「薄膜蒸発装置」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

有機ＥＬ素子の製造装置において、有機薄膜層の機能が高温で損なわれるのを防止しつつ、金属電極材料の補充のための金属材料蒸発源の移動操作と加熱源への通電操作とを効率良く行う有機ＥＬ素子の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an organic EL element manufacturing apparatus which can efficiently perform the moving operation of a metal material evaporation source to supply a metal electrode material and an energization operation to a heat source while preventing the function of an organic thin film layer from being impaired at high temperature. - 特許庁

真空中で基板上に薄膜を蒸着形成する際に、簡易な装置構成で、装置コストの低減を図ることができ、また大面積で均一な膜厚分布を容易に得ることができるようにし、更に、蒸発材料の使用効率が良く、材料のむだを減らすことができるようにする。例文帳に追加

To provide a vapor deposition system for forming vapor-depositing a thin film on a substrate in a vacuum which has a simple constitution, can reduce its cost, can easily obtain a uniform film thickness distribution in a large area, and can efficiently use an evaporation material to reduce the waste of the material. - 特許庁

任意の固体材料に関して、液体化した材料の蒸発による成分および固体ターゲットアブレーションにおける微粒子の発生を抑えることにより、良好な膜質の薄膜を形成することができるレーザアブレーション成膜装置の提供。例文帳に追加

To provide a laser ablation film deposition apparatus capable of forming a thin film with a good film quality, by suppressing evaporation of a liquefied material when using an arbitrary solid material and suppressing production of particulates in solid target ablation. - 特許庁

放射線画像変換パネルの蛍光体を蒸着法で成膜するときに、突沸や再蒸発による膜欠陥がない薄膜を作製することを可能とする蒸着装置、及び、該成膜方法を用いた放射線画像変換パネルの蛍光体の成膜方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a vapor deposition apparatus in which a thin film, which does not possess film defects to be generated by sudden boiling or re-evaporation, can be deposited when a phosphor of a radiation image transformation panel is deposited by a vapor deposition method and to provide a method for depositing the phosphor of the radiation image transformation panel by using the vapor deposition apparatus. - 特許庁

有機化合物を安定して保存できると共に、真空蒸着時に突沸現象の発生を抑えることができ、安定して薄膜を形成することができる真空蒸着用原料ユニット、真空蒸着用蒸発源および真空蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a unit of raw materials for vacuum vapor deposition, which can stably preserve an organic compound, inhibit the raw materials from causing bumping during a vacuum vapor deposition process, and stably form a thin film; an evaporation source for vacuum vapor deposition; and a vacuum vapor deposition apparatus. - 特許庁

触媒の存在下でアルキレンオキシドと（メタ）アクリル酸とを反応させ、反応後の反応液中の未反応アルキレンオキシドおよび／または未反応（メタ）アクリル酸を除去して得られるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの精製方法において、空塔部分を有する蒸留装置と薄膜式蒸発装置とを併用する。例文帳に追加

In this method for purifying the hydroxyalkyl (meth)acrylate comprising reacting an alkylene oxide with (meth)acrylic acid in the presence of a catalyst, removing the unreacted alkylene oxide and/or the unreacted (meth) acrylic acid from the resulting reaction mixture, then purifying the obtained hydroxyakyl (meth)acrylate, the purification is carried out by together using a distillation still having a void space and a thin-film evaporator. - 特許庁

反応炉内に分解付着物が生成しないような構造とすることにより基板上への異物の付着を抑制し、分解付着物の再蒸発によるエピタキシャル薄膜の劣化を抑制でき、かつ反応炉内の分解付着物を取り除くためのメンテナンス回数を削減可能な構造の化合物半導体エピタキシャル成長装置を提供する。例文帳に追加

To provide a compound semiconductor epitaxial growth device having a structure capable of suppressing deterioration of an epitaxial thin film by re-evaporation of decomposition extraneous matter by suppressing adhesion of foreign matter onto a substrate by allowing the structure to prevent generation of the decomposition extraneous matter in a reactor, and reducing the number of times of maintenance for removing the decomposition extraneous matter in the reactor. - 特許庁

直径２０ｎｍ以下の金属微粒子を溶媒中に分散した溶液を、半導体基板上に塗布する工程と、溶媒を蒸発させる工程と、金属微粒子と半導体基板を反応させ、半導体基板表面に金属半導体化合物薄膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing a semiconductor device includes: a step of applying a solution wherein fine metal particles having a diameter of ≤20 nm are dispersed in a solvent, onto the semiconductor substrate; a step of evaporating the solvent; and a step of forming a metal-semiconductor compound thin film on a surface of the semiconductor substrate by causing the reaction between the fine metal particles and the semiconductor substrate. - 特許庁

チオ硫酸塩に代えて特定のヘテロ５員環アゾリウムチオレート化合物を含有する漂白定着液を使用し、かつ使用済み写真廃液を薄膜式蒸発濃縮装置によって固化し、固化物を漂白定着処理剤として再生使用することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。例文帳に追加

In the processing method for a silver halide color photographic sensitive material, a bleach-fixing solution containing a specified 5-membered heterocyclic azoliumthiolate compound in place of a thiosulfate is used, a used photographic solution is solidified with a thin film system evaporative concentration apparatus, and the resulting solidified substance is recycled as a bleach-fixing agent. - 特許庁