「薄膜蒸発装置」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置例文帳に追加

EVAPORATION SOURCE AND THIN FILM FORMATION DEVICE USING THE SAME - 特許庁

蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置例文帳に追加

EVAPORATION SOURCE, AND THIN-FILM-FORMING APPARATUS USING IT - 特許庁

薄膜流下型真空蒸発濃縮装置の制御方法及び装置例文帳に追加

THIN FILM FALLING TYPE VACUUM EVAPORATOR CONTROL METHOD AND DEVICE - 特許庁

遠心式薄膜真空蒸発装置が具えられた濃縮装置並びにその運転方法例文帳に追加

CONCENTRATION DEVICE INCLUDING CENTRIFUGAL THIN FILM VACUUM EVAPORATOR AND OPERATION METHOD FOR THE SAME - 特許庁

遠心式薄膜真空蒸発装置が具えられた濃縮装置並びにその運転方法例文帳に追加

CONCENTRATION SYSTEM INCLUDING CENTRIFUGAL THIN FILM VACUUM EVAPORATOR, AND METHOD OF OPERATING THE SAME - 特許庁

本発明の薄膜形成装置は、基板に対して薄膜を形成するための真空槽内に、３つの細長の蒸発源３が平行に配設されている。例文帳に追加

The thin film-forming apparatus has three slender evaporation sources 3 in parallel arranged in a vacuum chamber for forming a thin film on a substrate. - 特許庁

均一な膜厚分布の有機薄膜を形成しうるとともに蒸発源からの熱の影響を防止しうる薄膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film-forming apparatus for forming an organic thin film having uniform film-thickness distribution without being affected by heat from an evaporation source. - 特許庁

蒸発源3から蒸着物質を蒸発させ、メタルマスク4を介して有機ＥＬ表示装置用基板1の上に有機薄膜2を蒸着する。例文帳に追加

An evaporant is evaporated from an evaporation source 3 and an organic thin film 2 is vapor-disposed on a substrate 1 for an organic EL display device via a metal mask 4. - 特許庁

複雑な構造を必要とすることなく、遠心薄膜式蒸発装置の有する特徴を効率よく発揮することが可能で、コストの増大を抑制しつつ、大型化を図ることが可能な遠心薄膜式蒸発装置を提供する。例文帳に追加

To provide a centrifugal thin film type evaporation apparatus which requires no complicated structure, efficiently exerting features of the centrifugal thin film type evaporation apparatus, and is made large-sized while suppressing an increase in the cost thereof. - 特許庁

本発明の薄膜形成装置は、所定の基板５に対して薄膜を形成するための真空槽２と、蒸発源３と、基板５と蒸発源３との間の空間を仕切る仕切り部７とを有している。例文帳に追加

The thin film-forming apparatus has a vacuum chamber 2 for forming the thin film on a predetermined substrate 5, an evaporation source 3, and a partition part 7 for partitioning a space between the substrate 5 and the evaporation source 3. - 特許庁

水晶発振式膜厚モニタ装置、及び、これを用いたＥＬ材料の蒸発源装置と薄膜形成装置例文帳に追加

CRYSTAL OSCILLATION-TYPE FILM THICKNESS MONITORING DEVICE AND EVAPORATION SOURCE DEVICE AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM OF EL MATERIAL USING THE SAME - 特許庁

また、真空槽と、前記真空槽中に樹脂材料を供給するための供給装置と、前記樹脂材料を蒸発させるための蒸発装置と、蒸発した前記樹脂材料を付着させて樹脂薄膜を形成するための支持体とを有する薄膜の製造装置において、前記樹脂材料を予め脱泡する手段を備えた薄膜の製造装置とする。例文帳に追加

The thin film manufacturing system has a vacuum chamber, a feeding device for feeding resin material into the vacuum chamber, an evaporation system for evaporating the resin material and a substrate for the deposition of the evaporated resin material thereon and the resultant deposition of a thin resin film thereon and is provided with a means of previously defoaming the resin material. - 特許庁

本発明の薄膜形成装置は、真空槽２と、真空槽２内において所定のピッチＰで配設された複数のホスト蒸発源３０及びドーパント蒸発源３１から構成される蒸発部３とを備えている。例文帳に追加

This thin film deposition apparatus comprises a vacuum tank 2, and an evaporation unit 3 comprising a plurality of host evaporation sources 30 and dopant evaporation sources 31 which are disposed in the vacuum tank 2 at a predetermined pitch P. - 特許庁

反応液の残渣を、遠心薄膜蒸発装置を適用した第二連続解重合装置５４に連続供給し、さらにラクチドを生成させる。例文帳に追加

The residue of the reaction liquid is continuously supplied to a second continuous depolymerizing device 54 to which a centrifugal thin film evaporation device is applied and the lactide is further formed. - 特許庁

味噌の製造過程で生じた大豆煮汁を攪拌型薄膜蒸発装置に投入して濃縮液を生成する。例文帳に追加

A concentrated solution is produced by loading the soybean stock produced in the manufacturing process of the Miso, into a stirring-type thin film evaporator. - 特許庁

蒸発源からマスクへの熱の影響を防止して正確な領域に膜を形成しうる薄膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film deposition apparatus which can deposit a film in a correct area by preventing any thermal influence from an evaporation source to a mask. - 特許庁

薄膜蒸発装置１の胴体２内において、ワイパ２３を備えるロータ４が設けられる駆動軸３のシール部材５を被覆するように、チャンバ７を設けて、薄膜蒸発装置１の運転時には、そのチャンバ７内を窒素ガスで封入する。例文帳に追加

Inside the body 2 of the thin film evaporation device 1, a chamber 7 is provided so as to cover the seal member 5 of a drive shaft 3 provided with a rotor 4 having a wiper 23, and gaseous nitrogen is enclosed inside the chamber 7 during the operation of the thin film evaporation device 1. - 特許庁

真空チャンバＡ内で蒸発点が所定の周期で移動するよう蒸発源３ａ、３ｂを加熱して蒸発材料を蒸発させ、一定の回転数で回転される基材８に該蒸発材料を蒸着させ前記蒸発材料の薄膜を形成する蒸着装置及び方法において、前記基材８の回転数を変化させる。例文帳に追加

In the system in which evaporation sources 3a and 3b are heated so that evaporation points are moved at a prescribed period inside a vacuum chamber A to evaporate evaporation materials, so that the evaporation materials are vapor-deposited on the substrate 8 rotated at a fixed revolving speed to deposit the thin film of the evaporation materials, the revolving speed of the substrate 8 is made changeable. - 特許庁

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置および成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source. - 特許庁

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置及び成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source. - 特許庁

樹脂薄膜を長時間安定して形成することができ、樹脂蒸発部におけるメンテナンスフリーを可能とする樹脂薄膜の蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition system for resin thin films, which system can form the resin thin films stably for a long period of time and permits the freedom from maintenance in a resin evaporation section. - 特許庁

抵抗加熱方式で高融点の薄膜形成材料を蒸発させる場合に、ボートから薄膜形成材料がこぼれるのを防止することが可能な真空成膜方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for vacuum depositing a film, by which the spillage of a thin film forming material from a boat can be prevented when the thin film forming material having a high melting point is allowed to evaporate by a resistance heating method. - 特許庁

垂直または水平蒸着方法を利用して薄膜を蒸着する際に、移動する蒸発源に形成された加熱部によりチャンバ内部に温度差が生じる現象を最小化することができる薄膜蒸着装置及びそれを用いた薄膜蒸着方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film deposition apparatus where, when a thin film is vapor-deposited using a vertical or horizontal vapor deposition method, a phenomenon that a temperature difference is caused at the inside of a chamber by a heating part formed at a moving evaporation source can be minimized, and to provide a thin film deposition method using the same. - 特許庁

染料溶液中又は顔料若しくは染料の分散液中に含まれている水及び／又は有機溶媒を薄膜蒸発装置を用いて蒸発除去するインクジェット記録用インクの製造法。例文帳に追加

This method for producing the ink for ink jet recordings, comprises evaporating water and/or an organic solvent contained in a dye solution or a pigment or dye dispersion by the use of a film evaporator. - 特許庁

本発明の薄膜形成装置は、真空槽２と、有機材料用の蒸発部３を有し、基板５と蒸発部３との間に成膜制御用シャッター７が設けられている。例文帳に追加

The thin film deposition apparatus comprises a vacuum tank 2 and an evaporation unit 3 for an organic material, and a shutter 7 for controlling the film deposition is provided between a substrate 5 and the evaporation unit 3. - 特許庁

本発明の薄膜形成装置は、真空槽２と、真空槽２内に配設された有機材料用の蒸発源３と、基板５と蒸発源３との間の空間を仕切る仕切り部７とを有する。例文帳に追加

The thin film-forming apparatus has a vacuum chamber 2, an evaporation source 3 for an organic material arranged in the vacuum chamber 2, and a partition part 7 for partitioning a space between the substrate 5 and the source 3. - 特許庁

ライン状の蒸発源を複数用い、複数の蒸発材料を混合して蒸着を行う際、膜厚方向において、蒸発材料の混合比が一定となる均質な薄膜を形成することができる真空蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum vapor deposition apparatus where, when vapor deposition is performed in such a manner that a plurality of vaporization materials are mixed using a plurality of linear-shaped vaporization sources, a homogeneous thin film in which the mixing ratio of the vaporization materials is made constant in the film thickness direction can be deposited. - 特許庁

ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum vapor deposition apparatus, in a line-shaped vaporization container, even if unevenness in temperature and the deviation of an evaporation material are present, which can improve the uniformity of the film thickness distribution of a thin film by vapor deposition even in a large-sized substrate even without reducing the utilizing efficiently of the evaporation material. - 特許庁

写真廃液を簡易に固形化して固形物として回収する低騒音の薄膜式蒸発濃縮装置、蒸発固化方法、及び蒸発固化物を用いて写真処理に再利用する写真廃液再利用システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a low-noise thin film evaporating concentrator which easily solidifies a photographic waste solution and recovers it as solid matter, an evaporating and solidifying method, and a reuse system of a photographic waste solution in which a photographic waste solution is reused in photographic processing through a material formed by evaporation and solidification. - 特許庁

この薄膜形成装置は、真空容器２と、蒸発物質６を発生させる蒸発源４と、中空部１２を有する基体１０をその中空部が蒸発源４に向く方向にそれぞれ保持する複数の基体保持具３４とを備えている。例文帳に追加

The thin film deposition system is provided with a vacuum vessel 2, an evaporation source 4 generating an evaporation material 6, and a plurality of substrate holders 34 each holding a substrate 10 having a hollow part 12 to a direction in which the hollow part orients toward the evaporation source 4. - 特許庁

基板２の外周に複数のマグネトロン蒸発源３が設けられ、マグネトロン蒸発源３より蒸発した金属原子又はイオンを、基板２に付着させて基板２に薄膜を形成するようにしたマグネトロンスパッタ装置において、隣合うマグネトロン蒸発源３の中間位置に、マグネトロン蒸発源３の外側磁極４の極性と相異なる極性を持った補助磁極９が配置されている。例文帳に追加

When plural magnetron evaporation sources 3 are arranged around a substrate 2 in a magnetron sputtering apparatus and metal atoms or ions evaporated from the magnetron evaporation sources 3 are deposited on the substrate 2 to form a thin film on the substrate 2, auxiliary magnetic poles 9 having polarities in inverse relation to those of the outer magnetic poles 4 of the magnetron evaporation sources 3 are disposed at the intermediate position between the adjacent magnetron evaporation sources 3. - 特許庁

基板の表面上に堆積した薄膜が再蒸発させられたり、気密チャンバの内面が損傷を受けたりすることを未然に防止でき、粒状堆積物密度の低い薄膜を形成することが可能なレーザ蒸着法による薄膜形成方法、及び、この薄膜形成方法で使用されるレーザ蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a thin film by a laser vapor deposition method capable of preventing the reevaporation of a thin film deposited on the surface of a substrate and the damage to the inside face of an airtight chamber and capable of forming a thin film low in granular deposit density, and to provide a laser vapor deposition device used in this thin film forming method. - 特許庁

本発明成膜制御装置は、窓部105を有する成膜装置100内で被覆材料を蒸発させて成膜対象200に薄膜を形成する際、窓部105を透過してきた被覆材料からの光を検出し、この検出光に基づいて蒸発量を調整する。例文帳に追加

The film deposition control device detects the light from a covering material transmitted through an aperture 105, and regulates the evaporation amount based on the detected light when forming a thin film on an object 200 for film deposition by evaporating the covering material within a film deposition apparatus 100 having the aperture 105. - 特許庁

蒸着装置５より蒸発した半導体分子ビームと、気体解離照射装置６より射出した原子ビームを、基板上に、同時に照射することによって多種類の半導体薄膜を作製する。例文帳に追加

The method for forming various kinds of semiconductor thin films includes irradiating the substrate simultaneously with a semiconductor molecule beam evaporated from the vapor deposition unit 5, and the atomic beam emitted from the gas dissociation irradiation unit 6. - 特許庁

成膜装置の真空槽１内において、薄膜形成材料を含む蒸発源装置２０と基材２との間に、切り欠き部を有するマスク６を配置する。例文帳に追加

In a deposition apparatus, a mask 6 having a notch is placed between an evaporation source unit 20 containing a thin film-forming material and a substrate 2 inside a vacuum tank 1. - 特許庁

薄膜形成材料を短時間で容易にかつ精度良く均一に投入することが可能な蒸発源装置およびこれを用いた成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide an evaporation source device in which a thin-film forming material can be easily, precisely, and uniformly charged in a short period of time, and a film forming device using the same. - 特許庁

カソード材料が低融点の材料からなる場合における薄膜の表面の荒れを防止することができるアーク蒸発源装置、その駆動方法、及びイオンプレーティング装置提供する。例文帳に追加

To provide an arc evaporation source device capable of preventing unevenness of a thin film surface when a cathode is formed of a material of low melting point, a driving method thereof, and an ion plating device. - 特許庁

ポリマーフィルム基材を巻き取る巻取装置を備え、その基材の下方に設置された蒸発源から金属チタンあるいは酸化チタンを蒸発させ、同時にラジカルビーム発生源及びイオンビーム発生源から酸素ラジカルおよび希ガスイオンを照射し、前記基材上で酸化チタン薄膜を形成することを特徴とする多孔性酸化チタン薄膜被覆フィルムの形成方法である。例文帳に追加

In the method for forming the film coated with porous titanium oxide thin film, a winding device for winding up the polymer film substrate is provided and titanium metal or titanium oxide is evaporated from an evaporation source arranged under the substrate and simultaneously the substrate is irradiated with an oxygen radial and a rare-gas ion from a radical beam generation source and an ion beam generation source to deposit the titanium oxide thin film onto the substrate. - 特許庁

例えば蒸着材料を蒸発させて透光性基板に薄膜を形成する蒸着装置に関するものであり、ルツボの加熱により蒸発した蒸着材料がルツボの開口部に滞留するのを抑制することが可能な蒸着材料収納容器を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition material storage vessel in which the staying of a vapor deposition material evaporated by the heating of a crucible in the opening part of the crucible can be suppressed, e.g., as for a vapor deposition system where the vapor deposition material is evaporated to deposit a thin film on a translucent substrate. - 特許庁

有機薄膜形成装置は、複数の有機材料を個別に充填する複数のルツボ１２を用意し、ルツボのいずれかを選択し、真空室１１内で有機材料を蒸発源２１の熱で蒸発させ、基板２０に蒸着して膜を形成し膜を積層して有機ＥＬ表示素子を作る。例文帳に追加

In this device, an organic EL display element is manufactured by preparing multiple crucibles 12 to be individually filled with multiple organic materials, by selecting any one of the crucibles 12, by vaporizing the organic material by the use of heat of a corresponding evaporation source 21 in a vacuum chamber 11 to deposit it on a substrate 20 so as to form each film and by laminating the films. - 特許庁

多層薄膜付き積層体の製造において、実質的に単独の蒸発源による１回の蒸着により長尺基材表面に多層の薄膜が形成可能であり、また特にディスプレイ前面電磁波シールドフィルムとして好適かつ生産性の高い、多層薄膜付き積層体の製造方法および製造装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a layered body provided with a multilayer thin film particularly suitable for an electromagnetic-wave shielding film in front surface of a display unit, which can form the multilayer thin film on the surface of a long substrate with great productivity through one vapor depositing operation with the use of a substantially single evaporation source, and to provide a manufacturing apparatus therefor. - 特許庁

アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。例文帳に追加

The thin film is formed by heating the vapor deposition material storage container at the temperature above the temperature at which the vapor deposition material is evaporated, applying the positive electric potential to the vapor deposition material storage container, and emitting the electrons emitted from the plasma gun to the vapor deposition material. - 特許庁

シール部材に重合物が固着することを防止することができ、長期にわたって安定した動作を確保することのできる、薄膜蒸発装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a thin film evaporation device capable of preventing a polymer from being fixed to a seal member and securing a stable operation over a long period of time. - 特許庁

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide an evaporation source which forms a highly precise pattern on a large or flexible deposition target without causing distortion of a mask, and a thin-film deposition system. - 特許庁

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide an evaporation source and a thin film formation device forming a highly precise pattern on a large-size film forming object or an easily deflecting film forming object without causing a problem of mask strain. - 特許庁