文帳に追加

When producing the strongly bonded vapor deposition film by providing at least the vapor deposition layer comprising the inorganic oxide on at least one side of the film base material comprising the plastic material, plasma post-treatment using magnetron discharge is applied to the surface of the vapor deposition layer under treatment unit pressure of 8-100 Pa. - 特許庁

一端が開口し他端が閉じた中空部を有する円筒状炭素ターゲットが配置され、該中空部にプラズマが発生するように構成され、該ターゲットの開口部と基板との間の距離が、Ｈｖ＝１５００ｋｇｆ／ｍｍ^2以上の膜硬度を有するアモルファス炭素が形成されるように離してあるマグネトロン放電型スパッタ装置。例文帳に追加

In a magnetron discharge type sputtering apparatus, a cylindrical carbon target having a hollow portion with one end opened and the other end closed is disposed, the plasma is generated in the hollow portion, and an aperture of the target is separated from a substrate so as to deposit the amorphous carbon having the film hardness Hv≥1,500 kgf/mm2. - 特許庁

そして、金属製チャンバ−１の上部からマグネトロン３によって発生されたマイクロ波を金属製チャンバ−１内に照射しながら反応ガスの存在下に被処理基板７とグランド側電極板９との間の高周波電位差により被処理基板７とグランド側電極板９の間に発生するグロ−放電を利用して多数の被処理基板７の両面を同時に所要のプラズマ加工処理する。例文帳に追加

Both surfaces of the boards 7 are simultaneously processed by plasma by the use of a glow discharge generated between the boards 7 and the ground-side electrode plates 9 by high-frequency potential difference between the boards 7 and the ground-side electrode plates 9 in the presence of a reactive gas while a microwave generated by a magnetron 3 is applied into the metal chamber 1 from the top of the metal chamber. - 特許庁

電界と磁界とにより処理容器内にマグネトロン放電を起こしてプラズマを生成し、このプラズマを用いて基板をプラズマ処理する基板処理方法であって、基板を処理容器内に搬入する工程と、処理容器内にガスを供給してプラズマにより活性化させ、基板上に膜を形成する工程と、処理後の基板を処理容器から搬出する工程とを備える。例文帳に追加

The substrate processing method for generating plasma by incurring magnetron discharge within a processing vessel by an electric field and a magnetic field, and for performing plasma processing on a substrate using the plasma includes the steps of: carrying the substrate into the processing vessel; forming a film on the substrate through activation using plasma by feeding gases into the processing vessel; and carrying the treated substrate out of the processing vessel. - 特許庁

このように高圧トランス２１が局部的に異常発熱しようとする兆候すなわちコロナ放電の発生を検出できるようにすることで、高圧トランス２１が局部的に異常発熱する以前にマグネトロン２４の動作を停止させるように対処しているから、高圧トランスの万一の異常発熱を阻止できるようになる。例文帳に追加

By detecting such a sign that the high voltage transformer 21 may locally cause abnormal heat generation, or generation of corona discharge, since operation of the magnetron 24 can be stopped before the high voltage transformer 21 locally generates heat, accidental heat generation of the high voltage transformer can be prevented. - 特許庁

電磁シールド機能を有するランプハウス１１に、マグネトロン１３が発生するマイクロ波により紫外線を発光させる放電媒体が封入されている無電極ランプ１２を収納し、ランプハウス１１の下方から外部に紫外線を照射させるスクリーン２１を配置して紫外線照射部１０Ａを構成する。例文帳に追加

An ultraviolet ray irradiation unit 10A is constituted by housing an electrodeless lamp 12, in which discharge medium emitting ultraviolet ray by microwave generated by a magnetron 13 is enclosed, in a lamp house 11 having an electromagnetic shield function, and by arranging a screen 21 irradiating ultraviolet ray outside from under the lamp house 11. - 特許庁