「低気圧放電」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

プラズマ放電領域への空気の流入を防止し、処理室内の空気濃度が十分低く保持でき、雰囲気ガス中で、放電効率が高く、表面処理効果の大きい、大気圧低温プラズマ放電による表面処理装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a surface-treating apparatus using an atmospheric low- temperature plasma discharge, capable of preventing air from flowing in the plasma discharge region, capable of retaining a sufficiently low air concentration in the treating chamber and having a high discharge efficiency and surface effect in an atmospheric gas. - 特許庁

大気圧窒素誘電体−バリア放電処理装置内のＨ_2Ｏを測定および制御することによって、大気圧窒素誘電体−放電が、予め定められた量よりも低いＨ_2Ｏのレベルを有するように維持され、望ましい特性を生じるポリマー物質のための表面処理をもたらすことができる。例文帳に追加

The atmospheric-pressure nitrogen dielectric-barrier discharge may be maintained with a level of H_2O below a pre-defined amount, by measuring and controlling the H_2O within an atmospheric-pressure nitrogen dielectric-barrier discharge treater, to produce a surface treatment for a polymer substance that yields desirable characteristics. - 特許庁

大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus for performing easy electric discharge under the atmospheric pressure with the existence of nitrogen while enduring long-time streamer electric discharge to provide an object with wide-range uniform processing with low damage in a shorter processing time. - 特許庁

バリヤー放電、および、バリヤー放電で生じた励起分子またはイオンと試料との反応による試料のイオン化を、大気圧よりも低圧下で行う。例文帳に追加

A barrier discharge and sample ionization by reacting an excited molecule or ion generated by the barrier discharge with the sample are performed under a pressure lower than an atmospheric pressure. - 特許庁

従って、線間放電が発生しやすい気圧の低下時に、印加電圧の上限値を制限することで、線間放電が発生しにくい状態にモータジェネレータ２０，３０を制御する。例文帳に追加

Thereby, it controls the motor generators 20 and 30 to be in a state where interline discharge is hard to occur, by limiting the upper limit value of applied voltage at atmospheric pressure drop where interline discharge is easy to occur. - 特許庁

大気圧近傍でHe等の特殊かつ高価な気体を用いることなく、均一かつ活性な放電を生成する放電装置および放電方法を実現し、耐熱性の低い絶縁性のプラスチック等にも均一な表面処理を施せる連続体の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To put in practice a discharge system and a discharge method which generate uniform and active discharge without using special and expensive gas like He(helium) around the atmospheric pressure, and to provide a continuum manufacturing method capable of giving a uniformed surface treatment to low heat-resistant insulating plastic and the like. - 特許庁

本発明の誘導放電限界回路を用いた安定器１０１は、高圧放電ランプ１０と接続し、前記高圧放電ランプ１０の待機時において、前記高圧放電ランプ１０に封入された水銀及び遷移金属元素の蒸気圧を臨界圧力まで低下させて不活性ガスをイオン化させる直列共振コンバーター８０を備えている。例文帳に追加

This ballast 101 using the inductive discharge limiting circuit is connected to a high voltage discharge lamp 10 and includes a serial resonant converter 80 that lowers the vapor pressures of mercury and a transition metal element sealed in the high voltage discharge lam 10 to a critical pressure during the stanby of the high voltage discharge lamp 10, which ionizes the inactive gas. - 特許庁

半導体素子の製造工程における低誘電率層間絶縁薄膜の製造において、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して発生させ、安定してグロー放電プラズマ処理を行う方法を用いる製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor element, using a method for stably glow discharge plasma treatment by continuously generating a uniform glow discharge plasma under a pressure close to the atmospheric pressure, when manufacturing a low permittivity interlayer insulating thin film in the manufacturing step of the element. - 特許庁

蒸気圧が低く、室温においても、イオン伝導度が高く、かつリチウムイオン輸率が高いイオン伝導性電解質を提供し、また、そのイオン伝導性電解質を用いて、安全性が高く、かつ放電特性が優れた電池を提供する。例文帳に追加

To provide an ion conductive electrolyte having high ion conductivity and a high ion lithium transference, and to provide a battery having high safety and excellent discharge characteristics by using the ion conductive electrolyte. - 特許庁

大気圧・窒素中の放電が容易で、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing device facilitating discharge in atmospheric-pressure nitrogen, capable of executing uniform processing in a wide range and of executing low-damage processing to an object, and reduced in processing time. - 特許庁

特殊材料ガスを用いることなく、放電効率の低下を回避して大面積基板にＳｉなどを成膜できる大気圧プラズマ成膜装置及び方法を得ること。例文帳に追加

To provide an atmospheric pressure plasma film-forming apparatus that can form Si or the like on a large area substrate by avoiding the deterioration of discharging efficiency without using special material gas, and to provide a method for performing the film formation. - 特許庁

本発明の目的は、連続製膜において、膜厚の分布、特に幅手方向の膜厚均一性がよく、濁度の低い、硬い良質な膜が得られる大気圧プラズマ放電処理方法を得ることにある。例文帳に追加

To provide an atmospheric pressure plasma discharge treatment method for obtaining a hard film of excellent film thickness distribution, in particular, excellent film thickness uniformity in the width direction, low turbidity and excellent quality in a consecutive film deposition. - 特許庁

本発明のプラズマ電極は、電圧の印加により大気圧プラズマを発生する放電部を少なくとも備え、該放電部の放電面の少なくとも一部に複数の突起部を有し、該突起部間に光触媒活性を有するアパタイトを、該突起部の高さよりも低くなるよう担持させたことを特徴とする。例文帳に追加

The plasma electrode related to this invention is characterized in that it has at least a discharger to generate atmospheric plasma by applying voltage, and in that this discharger has a plurality of projections at least at part of its discharge surface, and carries the apatite with photocatalyst activity between these projections on a level lower than the height of the projections. - 特許庁

ＥＣＵ４０は、常気圧よりも低い低気圧下で部分放電開始電圧ＤＬが通常設定時のモータ内最大電圧差ΔＶ１よりも下がった際に、モータＭＧへの供給電流が、少なくともモータジェネレータＭＧが必要トルクを発生するに必要な実効値と位相になるようにインバータ３０の電力変換動作を制御する。例文帳に追加

The ECU 40 controls power conversion operation of the inverter 30 so that current supplied to the motor MG takes an effective value and a phase that are required for allowing at least the motor generator MG to generate a required torque when the partial discharge starting voltage DL is lower than the maximum voltage difference ΔV1 inside the motor in the normal setting under a low atmospheric pressure lower than a normal atmospheric pressure. - 特許庁

ランタノイドに属する希土類金属のハロゲン化物を封入し、希ガスとしてキセノンを０．５〜１０気圧封入した水銀フリーの構成において特有の電極損耗に伴う放電アークの不安定および透光性セラミックス気密容器の黒化による光束維持率低下を効果的に抑制した高圧放電ランプを提供する。例文帳に追加

To provide a high pressure discharge lamp that effectively suppresses instability of a discharge arc in accordance with peculiar electrode wear and degradation of a lumen maintenance factor caused by blackening of a translucent ceramic airtight container, in a mercury-free structure wherein halide of rare earth metal belonging to lanthanoid is sealed and xenon as noble gas is sealed at a pressure of 0.5-10 atmospheres. - 特許庁

誘電体層３を被覆する保護層が、電子線によって励起されることにより波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む結晶酸化マグネシウム層５を有し、放電空間Ｓ内に封入される放電ガスが、大気圧に対して８０ｔｏｒｒ以上低い値を維持する圧力に設定されている。例文帳に追加

A protection layer coating a dielectric layer 3 has a crystalline magnesium oxide layer 5 containing magnesium oxide, performing cathode luminescence light emission having a peak within a wavelength band of 200 to 300 nm by being excited by electron beam, and discharge gas sealed inside a discharge space S is set at a pressure maintaining a value lower than an atmospheric pressure by 80 torr or more. - 特許庁

周囲温度が極端に低い場合や高い場合でも、温度検知手段を別に設ける必要がなく、しかも点灯方向にかかわりなく水銀蒸気圧を制御することで、安定した光出力が得られることを可能とした無電極放電灯装置および照明器具を提供する。例文帳に追加

To provide an electrodeless discharge lamp device allowing stable optical output to be provided by controlling mercury vapor pressure without needing to separately installing a temperature detection means even when an ambient temperature is extremely low or high regardless of the lighting direction, and to provide a luminaire. - 特許庁

大気圧下のプラズマを用いてプロセスを行なう装置において、プラズマ放電を支援するためのガスの使用量を低減でき、またプロセスを安定して再現性良く行なうことが可能なプラズマプロセス装置およびプラズマプロセス方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma process device and a plasma process method wherein, in a device which carries out a process by using a plasma under an atmospheric pressure, it is possible to reduce an amount of a used gas for supporting plasma discharging, and to stabilize and execute the process with a good repeatability. - 特許庁

基材上の少なくとも片面に、２層以上からなる反射防止層を有し、該層のうち高屈折率層が金属アルコキシドのモノマー、オリゴマー、あるいはその加水分解物を溶解した塗布液を塗工する方法によって形成され、かつ、低屈折率層が放電ガスに窒素を用いた大気圧プラズマＣＶＤ法で形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。例文帳に追加

The antireflective film has an antireflective layer formed of two or more layers on at least one surface of a base material; and a high-refractive-index layer of the layer is formed by a method of applying coating liquid in which a monomer or oligomer of metal alkoxide or its hydrolysate is dissolved and a low-refractive-index layer is formed by an atmospheric pressure plasma CVD method using nitrogen as discharge gas. - 特許庁

半導体素子における低誘電率層間絶縁薄膜の形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、薄膜を形成することを特徴とする半導体素子の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the semiconductor element comprises the steps of introducing a material gas between the counterposed electrodes under the pressure which is close to the atmospheric pressure, in the case of forming the low permittivity interlayer insulating thin film in the element, applying a pulse-like electric field between the opposed electrodes to generate the glow discharge plasma in the material gas, and forming the thin film. - 特許庁