「銅酸塩」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

フィチン酸銅塩及び近赤外吸収剤の製造方法例文帳に追加

PROCESS FOR PRODUCING COPPER PHYTATE AND NEAR-INFRARED ABSORBING AGENT - 特許庁

例えば電解銅メッキ処理するときに銅メッキ浴に銅イオンの補給剤として供給される炭酸銅や酸化銅を製造するにあたり、原料となる塩化第二銅溶液の省量化を図ること。例文帳に追加

To save the amount of a cupric chloride solution to be used as a raw material for producing copper carbonate and copper oxide to be supplied as the replenisher of copper ions in a copper plating bath, for example, for electrolytic copper plating. - 特許庁

ニッケル及び銅の有機酸塩としては、蟻酸ニッケル、酢酸ニッケル、酢酸銅を使用することができる。例文帳に追加

As the organic acid salt of nickel or copper, nickel formate, nickel acetate, or copper acetate is usable. - 特許庁

フィチン酸に有機銅塩を作用させて、銅イオン（Ｃｕ^２＋）とフィチン酸とが２：１以上のモル比である塩を形成してフィチン酸銅塩を製造する。例文帳に追加

An organic copper salt is allowed to act on phytic acid to form a salt having a molar ratio of copper ions (Cu^2+) to phytic acid of 2:1 or higher, thus producing copper phytate. - 特許庁

アクリル酸又はメタクリル酸と、多環式アルコールとを、（A）強酸触媒、（B）次亜リン酸又はその塩、（C）金属銅、塩化第二銅、又は硫酸銅、（D）フェノール系重合禁止剤、の存在下に反応させる。例文帳に追加

This method for producing the polycyclic (meth)acrylate comprises reacting acrylic acid or methacrylic acid with a polycyclic alcohol in the presence of (A) a strong acid catalyst, (B) hypophosphorous acid or its salt, (C) metal copper, cupric chloride, or copper sulfate, and (D) a phenolic polymerization initiator. - 特許庁

また、前記2価の銅塩および前記還元剤のいずれか一つ以上に硫酸塩を用いる。例文帳に追加

A sulfate is used for either one or both of the divalent copper salt and the reducing agent. - 特許庁

金属銅と固体ヨウ素とを反応させてヨウ化銅を製造する方法であって、触媒として、塩酸、硫酸、リン酸若しくは無機強酸の塩を用いるヨウ化銅の製造法。例文帳に追加

The copper iodide is produced by reacting metal copper with solid iodine and as a catalyst a salt of hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid or an inorganic strong acid is used. - 特許庁

有機溶媒と、相間移動触媒と、ギ酸塩と、銅金属塩と、銅以外の金属塩とを、反応混合物中で混合して、銅：金属塩コロイド触媒を生成する工程を含むコロイド触媒の製造方法である。例文帳に追加

This is a method for producing a colloid catalyst including a process for generating an copper metal salt colloid catalyst by mixing an organic solvent, a phase transfer catalyst, a formate, a copper metal salt and a metal salt other than the copper in a reaction mixture. - 特許庁

エッチング排水と塩化銅含有濃厚エッチング廃液の混合液から銅を酸化銅として回収するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of recovering copper as copper oxide from a liquid mixture composed of waste water of etching and waste liquid of etching containing high contents of copper chloride. - 特許庁

銅などの不純物を含むコバルトを塩酸溶液に溶解し、塩酸濃度が０．１〜３ｋｍｏｌ／ｍ^３の塩化コバルト水溶液を作製する。例文帳に追加

Cobalt containing impurities such as copper is dissolved in a solution of hydrochloric acid to prepare an aqueous solution of cobalt chloride of (0.1 to 3) kmol/m3 hydrochloric acid concentration. - 特許庁

銅などの不純物を含む鉄を塩酸溶液に溶解し、塩酸濃度が０．１〜６ｋｍｏｌ／ｍ^3 の塩化鉄水溶液を作製する。例文帳に追加

Iron containing impurities such as copper is dissolved into a solution of hydrochloric acid to prepare an aqueous solution of iron chloride in which the concentration of hydrochloric acid is 0.1 to 6 kmol/m3. - 特許庁

こうして得られた塩化第二銅の水溶液の一部と炭酸イオンとを中和反応槽６内にて混合して炭酸銅を生成し、この炭酸銅を熱分解することにより酸化銅を得る。例文帳に追加

Part of thus obtained cupric chloride aqueous solution is mixed with carbonate ions in a neutralization reaction tank 6 to produce copper carbonate, which is pyrolytically decomposed to obtain copper oxide. - 特許庁

第１錫塩、銅塩、硫酸、界面活性剤及びピリジン類を含有する水溶液からなる錫−銅合金電気めっき液。例文帳に追加

The liquid for tin - copper alloy electroplating includes an aqueous solution containing the first stannic salt, copper salt, sulfuric acid, a surface active agent and pyridines. - 特許庁

亜酸化銅を、保護コロイドが存在し、かつ水溶性銅塩を添加した水中で還元剤と混合する銅粉の製造法、あるいは、保護コロイドが存在する水中で水溶性銅塩を還元してスラリーとし、このスラリー存在下で亜酸化銅を還元する銅粉の製造法を提供する。例文帳に追加

In the method for producing copper powder, cuprous oxide is mixed with a reducing agent in water where protective colloid is present and to which a water soluble copper salt is added, or, in the method for producing copper powder, a water soluble copper salt is reduced in water where a protective colloid is prevent, so as to be slurry, and cuprous oxide is reduced in the presence of the slurry. - 特許庁

可溶性銅塩及びベース酸を含有する電気銅メッキ浴において、ベース酸がグリコール酸、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸、グルコヘプトン酸よりなる群から選ばれたオキシカルボン酸又はその塩の少なくとも一種である電気銅メッキ浴である。例文帳に追加

In the electrolytic copper plating bath comprising a soluble copper salt and base acid, the base acid is at least one oxycarboxylic acid selected from the group consisting of glycolic acid, lactic acid, citric acid, malic acid, gluconic acid and glucoheptonic acid or their salts. - 特許庁

硫化銅鉱中の硫黄の酸化に過塩素酸などの酸化剤をを用いて、硫化銅鉱を過塩素酸を含む無機酸たとえば塩酸混合溶液により加熱焙焼して、硫黄を単体硫黄として固定し、焙焼生成物を水で浸出して銅及び／又は金を抽出する分離する。例文帳に追加

This method comprises employing an oxidant for oxidizing sulfur in the chalcocite, such as perchloric acid, heating and calcinating the chalcocite in an inorganic acid solution containing perchloric acid such as a mixture solution of hydrochloric acid, fixing sulfur as elemental sulfur, soaking the calcinated product in water, and extracting and separating copper and/or gold. - 特許庁

亜硫酸金塩を金イオン濃度として0.5〜10g/Lと、水溶性アミノカルボン酸化合物10〜150g/Lとを含有する銅素地用置換無電解金めっき液であって、亜硫酸金塩以外の亜硫酸塩を含まない銅素地用置換無電解金めっき液。例文帳に追加

The immersion gold plating solution for the copper base contains gold sulfite salt of 0.5-10 g/L as gold ion concentration, and aqueous amino-carboxylic compound 10-150 g/L, and does not contain any other sulfite salt than gold sulfite salt. - 特許庁

塩化銅と塩酸を主成分とする銅エッチング廃液に燐酸を加えて加熱することにより、塩酸を蒸発し、その蒸発蒸気を凝縮して塩酸を回収するものであり、濃度１５％以上の塩酸を回収することができる。例文帳に追加

This method comprises adding phosphoric acid to a copper etching waste liquid containing copper chloride and hydrochloric acid as the main components, heating it to evaporate hydrochloric acid, and recovering hydrochloric acid by condensing the evaporated vapor, whereby hydrochloric acid having a concentration of 15% or higher can be recovered. - 特許庁

ニッケル、コバルト又は銅の炭酸塩又は水酸化物の微細な球状の粒子の製造方法例文帳に追加

PRODUCTION OF FINE SPHERICAL PARTICLE OF CARBONATE OR HYDROXIDE OF NICKEL, COBALT OR COPPER - 特許庁

酸化銅（ＩＩ）を含んでいるアルミノリン酸塩ガラスおよび光フィルタリングのためのそれらの使用例文帳に追加

ALUMINOPHOSPHATE GLASS CONTAINING COPPER (II) OXIDE, AND USE THEREOF FOR OPTICAL FILTERING - 特許庁

また、フィチン酸に有機銅塩を作用させて、銅イオン（Ｃｕ^２＋）とフィチン酸とが２：１以上のモル比であるフィチン酸銅塩を形成して近赤外吸収剤を製造する。例文帳に追加

An organic copper salt is allowed to act on phytic acid to form the copper phytate having a molar ratio of copper ions (Cu^2+) to phytic acid of 2:1 or higher, thus producing the near-infrared absorbing agent. - 特許庁

産業廃棄物として処分されていた塩化銅含有エッチング廃液や電解銅箔メッキ浴の更新廃液などの銅含有酸性廃液を複雑な設備を要することなく処理し、銅含有酸性廃液から塩素含有率が低い酸化銅を回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method in which a copper-containing acid waste liquid such as a copper chloride-containing etching waste liquid and the renewal waste liquid of an electrolytic copper foil plating bath which have been disposed of as industrial waste is disposed of without requiring complicated equipment, and copper oxide having a low chlorine content is recovered from the copper-containing acid waste liquid. - 特許庁

本発明の放射性廃液の処理方法は、リン酸エステルを含む放射性廃液の処理方法であって、前記放射性廃液に、銅イオンを生成し得る銅塩または銅塩から生成した銅イオンを含む溶液と過酸化水素とを添加し、前記銅塩から生成した銅イオンの存在下、２０〜６０℃の温度範囲で、前記リン酸エステルを酸化分解する酸化分解処理工程を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The processing method for the radioactive waste liquid containing phosphate ester includes an oxidative decomposition processing process of adding a solution containing copper salt capable of producing copper ions or copper ions produced from copper salt and hydrogen peroxide to the radioactive waste liquid, and oxidatively decomposing the phosphate ester within a temperature range of 20-60°C in the presence of the copper ions produced from the copper salt. - 特許庁

クエン酸塩、エチレンジアミン、硫酸銅、硫酸第１鉄及び塩化ナトリウムを含有するめっき液組成物。例文帳に追加

The plating solution composition contains citrate, ethylenediamine, copper sulfate, ferrous sulfate and sodium chloride. - 特許庁

銅塩と、亜鉛塩と、ピロりん酸アルカリ金属塩と、アミノ酸またはその塩から選ばれた少なくとも一種と、ポリエーテルとを含有する銅−亜鉛合金電気めっき浴である。例文帳に追加

The copper-zinc alloy electroplating bath comprises: a copper salt; a zinc salt; an alkali metal pyrophosphate salt; at least one selected from amino acid and the salt thereof; and polyether. - 特許庁

前記酸化剤は、塩基性硝酸マグネシウム単独であるか、又は塩基性硝酸マグネシウムと、塩基性硝酸銅、塩基性硝酸コバルト、塩基性硝酸亜鉛、塩基性硝酸マンガンから選ばれる１又は２以上との組み合わせからなるものを用いることができる。例文帳に追加

As the oxidizer, basic magnesium nitrate alone or a combination of basic magnesium nitrate and one or more selected from basic copper nitrate, basic cobalt nitrate, basic zinc nitrate and basic manganese nitrate can be used. - 特許庁

ジアルキルジチオカルバミン酸銅塩溶液中の硫酸銅含量を１００ｐｐｍ（質量）以下にして供給する。例文帳に追加

The method of inhibiting polymerization of (meth)acrylic acid or the like using a copper dialkyldithiocarbamate solution is characterized in that the content of copper sulfate in the copper dialkyldithiocarbamate solution being supplied is kept to a content not greater than 100 mass ppm. - 特許庁

硫酸酸性銅めっき液の電気分解による電解銅箔の製造方法において、ポリエチレングリコールと塩素と３−メルカプト−１−スルホン酸とを含有することを特徴とする硫酸酸性銅めっき液を用いる。例文帳に追加

In a method for manufacturing the electrolytic copper foil by the electrolysis of sulfuric acid copper plating solution, the sulfuric acid copper plating solution contains polyethylene glycol, chlorine and 3-mercapto-1-sulphonic acid. - 特許庁

建浴組成として、硝酸、硫酸、硫酸銅塩、水酸化ナトリウム及び過酸化水素を含有する銅または銅合金の組織観察用エッチング液とする。例文帳に追加

The etching solution for structure observation of copper or the copper alloy contains nitric acid, sulfuric acid, a copper sulfate salt, sodium hydroxide, and hydrogen peroxide as an initial composition for injecting into a bath. - 特許庁

銅塩水溶液に水酸化アルカリおよび還元糖を混合することにより亜酸化銅を生成させ、該亜酸化銅をヒドラジン系還元剤で還元することにより金属銅を得る銅粉末の製造方法において、前記銅塩水溶液に水溶性銀塩を予め溶解させた後、前記水酸化アルカリおよび前記還元糖を混合することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for producing copper powder where a copper salt aqueous solution is mixed with alkali hydroxide and reducing sugar, thereby producing cuprous oxide, and the cuprous oxide is reduced with a hydrazine based reducing agent, hereby obtaining metal copper, a water soluble silver salt is beforehand dissolved into the copper salt aqueous solution, and thereafter, the alkali hydroxide and the reducing sugar are mixed. - 特許庁

無機銅化合物５は、アルカリ系の塩基性塩化銅あるいは塩基性硫酸銅として構成し、その混合量は、食品容器１の製造原料に対して少なくとも０．５重量％程度とする。例文帳に追加

The inorganic copper compound 5 is of alkaline basic copper chloride or basic copper sulfate and its mixing amount is at least about 0.5 wt.% or so in respect to the manufacturing raw material of the food container 1. - 特許庁

半導体装置に集積回路の配線を形成する銅電気めっき液において、銅塩、銅塩と同一のアニオンを有する無機酸、窒素と硫黄を含む化合物、酸素を含有するポリマー及び／又は少量の塩素イオンを含有することを特徴とする銅電気めっき液組成物である。例文帳に追加

The copper electroplating liquid composition for forming the wiring of the integrated circuits in semiconductor devices contains a copper salt, an inorganic acid having the same anion as that of the copper salt, a compound containing nitrogen and sulfur, a polymer containing oxygen and/or a small amount of chlorine ions. - 特許庁

銅張積層板をエッチングする際に生ずる劣化銅エッチング液等の銅の塩素化合物及び酸化物を含有する含水不純銅粉から高純度の銅を製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a process for producing highly pure copper from a hydrous impure copper powder containing chlorine compounds and oxides of copper, such as deteriorated copper etchant generated upon etching a copper-clad laminate. - 特許庁

１価銅イオンと２価銅イオンおよび塩酸を含むエッチング液であって、１価銅イオンが全銅イオンに対しモル分率で０.１以上、かつ、１価銅イオンの飽和濃度以下であることを特徴とするエッチング液。例文帳に追加

The etchant includes monovalent copper ions, divalent copper ions, and hydrochloric acid, wherein the mole fraction of the monovalent copper ions to the total copper ions is 0.1 or more, and the monovalent copper ions have the saturated concentration thereof or lower. - 特許庁

銅張積層板をエッチングする際に生ずる劣化銅エッチング液等から回収した銅の塩素化合物及び酸化物を含有する含水不純銅粉から高純度の銅を製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing high purity copper from water-bearing impure copper powder containing copper chloride and oxide recovered from a deteriorated copper etching solution etc. generated when a copper-clad laminate is subjected to etching. - 特許庁

酸化第一銅、硫化第一銅、ヨウ化第一銅、又は塩化第一銅などの一価銅化合物を有効成分として含み、微生物の短時間不活化に用いるための微生物不活化剤。例文帳に追加

There is provided the microorganism-inactivating agent used for the inactivation of the microorganisms in a short time, containing a monovalent copper compound such as cuprous oxide, cuprous sulfide, cuprous iodide, or cuprous chloride as an active ingredient. - 特許庁

電子材料向けの銅粉の原料に最適な構造を有する塩基性炭酸銅の製造方法、及び当該方法によって製造される塩基性炭酸銅を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing basic copper carbonate having the structure optimum for a raw material of copper powder for electronic materials and the basic copper carbonate to be produced by this production method. - 特許庁

また塩化第二銅水溶液の代わりに硫酸第二銅水溶液を用いる場合も同様の反応条件で製造し、Ｓ０4濃度が２００ｐｐｍ以下である塩基性炭酸銅を得る。例文帳に追加

Further, even in the case an aqueous solution of copper sulfate is used instead of an aqueous solution of cupric chloride, the production is performed under the similar reaction conditions to obtain basic copper carbonate in which the concentration of SO4 is ≤200 ppm. - 特許庁

硫酸酸性銅めっき液の電気分解による電解銅箔の製造方法において、ジアリルジアルキルアンモニウム塩と二酸化硫黄との共重合体と、ポリエチレングリコールと塩素と３−メルカプト−１−スルホン酸とを含有することを特徴とする硫酸酸性銅めっき液を用いる。例文帳に追加

In the method of producing electrolytic copper foil by electrolysis of an aqueous acidic copper plating solution containing sulfuric acid, the aqueous acidic copper plating solution containing sulfuric acid comprises a copolymer of a diallyl dialkyl ammonium salt and sulfur dioxide, polyethylene glycol and 3-mercapto-1-sulfonic acid. - 特許庁

所定濃度のアンモニア水溶液に、塩化鉄エッチング廃液から取出された銅を浸漬して、銅アンモニア錯体液を生成し、その後、銅アンモニア錯体液に酸素を作用させて、酸化銅を生成させる。例文帳に追加

Copper taken out from an iron chloride etching waste liquid is dipped into an ammonia aqueous solution with a prescribed concentration to produce a copper-ammonia complex liquid, and thereafter, oxygen is acted on the copper-ammonia complex liquid to produce copper oxide. - 特許庁

硫酸リボフラビン、及び、銅クロロフィリン塩を主剤とする体臭抑制ドリンク剤、または、硫酸リボフラビン、アスコルビン酸ナトリウム、及び、銅クロロフィリン塩を主剤とする体臭抑制ドリンク剤、または、硫酸リボフラビン、塩酸ピリドキシン、硫酸チアミン、アスコルビン酸ナトリウム、銅クロロフィリン塩、コンドロイチン硫酸、及び、タウリンを主剤とする体臭抑制ドリンク剤例文帳に追加

This drink preparation for suppressing the body smell consists essentially of riboflavin sulfate and a copper chlorophyllin salt or the drink preparation for suppressing the body smell consists essentially of the riboflavin sulfate, sodium ascorbate and the copper chlorophyllin salt or the drink preparation for suppressing the body smell consists essentially of the riboflavin sulfate, pyridoxine hydrochloride, thiamine sulfate, the sodium ascorbate, the copper chlorophyllin salt, chondroitin sulfate and taurine. - 特許庁

塩基性炭酸銅又は塩基性炭酸ニッケルを水に分散させ、苛性アルカリを添加して反応させることを特徴とする水酸化第二銅又は水酸化ニッケルの製造方法。例文帳に追加

This cupric hydroxide or nickel hydroxide is prepared by dispersing a basic cupric carbonate or a basic nickel carbonate in water, then reacting with an added caustic alkali. - 特許庁

有機カルボン酸銅塩とジカルボン酸とより構成されたチョ−キング防止剤を塩化ビニル樹脂に添加する。例文帳に追加

A chalking preventive formed from a dicarboxylic acid and a copper salt of an organic carboxylic acid is added to a vinyl chloride resin. - 特許庁

銅塩と、亜鉛塩と、ピロりん酸アルカリ金属塩と、アミノ酸またはその塩から選ばれた少なくとも一種と、を含有する銅−亜鉛合金電気めっき浴において、浴中に含まれる銅イオンおよび亜鉛イオンの総容量モル濃度Ｍに対する、アミノ酸またはその塩の容量モル濃度Ａの比（Ａ／Ｍ）が、５％以下である銅−亜鉛合金電気めっき浴である。例文帳に追加

The copper-zinc alloy electroplating bath contains copper salt, zinc salt, alkali metal pyrophosphate and at least one selected from amino acids and the salts thereof and has ≤5% volumetric molar concentration ratio (A/M) (wherein A is the volumetric molar concentration of the amino acid or the salt thereof; and M is the total volumetric molar concentration of the copper ions and zinc ions contained in the copper-zinc alloy electroplating bath). - 特許庁

錫／銅合金の電気めっき用水溶液であって、酸として有機スルホン酸、金属塩として有機スルホン酸の２価錫塩と２価銅塩、更に、分散剤及び光沢剤を添加してなるシアン化合物を含まない錫／銅合金電気めっき浴。例文帳に追加

This tin/copper alloy electroplating bath free from cyanide compounds is composed of an aqueous solution for electroplating of tin/tinalloys and is obtained by adding organic sulfonic acid as acid, the bivalent tin salt and bivalent copper salt of organic sulfonic acid as metallic salt and, moreover, a dispersant and a brightener. - 特許庁